辐射屏蔽装置及放射治疗系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及放射治疗领域，提出一种辐射屏蔽装置及具有该辐射屏蔽装置的放射治疗系统，其中辐射屏蔽装置包括至少两个辐射屏蔽层：第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。本实用新型专利技术的辐射屏蔽装置包括光子屏蔽层和电子屏蔽层，从而可以屏蔽大部分辐射，有效提高电子元件的使用寿命且提高放射治疗的安全性。

Radiation shielding device and radiation therapy system

The utility model relates to the field of radiation therapy, a radiation shielding device and a radiation shielding device of radiation treatment system, wherein the radiation shielding device comprises at least two radiation shielding layer: the first layer is the photon radiation shielding shielding layer for photon shielding of electronic components, second radiation shielding layer for electronic shielding layer, for electronic shielding of electronic components, wherein the first radiation shielding layer is arranged from the electronic components on the second side of the radiation shield. The radiation shielding device of the utility model comprises a photon shielding layer and an electronic shielding layer, thereby shielding most of the radiation, effectively improving the service life of the electronic components and improving the safety of the radiation therapy.

【技术实现步骤摘要】
辐射屏蔽装置及放射治疗系统
本技术涉及放射治疗领域，尤其涉及一种对放射治疗装置中的辐射进行屏蔽的装置。
技术介绍
随着直线加速器的发展，治疗精度的增加，直线加速器在治疗癌症领域起着越来越重要的作用。直线加速器利用射线破坏癌细胞，并尽可能减少病人在治疗过程中受到的非治疗射线的伤害。因而，在直线加速器的设计中，屏蔽设计无疑是保护病人的一个最重要的部件，比较好的屏蔽设计可以很大程度上降低射线对病人的伤害。并且，直线加速器中有很多电子元件，如FPGA板，其是控制部件运动的核心部件，在射线的直接照射下很容易损坏，实验显示，直接照射10000MU就会损坏。例如，现有某厂商的加速器产品的治疗头中MLC板子2～3年需要更换一次。板子损坏一方面需要厂家更换，增加了机器维护成本，另一方面，增加了病人的治疗风险。在现有的直线加速器的屏蔽设计中，需要屏蔽的部件主要包括两个部分：一、加速管周围，二、治疗头。加速管用于从电子枪注入的电子在微波电场作用下加速到高能，为了实现加速管的功能在其周围存在较多电子元件，这些电子元件被集成于电路板上。治疗头内也具有多个关键部件，例如初级准直器、均整器、电离室、钨门及多叶光栅，这些关键部件用于对射束进行能量分布调节、适形调节、剂量监测等，其运动受控于电子元件。不管加速管还是治疗头内的电子元件都容易受到电子、光子等辐射的影响，导致其使用寿命较短。一般采用一定厚度的铅、钨等高密度材料直接对非治疗用射线进行衰减。传统设计中，采用高密度材料对电子元件进行屏蔽，并且只考虑对光子的屏蔽，但是光子屏蔽在达到一定量级后很难通过增加厚度提高屏蔽效果，因而最终只能更换电子元件。
技术实现思路
本技术提供了一种辐射屏蔽装置，包括：至少两个辐射屏蔽层：第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。可选的，所述辐射屏蔽装置还包括第三辐射屏蔽层，所述第三辐射屏蔽层为电子屏蔽层，设置在所述第一辐射屏蔽层远离所述第二辐射屏蔽层的一侧，用于对所述电子元件进行电子屏蔽。可选的，所述辐射屏蔽装置还包括电磁屏蔽层，用于对所述电子元件进行电磁屏蔽。可选的，所述辐射屏蔽装置包括用于容纳所述电子元件的收容空间及通往所述收容空间的入口。可选的，所述辐射屏蔽装置还包括遮挡所述入口的盖板。可选的，所述辐射屏蔽装置还包括连接所述收容空间与外部空间的通道。可选的，所述辐射屏蔽装置为板状结构。本技术还提供了一种放射治疗系统，包括主体支架；治疗臂和治疗头，所述治疗臂的一端固定于所述主体支架的一侧，另一端向外延伸，所述治疗头固定于所述治疗臂的另一端；辐射屏蔽装置，用于对电子元件进行辐射屏蔽。可选的，所述辐射屏蔽装置设置于所述治疗臂和/或所述治疗头内。本技术还提供了一种放射治疗系统，包括主体支架；治疗臂和治疗头，所述治疗臂的一端固定于所述主体支架的一侧，另一端向外延伸，所述治疗头固定于所述治疗臂的另一端；辐射屏蔽装置，用于对电子元件进行辐射屏蔽，所述辐射屏蔽装置为多层结构。相对于现有技术，本技术的辐射屏蔽装置包括光子屏蔽层和电子屏蔽层，从而可以屏蔽大部分辐射，有效提高电子元件的使用寿命且提高放射治疗的安全性；进一步地，本技术的辐射屏蔽装置包括至少两个电子屏蔽层，其中一个电子屏蔽层设置在靠近射束的位置，从而减少散射到加速器内层的粒子，减少对治疗束和其它器件的影响；进一步地，本技术的辐射屏蔽装置包括电磁屏蔽层，可以进行电磁屏蔽，减少电磁辐射对电子元件的影响。附图说明为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。图1是本技术一实施例提供的放射治疗系统的结构示意图；图2是本技术一实施例提供的辐射屏蔽装置的结构示意图；图3的实施例提供了辐射屏蔽装置沿Ⅰ-Ⅰ方向的剖视图；图4的实施例提供了另一辐射屏蔽装置沿Ⅰ-Ⅰ方向的剖视图；图5的实施例提供了另一辐射屏蔽装置沿Ⅰ-Ⅰ方向的剖视图；图6的实施例提供了另一辐射屏蔽装置沿Ⅰ-Ⅰ方向的剖视图；图7是本技术另一实施例提供的辐射屏蔽装置的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供的辐射屏蔽装置至少包括光子屏蔽层和电子屏蔽层，可以有效屏蔽大部分辐射，适用于很多环境，例如太空环境、医疗设备，尤其适用于放射治疗设备。为了更好地对技术方案进行说明，在此以放射治疗设备为例对本技术的技术方案进行清楚、完整的描述，但并不以此限定本技术的保护范围。图1是本技术一实施例提供的放射治疗系统的结构示意图。参考图1所示，放射治疗系统包括直线加速器10、病床20。所述直线加速器10用于产生高能级(例如兆伏级)的射束(电子束或X射线)从而对靶区(包含肿瘤)进行治疗，其包括主体机架11、治疗臂12及治疗头13，所述主体机架11能够绕旋转轴A(如图1所示)旋转，从而实现不同角度的治疗，所述治疗臂12的一端固定于主体机架的一侧，另一端向外延伸，内部具有用于将电子加速到高能的加速管，所述治疗头13固定于治疗臂12的另一端，用于对射束进行能量分布调节、适形调节、剂量监测等。所述直线加速器10还可以包括电子射野影像装置14(ElectronicPortalImagingDevice，简称EPID)，用于接收射束进行成像，例如在放射治疗过程中，利用EPID实时接收射束进行成像，从而可以实时验证摆位。所述直线加速器10不受本实施例公开的限制，其还可以产生千伏级的射束用于对靶区进行成像。所述病床20用于承载患者，并将靶区移动至直线加速器10的等中心点O(如图1所示)，所述治疗头13向患者发出射束(例如锥形束，射束中心轴B如图1所示)，从而对患者进行治疗。所述放射治疗系统还包括辐射屏蔽装置，可以设置于直线加速器10内部或外部需要屏蔽的位置，用于对放射治疗系统内的电子元件进行辐射屏蔽，尤其是对加速管和/或治疗头内的电子元件进行辐射屏蔽。所述辐射屏蔽装置可以通过现有方式固定于加速管和/或治疗头内的电子元件周围，主要用于对非治疗用的电子和光子进行屏蔽，尽量减少对电子元件的影响，延长电子元件的使用寿命。本实施例中的辐射屏蔽装置为多层结构，其中，至少一层结构用于屏蔽电子，至少一层结构用于屏蔽光子。在本技术中，对辐射屏蔽装置的形状不进行限定，只要其可以有效屏蔽辐射即可。图2是本技术一实施例提供的辐射屏蔽装置的结构示意图。参考图2所示，辐射屏蔽装置200为三维立体结构，所述辐射屏蔽装置200包括用于容纳电子元件的收容空间201及通往所述收容空间201的入口202，待屏蔽的电子元件可以经入口202被放置于所述收容空间201本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辐射屏蔽装置，其特征在于，包括至少两个辐射屏蔽层：第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种辐射屏蔽装置，其特征在于，包括至少两个辐射屏蔽层：第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。2.如权利要求1所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，还包括第三辐射屏蔽层，所述第三辐射屏蔽层为电子屏蔽层，设置在所述第一辐射屏蔽层远离所述第二辐射屏蔽层的一侧，用于对所述电子元件进行电子屏蔽。3.如权利要求1或2所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，还包括电磁屏蔽层，用于对所述电子元件进行电磁屏蔽。4.如权利要求1所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，所述辐射屏蔽装置包括用于容纳所述电子元件的收...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘艳芳，韩卫，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31