量子点、含有量子点的组成物及量子点的制备方法技术

提供一种通过寡聚物或聚合物钝化(passivation)的量子点，所述寡聚物或聚合物通过使第一单体与第二单体反应获得，所述第一单体的末端具有至少三个硫醇基(‑SH)，所述第二单体的末端具有至少两个能够与硫醇基反应的官能基(functional group)及在至少两个官能基之间的间隔基(spacer group)。

Quantum dots, composition of quantum dots and preparation methods of quantum dots

A oligomer or polymer passivation (passivation) of the quantum dots, the oligomers or polymers obtained by reacting the first monomer and the second monomer, the end of the first monomer having at least three thiol groups (SH), the second end with a functional monomer at least two radicals can react with thiol groups (functional and group) between at least two Guan Nengji spacer (spacer group).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】量子点、含有量子点的组成物及量子点的制备方法
揭露一种量子点、包含量子点的组成物及量子点的制备方法。
技术介绍
量子点(quantumdot)为具有纳米尺寸以及结晶结构的半导体材料，且包含数百至数千个原子。因为量子点极小，故其每单位体积具有大的表面积，且也具有量子局限效应(quantumconfinement)。因此，其具有不同于对应块体半导体材料的固有特征的独特物理化学特性。特定言之，因为量子点的光电特性可通过调节其尺寸来控制，故量子点正进行积极研究且用于显示装置及生物技术应用。一般而言，当量子点用于显示元件等时，硅酮聚合物可用作使量子点分散的基质树脂。然而，因为硅酮树脂(silicone)与量子点表面存在的有机配位体具有不良相容性(compatibility)，故可能将量子点聚集(aggregation)。在此情况下，量子点表面存在的有机配位体可能丧失，因此装置效率可能降低。
技术实现思路
技术问题一个实施例提供一种量子点，其通过有效钝化(passivation)量子点的表面而具有改良的抗氧气及湿气的稳定性、改良的热稳定性及光学稳定性及改良的于薄膜形成期间所用的溶剂或基质树脂中的分散本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种量子点，其特征在于，所述量子点通过寡聚物或聚合物钝化(passivation)，所述寡聚物或所述聚合物通过使第一单体与第二单体反应获得，所述第一单体的末端具有至少三个硫醇基(‑SH)，所述第二单体的末端具有至少两个能够与所述硫醇基反应的官能基(functional group)以及在所述至少两个官能基之间的间隔基(spacer group)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.02 KR 10-2015-00780281.一种量子点，其特征在于，所述量子点通过寡聚物或聚合物钝化(passivation)，所述寡聚物或所述聚合物通过使第一单体与第二单体反应获得，所述第一单体的末端具有至少三个硫醇基(-SH)，所述第二单体的末端具有至少两个能够与所述硫醇基反应的官能基(functionalgroup)以及在所述至少两个官能基之间的间隔基(spacergroup)。2.根据权利要求1所述的量子点，其中所述寡聚物或所述聚合物为末端包含硫醇基的多齿(multidentate)配位体。3.根据权利要求1所述的量子点，其中所述寡聚物或所述聚合物通过在所述量子点的表面上形成三维(three-dimensional)网路来钝化所述量子点。4.根据权利要求1所述的量子点，其中所述量子点由以下中选出：磷化铟量子点；包含磷化铟核以及含硫化锌、硒化锌或其组合的外壳的量子点；以及其组合。5.根据权利要求1所述的量子点，其中所述第一单体为由化学式1表示的化合物：[化学式1]其中在化学式1中，X1及X2各自独立地为碳、经取代或未经取代的C6至C30亚芳基、经取代或未经取代的C6至C30亚杂芳基、经取代或未经取代的C3至C30亚环烷基或经取代或未经取代的C3至C30亚杂环烷基，L1至L7独立地由以下中选出：单键；经取代或未经取代的C1至C30亚烷基；经取代或未经取代的C2至C30亚烯基；以及C1至C30亚烷基及C2至C30亚烯基，其中至少一个亚甲基(-CH2-)经由以下中选出的取代基置换：磺酰基(-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚基(-O-)、硫基(-S-)、亚砜基(-S(＝O)-)、酯基(-C(＝O)O-)、酰胺基(-C(＝O)NRa-)、亚胺基(-NRb-)，其中Ra为氢或C1至C10烷基，其中Rb为氢或C1至C10烷基；以及其组合，R1至R7独立地由以下中选出：氢、硫醇基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30杂芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烷基、经取代或未经取代的C3至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基以及经取代或未经取代的C2至C30炔基，n为0、1或2的整数，当n为0时，R1至R4中的至少三者为硫醇基，且当n为1或2时，R1至R7中的至少三者为硫醇基。6.根据权利要求1所述的量子点，其中所述第一单体由以下中选出：二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)(dipentaerythritolhexakis(3-mercaptopropionate)；DHM)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)(pentaerythritoltetrakis(3-mercaptopropionate))、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)(trimethylolpropanetris(3-mercaptopropionate))、季戊四醇四(3-巯基乙酸酯)(pentaerythritoltetrakis(3-mercaptoacetate))、三羟甲基丙烷三(3-巯基乙酸酯)(trimethylolpropanetris(3-mercaptoacetate))、三[2-(3-巯基丙酰氧基乙基)异氰尿酸酯)(tris[2-(3-mercaptopropionyloxyethyl)isocyanurate))、三聚氰酸(tricyanuricacid)以及其组合。7.其中所述第二单体为由化学式2表示的化合物：[化学式2]其中在化学式2中，L为间隔基，R12由以下中选出：氢、硫醇基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30杂芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烷基、经取代或未经取代的C3至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基以及经取代或未经取代的C2至C30炔基，R11由以下中...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹振燮，权五范，李俊雨，孔义铉，金钟基，朴商天，朴温柔，禹熙济，赵成徐，韩弦周，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR