染色装置及样本处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种染色装置，其特征在于，包括：缸体，缸体具有可容纳液体的腔体，腔体中具有将腔体分成第一腔体和第二腔体的第一分隔部；缸体的侧壁具有使第一腔体和第二腔体内液体形成液位高度差的第一液位限制单元和第二液位限制单元。第一内腔体和第二内腔体中的液体形成液位高度差，保障在染色过程中，第二内腔体中的液体能完全覆盖经第一腔体的液体覆盖玻片的区域及液体在玻片上扩散后的区域，保持扩散区域的湿润性，避免产生染液渍，便于清洗，保障染色后玻片的成片质量，利于操作人员对染色后的玻片进行观察分析。

【技术实现步骤摘要】
染色装置及样本处理装置
本技术涉及体外诊断
，更具体地说，涉及一种样本处理系统的染色装置。
技术介绍
目前在医院的病理科或各类研究所或生物医药公司均需要对脱落细胞(如宫颈筛查)或生物组织(如动物或人体的局部组织)或血液进行制片染色后，医生通过对组织内的细胞核与细胞质的变异情况进行显微镜观察后才能对各类病症进行精确的诊断，例如判断如是否有炎症、是良性肿瘤还是恶性肿瘤等。现在进行玻片染色时，主要有三种方法：一是滴染法，滴染法是染色液自然滴落玻片进行染色，具有染色不均匀、染液消耗量大、染片一致性差的缺点。二是喷染法，喷染法是将染色液雾化将染液喷出至玻片上，采用喷染法则产生易堵喷头的问题，且对仪器的密封性和对泵压力要求高。三是浸染法，即将载玻片浸泡在染液中进行染色，其存在易在玻片上形成染液渍的缺点。目前全自动样本处理装置中多采用浸染的方式对玻片进行染色，且多为吊篮式染缸染色，在染色过程中，玻片垂直放置在玻片架中，玻片架依次浸入多个存放不同染液的染缸中，染色完成后再将玻片架浸入清洗缸中对玻片架中的玻片进行清洗。由于在实际操作过程中可能存在染色时玻片架上的玻片数量不定的情况，因此即使玻片架上仅存在一张玻片的情况下，染缸中染液的量仍能满足将玻片浸泡到适宜的高度，所以每次染色前，染缸中的染液的量均为最大量。所以当玻片架上布满玻片时，染缸中的染液存在溢出至其他染缸，污染其他染缸中的染液的风险。并且由于目前采用的染液均能润湿玻片，因此玻片在染色的过程中由于浸泡在染液中，会产出毛细现象，染液会在玻片上向上扩散，当玻片架完成在一个染缸中完成染色移动至下一个染缸后，若下一个染缸中的染色不能浸泡到前一个染缸中玻片上染液扩散后的高度，则会形成染液渍，形成染液渍后即使在清洗缸中也不容易将染液渍清洗掉，因此会影响整个玻片的成片质量，不利于操作人员观察玻片情况。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的目的是提供一种避免因染液扩散而产生染液渍的染色装置，同时该染色装置也能避免因染液溢出而污染其他染缸中的染液。为了达到上述目的，本技术提供如下技术方案：一种染色装置，其特征在于，包括：缸体，所述缸体具有可容纳液体的腔体，所述腔体中具有将腔体分成第一腔体和第二腔体的第一分隔部；所述缸体的侧壁具有使所述第一腔体和第二腔体内液体形成液位高度差的第一液位限制单元和第二液位限制单元。优选的，所述第一液位限制单元包括供液体流出的第一通道；所述第二液位限制单元包括供液体流出的第二通道。优选的，所述第二通道与所述缸体的底壁在垂直方向上的距离大于所述第一通道与所述缸体的底壁在垂直方向上的距离。优选的，所述第一液位限制单元还包括第一液位探测单元；所述第二液位限制单元包括第二液位探测单元。优选的，所述缸体外设置有用于收集通过所述第一通道、所述第二通道流出的液体的废液收集单元。优选的，所述腔体中还具有将第二腔体分隔成第三腔体的第二分隔部，所述缸体侧壁还具有使第三腔体内的液体与所述第一腔体或所述第二腔体内的液体形成液位高度差的第三液位限制单元。优选的，所述第三液位限制单元包括供液体流出的第三通道和第三液位探测单元，所述第三通道与所述缸体的底壁在垂直方向上的距离大于所述第二通道与所述缸体的底壁在垂直方向上的距离。优选的，所述第一腔体、所述第二腔体和所述第三腔体并列排布，且所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道位于所述缸体同一侧壁。优选的，设置于排布了所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道的所述缸体侧壁外的所述废液收集单元还用于收集通过所述第三通道流出的液体。一种样本处理装置，包括上述的染色装置。本技术在染色装置的缸体的侧壁上设置了与第一腔体和第二腔体相对应的第一液位限制单元和第二液位限制单元，通过第一液位限制单元中的供液体流出的第一通道和第二液位限制单元中的供液体流出的第二通道，使第一腔体和第二腔体中的液体形成液位差，保障在染色过程中，第二内腔体中的液体能完全覆盖经第一腔体的液体覆盖玻片的区域及液体在玻片上扩散后的区域，保持扩散区域的湿润性，避免产生染液渍，便于清洗，保障染色后玻片的成片质量，利于操作人员对染色后的玻片进行观察分析。同时当第一内腔体和第二内腔体内的液体液面高度达到第一通道和第二通道的高度时，液体可通过第一通道和第二通道流出，避免液体通过缸体的其它侧壁和/或分隔部溢出，形成液体的交叉污染和/或染色装置的污染。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为染色装置的一种实施方式的立体结构示意图；图2为染色装置俯视结构示意图；图3为第一腔体竖直剖面结构示意图；图4为第二腔体竖直剖面结构示意图；图5为第二腔体缓冲腔处第二染液注入口和第三染液注入口放大示意图；图6为与第一腔体相连的液路结构示意图；图7为样本处理装置中的染色装置、升降装置和水平运动装置位置关系示意图；图8为水平运动装置立体结构示意图；图9为样本处置装置立体结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本技术及其应用或使用的任何限制。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本技术的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。如图1-6所示，染色装置，包括：缸体2，缸体2具有可容纳液体的腔体，第一分隔部24和第二分隔部25共同将腔体分为第一腔体20，第二腔体21本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种染色装置，其特征在于，包括：缸体；所述缸体具有可容纳液体的腔体，所述腔体中具有将腔体分成第一腔体和第二腔体的第一分隔部；所述缸体的侧壁具有使所述第一腔体和所述第二腔体内液体形成液位高度差的第一液位限制单元和第二液位限制单元。

【技术特征摘要】
1.一种染色装置，其特征在于，包括：缸体；所述缸体具有可容纳液体的腔体，所述腔体中具有将腔体分成第一腔体和第二腔体的第一分隔部；所述缸体的侧壁具有使所述第一腔体和所述第二腔体内液体形成液位高度差的第一液位限制单元和第二液位限制单元。2.如权利要求1所述的染色装置，其特征在于：所述第一液位限制单元包括供液体流出的第一通道；所述第二液位限制单元包括供液体流出的第二通道。3.如权利要求2所述的染色装置，其特征在于：所述第二通道与所述缸体的底壁在垂直方向上的距离大于所述第一通道与所述缸体的底壁在垂直方向上的距离。4.如权利要求2所述的染色装置，其特征在于：所述第一液位限制单元还包括第一液位探测单元；所述第二液位限制单元包括第二液位探测单元。5.如权利要求2所述的染色装置，其特征在于：所述缸体外设置有用于收集通过所述第一通道、所述第二通道流出的液体的废液收集单元。6.如权利要求5所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张珥，殷运如，李浩，
申请(专利权)人：迈克医疗电子有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51