The utility model relates to a cleaning device for cleaning the wafer, the cleaning device comprises a cleaning cylinder, lifting and rotating a column, a base, a cylinder is installed on the column, a telescopic tube fixed on the cylinder and a controller, wherein the cylinder can drive the movement of the telescopic tube before and after the stroke of the cylinder controlled by the controller, the cleaning cylinder surrounded by the base and form a cleaning cavity and the base, the telescopic tube is a hollow tube, the other end is inserted into the expansion pipe cleaning cavity, the wafer is placed in the base, wherein the motor is connected with the post and provide dynamic column lift and rotate the motor controller. The cleaning device of the utility model can automatically spray, clean and dry the wafer, improve the consistency of the wafer cleaning, and avoid all kinds of defects appearing after the manual cleaning, so as to enhance the cleaning efficiency.
【技术实现步骤摘要】
清洗装置
本技术涉及半导体晶片清洗领域,尤其涉及一种清洗晶片的清洗装置。
技术介绍
以砷化镓(GaAs)为代表的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料由于其独特的电学性能,在卫星通讯、微波器件、激光器及发光二极管领域有着十分广泛的应用。异质结双极晶体管、高电子迁移率晶体管、LED等器件的制作需要在高质量的衬底表面用分子束外延或者有机金属化合物气相外延技术生长外延结构。随着半导体器件工艺制作的不断完善,器件尺寸越来越小,利用率也越来越高,半导体衬底的质量尤其是晶片表面的质量对器件的可靠性和稳定性影响也越来越大。晶片清洗是获取高质量、高稳定性的半导体晶片重要的环节之一,也是半导体晶片加工最后一个环节,是获取高质量晶片表面不可或缺的步骤,而晶片清洗后表面的稳定性也是至关重要的。目前,几乎所有的半导体晶片的清洗都是采用人工清洗,由于晶片清洗对工艺要求很高,比如:清洗手法、药液浓度、药液温度、药液清洗时间、冲水时间等,如果采用人工清洗,每个人的习惯不一样,清洗手法不一样,有可能影响晶片清洗的一致性,而且人工清洗,在半导体制备外延工艺后,表面经常出现水痕、水印、吸笔印等缺陷。因此,有必要设计一种新的清洗装置以解决上述技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述技术问题,提出一种清洗装置。为实现前述目的,本技术采用如下技术方案:一种清洗装置,用于清洗晶片,所述清洗装置包括一清洗缸、可升降并可旋转的一立柱、安装在立柱上的一底座、一气缸、一端固定在气缸上的一伸缩管、一控制器,所述气缸能够带动伸缩管前后移动,所述气缸的行程受控制器控制,所述清洗缸包围底座并与底座共同形成一清洗腔,所述伸缩管为 ...
【技术保护点】
一种清洗装置,用于清洗晶片,其特征在于:所述清洗装置包括一清洗缸、可升降并可旋转的一立柱、安装在立柱上的一底座、一气缸、一端固定在气缸上的一伸缩管、一控制器、一电机,所述气缸能够带动伸缩管前后移动,所述气缸的行程受控制器控制,所述清洗缸包围底座并与底座共同形成一清洗腔,所述伸缩管为一中空管,所述伸缩管的另一端伸入清洗腔内,所述晶片固定放置在底座上,所述电机与立柱连接并为立柱升降和旋转提供动力,所述电机受控制器控制。
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置,用于清洗晶片,其特征在于:所述清洗装置包括一清洗缸、可升降并可旋转的一立柱、安装在立柱上的一底座、一气缸、一端固定在气缸上的一伸缩管、一控制器、一电机,所述气缸能够带动伸缩管前后移动,所述气缸的行程受控制器控制,所述清洗缸包围底座并与底座共同形成一清洗腔,所述伸缩管为一中空管,所述伸缩管的另一端伸入清洗腔内,所述晶片固定放置在底座上,所述电机与立柱连接并为立柱升降和旋转提供动力,所述电机受控制器控制。2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于:所述清洗装置包括控制喷淋药液的一喷淋部件,...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘留,廖彬,周铁军,沈艳东,
申请(专利权)人:广东先导先进材料股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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