导电结构体及其制造方法技术

本说明书涉及一种导电结构体及其制造方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】导电结构体及其制造方法
本申请要求于2015年6月3日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0078785的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用并入本申请中。本申请涉及一种导电结构体及其制造方法。
技术介绍
通常，触摸面板可以根据信号的检测方法如下分类。换言之，检测方法包括在施加直流(DC)电压时通过电流或电压的变化来感测被压力按压的位置的电阻型；在施加交流(AC)电压时利用电容耦合的电容型；在施加磁场时通过电压的变化感测选定位置的电磁型，等等。虽然商业触摸屏面板基于ITO薄膜来使用，但是当应用大面积触摸屏面板时，由于ITO透明电极本身的薄层电阻，触摸识别速度变慢。因此，作为代替透明ITO薄膜的技术，提出被用作触摸屏面板的电极的金属网。然而，在金属网的情况下，必须努力改善图案由于高反射率而被人眼可见的可视性方面的问题，以及由于对外部光的高反射率而发生眩光的问题。
技术实现思路
技术问题本说明书待实现的一个目的是提供一种可应用于大面积触摸屏面板的导电结构体及其制造方法，所述导电结构体能够保持优异的可视性，并且由于衬垫部(padpart)的低连接电阻而具有优异的产品可靠性。技术方案本说明书的一个实施方案提供一种导电结构体，包括：基板；以及设置在所述基板上的构成屏幕部、接线部和衬垫部的导线，其中，所述导线包括第一金属层、设置在该第一金属层上的减光反射层以及设置在该减光反射层上的第二金属层，所述减光反射层包含金属氮氧化物，所述第二金属层的厚度为10nm以下。本说明书的一个实施方案提供一种所述导电结构体的制造方法，包括：制备基板；在所述基板上形成第一金属层；在所述第一金属层上形成减光反射层；在所述减光反射层上形成第二金属层；图案化，通过使所述第一金属层、所述减光反射层和所述第二金属层图案化来形成构成屏幕部、接线部和衬垫部的导线。本说明书的一个实施方案提供一种包括所述导电结构体的显示装置。本说明书的一个实施方案提供一种包括所述导电结构体的触摸面板。有益效果根据本说明书的一个实施方案的导电结构体具有保持优异的电导率并且有效地防止金属层的眩光作用的优点。根据本说明书的实施方案的导电结构体的优点在于优异的可视性、优异的化学耐久性和物理耐久性。当应用于诸如显示装置的电子元件时，根据本说明书的实施方案的导电结构体可以使由工艺环境引起的导电结构体的电导率的降低最小化。根据本说明书的实施方案的导电结构体可以实现构成屏幕部的导线的细的线宽，从而提高可视性。根据本说明书的实施方案的导电结构体可以显著降低柔性印刷电路板(FPCB)与导线的连接电阻。附图说明图1示出了根据本说明书的一个实施方案的导电结构体中的导线的构造结构；图2示出了根据本说明书的实施方案的导电结构体中构成屏幕部的导线的层压结构；图3示出了根据实施例和比较例的导电结构体的光反射率。<附图标记>100：基板200：第一金属层310：减光反射层320：第二金属层410：构成屏幕部的导线420：构成接线部的导线430：构成衬垫部的导线具体实施方式在本说明书中，应当理解的是，当一个部件被称为在另一部件“之上”时，它可以直接在另一部件之上，或者也可以存在中间部件。在整个说明书中，除非另外明确描述，否则词语“包括”应当理解为表示包括所述的要素，但是不排除任何其它要素。本说明书的“电导率(conductivity)”指电导率(electricalconductivity)。另外，在本说明书中，“反射率”指光反射率，“折射率”指光折射率，“吸收率”指光吸收率。本专利技术人发现如下问题，当形成减光反射层代替ITO薄膜以防止金属网的眩光现象时，减光反射层设置在构成与柔性印刷电路板(FPCB)连接的衬垫部的导线上，结果，与FPCB的接触电阻增加，进一步地，引起衬垫部在高温和高湿环境下的性能的劣化。因此，本专利技术人开发了一种根据本说明书的一个实施方案的导电结构体。具体地，根据本说明书的实施方案的导电结构体通过降低构成衬垫部的导线的连接电阻并且降低构成屏幕部的导线的眩光作用，可以改善衬垫部的性能并且使衬垫部的缺陷最小化。下文中，将更详细地描述本说明书。本说明书的一个实施方案提供一种导电结构体，包括：基板；以及设置在所述基板上的构成屏幕部、接线部和衬垫部的导线，其中，所述导线包括第一金属层、设置在该第一金属层上的减光反射层和设置在该减光反射层上的第二金属层，所述减光反射层含有金属氮氧化物，所述第二金属层的厚度为10nm以下。根据本说明书的实施方案，第二金属层的厚度可以小于10nm。具体地，根据本说明书的实施方案，第二金属层的厚度可以为8nm以下或为6nm以下。在根据本说明书的实施方案的导电结构体中，减光反射层用于降低第一金属层的眩光作用。具体地，由于减光反射层包含具有高元素含量的氮原子的金属氮氧化物从而具有光反射率显著低的特点，因此，可以抑制由设置在减光反射层下面的金属层引起的眩光作用。根据本说明书的实施方案，减光反射层的金属氮氧化物可以是来源于Al、Cu、Co、Ag、Mo、Ti、Ni、Mn和Cr中的至少一种金属的氮氧化物。更具体地，减光反射层的金属氮氧化物可以是氮氧化铝。然而，在减光反射层的情况下，会存在由于低电导率因而衬垫部的连接电阻较高的问题。为了改善该问题，在根据本说明书的一个实施方案的导电层压体中，在减光反射层上设置厚度为10nm以下的第二金属层，来降低衬垫部的连接电阻。具体地，由于第二金属层具有电导率高的特点，因此，该特点会有助于降低衬垫部的连接电阻。此外，由于第二金属层被设置为10nm以下的薄膜以使由金属特性引起的光反射率最小化，并且第二金属层具有比常规金属层更高的透光率，因此，下面的减光反射层的暗色不被阻挡。结果，导线使由第二金属引起的光反射最小化，从而使屏幕部中的眩光作用最小化。根据本说明书的实施方案，减光反射层可以包含氮氧化铝，在该氮氧化铝中，下面的式1的值可以满足1以上且2以下。[式1]在式1中，Nat％表示相对于氮氧化铝的氮原子的元素含量，Alat％表示相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，Oat％表示相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量。当式1的值大于1时，吸收系数增加以形成可以充分防止下面的金属层的眩光作用的减光反射层。此外，当式1中得到的值大于2时，Al的含量进一步增加以形成金属层，由此，难以防止下面的金属层的眩光作用。制备的层中包含的元素含量可以通过X射线光电子能谱(XPS)来测量。这是一种可以通过测量通过将X射线输入至样品表面而发射的光电子的能量，来发现样品的组成和化学结合状态的测量方法。根据本说明书的实施方案，减光反射层的厚度可以为10nm以上且为100nm以下。具体地，根据本说明书的实施方案，减光反射层的厚度可以为20nm以上且为60nm以下。更具体地，根据本说明书的实施方案，减光反射层的厚度可以为30nm以上且为60nm以下。当减光反射层的厚度小于10nm时，存在第一金属层的较高的光反射率不能被充分降低的问题。此外，当减光反射层的厚度大于100nm时，会存在难以使减光反射层图案化的问题。根据本说明书的实施方案，第二金属层可以包含Al、Cu、Co、Ag、Mo、Ti、Ni、Mn和Cr中的至少一种金属。具体地，根据本说本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电结构体，包括：基板；以及设置在所述基板上的构成屏幕部、接线部和衬垫部的导线，其中，所述导线包括第一金属层、设置在该第一金属层上的减光反射层和设置在该减光反射层上的第二金属层，其中，所述减光反射层包含金属氮氧化物，其中，所述第二金属层的厚度为10nm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.03 KR 10-2015-00787851.一种导电结构体，包括：基板；以及设置在所述基板上的构成屏幕部、接线部和衬垫部的导线，其中，所述导线包括第一金属层、设置在该第一金属层上的减光反射层和设置在该减光反射层上的第二金属层，其中，所述减光反射层包含金属氮氧化物，其中，所述第二金属层的厚度为10nm以下。2.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述金属氮氧化物是氮氧化铝。3.根据权利要求2所述的导电结构体，其中，在所述氮氧化铝中，下面的式1的值满足1以上且2以下:[式1]在式1中，Nat％表示相对于所述氮氧化铝的氮原子的元素含量，Alat％表示相对于所述氮氧化铝的铝原子的元素含量，Oat％表示相对于所述氮氧化铝的氧原子的元素含量。4.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述第二金属层包含Al、Cu、Co、Ag、Mo、Ti、Ni、Mn和Cr中的至少一种金属。5.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述第二金属层在550nm的波长下的光反射率为40％以下。6.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述导线的光反射率为40％以下。7.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述第二金属层的电阻率为10-6Ωcm以上且为10-4Ωcm以下。8.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李一翻，金起焕，章盛皓，朴镇宇，朴赞亨，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR