烘制设备制造技术

本发明专利技术公开了一种烘制设备包括箱体，箱体中空且用于容纳待烘烤的产品，箱体开设有至少一个排气口和至少一个进气口，排气口位于进气口的上方。通过上述方式，本发明专利技术能够避免烘制过程中产生的烟雾对产品的二次污染。

【技术实现步骤摘要】
烘制设备
本专利技术涉及领域显示面板制程
，特别是涉及一种烘制设备。
技术介绍
目前，柔性可挠性衬底，例如柔性显示基板，通常需要烘烤制备，例如PI(Polyimide，聚酰亚胺)基板在烘制设备中烘烤时PI涂层中的溶剂挥发产生烟雾，这些烟雾颗粒容易积累在绕性PI基板上容易对PI基板二次污染，造成PI基板报废，大大的降低了PI基板的制作良率。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种烘制设备，能够避免烘制过程中产生的烟雾对产品的二次污染。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种烘制设备，烘制设备包括箱体，箱体中空且用于容纳待烘烤的产品，箱体开设有至少一个排气口和至少一个进气口，排气口位于进气口的上方。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术通过设置烘制设备包括箱体，箱体中空且用于容纳待烘烤的产品，箱体开设有至少一个排气口和至少一个进气口，排气口位于进气口的上方，通过上述方式，产品烘制过程中产生的烟雾随进气口进入的气体上升至排气口排出，从而烟雾不会沉积在产品上对产品二次污染。附图说明图1是本专利技术实施例的烘制设备的俯视示意图；图2是实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烘制设备，其特征在于，所述烘制设备包括箱体，所述箱体中空且用于容纳待烘烤的产品，所述箱体开设有至少一个排气口和至少一个进气口，所述排气口位于所述进气口的上方。

【技术特征摘要】
1.一种烘制设备，其特征在于，所述烘制设备包括箱体，所述箱体中空且用于容纳待烘烤的产品，所述箱体开设有至少一个排气口和至少一个进气口，所述排气口位于所述进气口的上方。2.根据权利要求1所述的烘制设备，其特征在于，所述箱体包括顶壁、底壁、连接所述顶壁和所述底壁的至少一个侧壁，所述进气口开设在所述侧壁上，所述排气口开设在所述顶壁上。3.根据权利要求2所述的烘制设备，其特征在于，所述排气口设置于所述顶壁的靠近所述侧壁的边缘区域。4.根据权利要求1所述的烘制设备，其特征在于，所述箱体包括顶壁、底壁、连接所述顶壁和所述底壁的至少一个侧壁，所述进气口和所述排气口均开设在所述侧壁上。5.根据权利要求4所述的烘制设备，其特征在于，所述排气口设置于所述侧壁的靠近所述顶壁的边缘区域。6.根据权利要求2或4所述的烘制设备，其特征在于，所述至少一个进气口包括多个第一进气口和多个第二进气口，所述多个第一进气口和所述多个第二进气口分别位于所述至少一个侧壁中的不同侧壁，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张纯，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42