用于连续制造光学级抛光工具的方法技术

本发明专利技术涉及一种方法，该方法包括施加胶的步骤，该施加胶的步骤包括使用移印机(35)实施的步骤序列，在该步骤序列中，将转印垫(38A，39A)从胶获取位置驱动至施加位置，在该施加位置中该转印垫(38A，39A)的远侧表面(43)与所述工具的一个构件(12，13)的一个表面相接触；然后再次实施所述步骤序列至少一次，藉此将所述胶施加到一个构件(12，13)的所述一个表面上至少两次。

A method for continuous manufacturing of optical grade polishing tools

The invention relates to a method, the method includes the steps of applying glue, glue applying steps including the use of printing machine (35) sequence of steps of implementation, in the sequence of steps, the transfer pad (38A, 39A) to obtain location driven to apply position from glue, in the position in the printing pad (38A, 39A) of the far side of the surface (43) and a member of the tool (12, 13) of a contact surface; and then again carrying out the sequence of steps at least once, whereby the glue is applied to a component (12, 13) of the one on the surface at least two times.

【技术实现步骤摘要】
用于连续制造光学级抛光工具的方法
本专利技术涉及用于表面如眼科透镜、相机透镜或用于观察远处物体的仪器的透镜的面或者半导体基材的面的光学级表面加工。术语“表面加工”指针对于修改先前已成型的表面的状态的任何操作。这种操作包括针对于修改(降低或增加)表面的粗糙度和/或减小其不平整度的抛光、研磨或打毛操作。
技术介绍
已经尤其由日本专利申请2000-317797、对应于美国专利申请2005/0101235的法国专利申请2834662以及对应于美国专利申请2008/0171502的法国专利申请2900356得知一种用于对光学表面进行表面加工的工具，该工具包括：构造成联接至抛光机的基座、构造成被压靠在待加工的表面上的抛光垫和夹在基座与抛光垫之间的可弹性压缩的本体，该本体和基座互相附接，并且该本体和抛光垫互相附接。一般而言，基座形成或包括刚性支承件，并且抛光垫是柔性的。
技术实现思路
本专利技术针对于一种用于制造这种抛光工具的方法，该方法实施起来简单、方便并且经济，同时制造高品质的抛光工具。因此，本专利技术提供了一种用于连续制造光学级抛光工具的方法，所述抛光工具每个均包括构造成联接至抛光机的基座、构造成被压靠在待加工的表面上的抛光垫和附接至所述基座并且附接至所述抛光垫的可弹性压缩的本体，其中所述本体夹在所述基座与所述抛光垫之间；所述方法针对每个所述工具包括将所述本体附接至所述基座的步骤和将所述本体附接至所述抛光垫的步骤；其特征在于，所述将所述本体附接至所述基座的步骤和所述将所述本体附接至所述抛光垫的步骤中的至少一者包括施加胶的步骤并且然后包括挤压步骤，在该施加胶的步骤中将胶施加到一个构件的一个表面上，在该挤压步骤中将一个构件的所述一个表面和另一构件的一个表面彼此上下施加(贴附)，所述一个构件和所述另一构件为以下中的一者：所述基座和所述本体，所述本体和所述基座，所述本体和所述抛光垫，以及所述抛光垫和所述本体；所述方法还包括：-提供支承装置的步骤，所述支承装置包括构造成用于接纳所述一个构件的支承件；-提供移印机(padprintingmachine)的步骤，所述移印机具有储器、印版(cliché)和转印垫；以及-向所述储器填充液体胶的步骤；所述施加胶的步骤包括：-将所述一个构件放置入所述支承件中；-使用所述移印机实施以下步骤序列：将所述储器和印版相对于彼此从休止位置驱动至工作位置，在所述休止位置中所述储器在所述印版的被蚀刻区域上方，在所述工作位置中所述储器远离所述被蚀刻区域；然后将所述转印垫驱动至其中所述转印垫的远侧表面与所述印版的被蚀刻区域相接触的获取位置；然后将所述转印垫从所述获取位置驱动至其中所述转印垫的远侧表面与所述一个构件的所述一个表面相接触的施加位置；以及-然后再次实施所述步骤序列至少一次，藉此将所述胶施加到一个构件的所述一个表面上至少两次。在根据本专利技术的方法中，转印垫从印版的被蚀刻区域获取胶膜并且然后将刚刚获取的胶膜施加至所述一个构件(例如可弹性压缩的本体)的所述一个表面。然后实施同一步骤序列至少一次，从而将至少两张胶膜施加到所述一个构件的所述一个表面上。专利技术人实际上已发现，在实践中很有可能的是，转印垫在它于下一步骤序列结束时离开所述一个构件的所述一个表面时并未取出在一个步骤序列期间沉积的胶膜，这是因为，在实践中，转印垫在一个序列期间离开所述一个表面的时刻与转印垫在下一序列期间到达所述一个表面的时刻之间的时间足够长以使得在第一步骤沉积的胶膜能够充分干燥，从而具有足够高以防止转印垫吸收它的粘度。当随后实施挤压步骤时，将所述一个构件(例如可弹性压缩的本体)的所述一个表面和所述另一构件(例如抛光垫)的所述一个表面彼此上下施加，这将所述一个构件(例如可弹性压缩的本体)和所述另一构件(例如抛光垫)附接在一起，沉积在所述一个构件的所述一个表面上的胶形成附接所述一个构件和所述另一构件的胶层。通过由转印垫沉积的至少两个胶膜的组合来形成该胶层。尽管存在与胶量有关的要求矛盾的事实，但是通过由转印垫沉积的至少两个膜的组合来形成将所述一个构件和所述另一构件附接的胶层的事实一并实现了转印垫与印版的出色配合以及胶与待互相附接的一个构件和另一构件的出色配合：转印垫与印版的出色配合常常要求转印垫获取的胶量相对小；并且胶与待互相附接的一个构件和另一构件的出色配合常常要求在这些构件之间沉积比较大的胶量。在这方面应指出，在根据本专利技术的方法中，所述一个构件和所述另一个构件包括可弹性压缩的本体，该本体常常需要比较大的胶量，这是因为它经常是容易吸收放置在其表面上的液体的泡沫。在其它方面，在根据本专利技术的方法中，移印机用于沉积胶膜的事实使得能实现对胶厚度的出色控制以及因此关于所制造的工具的品质和就可再现性而言的出色性能，同时移印机实施和使用起来相对简单、方便和经济。根据有利的特征：-所述胶是聚氨酯胶，所述步骤序列连续地(相继地)实施三次；-所述胶是氯丁橡胶，所述步骤序列连续地实施四次；-施加到一个构件的所述一个表面上的所述胶在转印垫离开所述施加位置的每个时刻与转印垫到达所述施加位置的相继时刻之间暴露于空气一段时间，该段时间在2至4秒的范围内；-沿相同方向将所述转印垫驱动至所述获取位置和所述施加位置；-沿所述相同方向在所述获取位置使所述被蚀刻区域和所述支承件对齐；-所述支承装置包括构造成用于接纳所述另一构件的另一支承件；-所述支承装置还包括构造成用于接纳所述工具的其余构件的再另一支承件，所述其余构件是所述基座、所述可弹性压缩的本体和所述抛光垫之中的不是所述一个构件且不是所述另一构件的一者；-所述支承装置还包括构造成用于接纳又一构件和再又一构件的又一支承件和再又一支承件，所述又一构件和所述再又一构件是与利用所述一个构件和所述另一构件制造的工具不同的待制造工具的构件；和/或-所述支承装置还包括再另一支承件、又一支承件、再又一支承件和再又另一支承件；所述再另一支承件构造成用于接纳所述工具的其余构件，所述其余构件是所述基座、所述可弹性压缩的本体和所述抛光垫之中不是所述一个构件且不是所述另一构件的一者；所述又一支承件、再又一支承件和再又另一支承件构造成用于接纳又一构件、再又一构件和再又另一构件；所述又一构件、再又一构件和再又另一构件是与使用所述一个构件、所述另一构件和所述再另一构件制造的工具不同的待制造工具的构件。附图说明现在通过在下文中经由非限制性的说明并且参考附图给出的优选实施例的详细描述来继续本专利技术的描述。在附图中：-图1是常规抛光工具的示意性分解图；-图2是根据本专利技术的这些工具的连续制造中涉及的托盘的示意性俯视图；-图3是用以对放置在图2所示的托盘中的构件施加胶的移印机的示意性侧视图，所述机器处于待机状态；-图4是图3所示的机器的转印垫组件的仰视图；-图5是类似于图3的视图，但其中机器的印版和储器处于工作位置而不是处于休止位置；-图6是处于工作位置的储器和印版的俯视图；-图7是类似于图5的视图，但其中转印垫处于胶获取位置；-图8是类似于图3的视图，但其中转印垫处于胶施加位置；-图9是图2所示的托盘的侧视图，其中工具的构件如图3、5、7和8中所示放置在支承件中但更详细；以及-图10至15是类似于图9的视图，示出了组装工具的两个构件的连续步骤。具体实施方式图1所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于连续制造光学级抛光工具(10)的方法，每个抛光工具均包括构造成联接到抛光机的基座(11)、构造成被压靠在待加工的表面上的抛光垫(13)和附接至所述基座(11)并且附接至所述抛光垫(13)的可弹性压缩的本体(12)，其中所述本体(12)夹在所述基座(11)与所述抛光垫(13)之间；所述方法针对每个所述工具(10)包括将所述本体(12)附接至所述基座(11)的步骤和将所述本体(12)附接至所述抛光垫(13)的步骤；所述方法的特征在于，所述将所述本体(12)附接至所述基座(11)的步骤和所述将所述本体(12)附接至所述抛光垫(13)的步骤中的至少一者包括施加胶的步骤并且然后包括挤压步骤，在该施加胶的步骤中将胶施加到一个构件的一个表面上，在该挤压步骤中将一个构件的所述一个表面和另一构件的一个表面彼此上下施加，所述一个构件和所述另一构件为以下中的一者：所述基座(11)和所述本体(12)，所述本体(12)和所述基座(11)，所述本体(12)和所述抛光垫(13)，以及所述抛光垫(13)和所述本体(12)；所述方法还包括：‑提供支承装置(20)的步骤，所述支承装置包括构造成用于接纳所述一个构件的支承件(23A‑23D，22A‑22D)；‑提供移印机(35)的步骤，所述移印机具有储器(36)、印版(37)和转印垫(38A，39A，38B，39B)；以及‑向所述储器(36)填充液体胶(40)的步骤；所述施加胶的步骤包括：‑将所述一个构件放置入所述支承件(23A‑23D，22A‑22D)中；‑使用所述移印机(35)实施以下步骤序列：将所述储器(36)和印版(37)相对于彼此从休止位置驱动至工作位置，在所述休止位置所述储器(36)在所述印版的被蚀刻区域(42A，43A，42B，43B)上方，在所述工作位置所述储器(36)远离所述被蚀刻区域(42A，43A，42B，43B)；然后将所述转印垫(38A，39A，38B，39B)驱动至其中该转印垫的远侧表面(43)与所述印版的被蚀刻区域相接触的获取位置；然后将所述转印垫从所述获取位置驱动至其中所述转印垫的远侧表面(43)与所述一个构件的所述一个表面相接触的施加位置；以及‑然后再次实施所述步骤序列至少一次，藉此至少两次将所述胶施加到一个构件的所述一个表面上。...

【技术特征摘要】
2016.07.21 EP 16305939.71.一种用于连续制造光学级抛光工具(10)的方法，每个抛光工具均包括构造成联接到抛光机的基座(11)、构造成被压靠在待加工的表面上的抛光垫(13)和附接至所述基座(11)并且附接至所述抛光垫(13)的可弹性压缩的本体(12)，其中所述本体(12)夹在所述基座(11)与所述抛光垫(13)之间；所述方法针对每个所述工具(10)包括将所述本体(12)附接至所述基座(11)的步骤和将所述本体(12)附接至所述抛光垫(13)的步骤；所述方法的特征在于，所述将所述本体(12)附接至所述基座(11)的步骤和所述将所述本体(12)附接至所述抛光垫(13)的步骤中的至少一者包括施加胶的步骤并且然后包括挤压步骤，在该施加胶的步骤中将胶施加到一个构件的一个表面上，在该挤压步骤中将一个构件的所述一个表面和另一构件的一个表面彼此上下施加，所述一个构件和所述另一构件为以下中的一者：所述基座(11)和所述本体(12)，所述本体(12)和所述基座(11)，所述本体(12)和所述抛光垫(13)，以及所述抛光垫(13)和所述本体(12)；所述方法还包括：-提供支承装置(20)的步骤，所述支承装置包括构造成用于接纳所述一个构件的支承件(23A-23D，22A-22D)；-提供移印机(35)的步骤，所述移印机具有储器(36)、印版(37)和转印垫(38A，39A，38B，39B)；以及-向所述储器(36)填充液体胶(40)的步骤；所述施加胶的步骤包括：-将所述一个构件放置入所述支承件(23A-23D，22A-22D)中；-使用所述移印机(35)实施以下步骤序列：将所述储器(36)和印版(37)相对于彼此从休止位置驱动至工作位置，在所述休止位置所述储器(36)在所述印版的被蚀刻区域(42A，43A，42B，43B)上方，在所述工作位置所述储器(36)远离所述被蚀刻区域(42A，43A，42B，43B)；然后将所述转印垫(38A，39A，38B，39B)驱动至其中该转印垫的远侧表面(43)与所述印版的被蚀刻区域相接触的获取位置；然后将所述转印垫从所述获取位置驱动至其中所述转印垫的远侧表面(43)与所述一个构件的所述一个表面相接触的施加位置；以及-然后...

【专利技术属性】
技术研发人员：L·塞韦莱克，A·罗格，
申请(专利权)人：德拉玛尔索瓦拉公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR