The high rated current longitudinal magnetic field contact structure is arranged in the arc chamber, including the vacuum interrupter in the same structure anode contact system and cathode contact system, anode contact system comprising a conducting rod, U type core and contact piece; the conductive rod is passed through the U type core opening and connected with the contact piece; non linear there are two groove shape and position symmetry of the central contact piece, non linear slot will be divided into contact piece in two non straight guide groove and is located in the region of two non linear groove outside the end part of the arc region, region and region diversion arc connected by a conductive electric bridge; U type iron core is arranged in the contact piece of the back, and is located within the arc region; the anode contact system and cathode contact system relative arrangement, and the opening direction of a U type iron core are 180 degrees; the structure of the utility model can greatly reduce The eddy current loss in the small contact piece reduces the loop resistance of the vacuum interrupter, and enhances the longitudinal magnetic field area while increasing the area of the strong longitudinal magnetic field.
【技术实现步骤摘要】
高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构
本技术属于真空开关
,具体涉及一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构。
技术介绍
真空灭弧室因其结构简单、免维护以及环境友好等特性,正向输电等级方向发展。额定电流提升技术和大电流真空电弧磁场控制技术是输电等级真空灭弧室亟需解决的关键技术。目前,在输电等级真空灭弧室的设计中,通常采用在真空灭弧室中施加磁场的方式来控制真空电弧,同时尽可能降低真空灭弧室的回路电阻。现有技术中,一种马蹄铁型纵磁触头比线圈型纵磁触头具有更小的回路电阻并能提供更强的纵向磁场,成为真空灭弧室向输电等级发展的一种可行方案。然而,现有真空灭弧室马蹄铁型纵磁触头中,触头片在通流时会产生较强的涡流,使得真空灭弧室的交流回路电阻大幅增加,不利于真空灭弧室高额定电流下的温升控制,从而限制了马蹄铁型纵磁触头真空灭弧室额定通流能力的提升。
技术实现思路
为了克服上述现有技术存在的问题,本技术提出了一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,该结构能大幅减小触头片中的涡流损耗,降低了真空灭弧室的回路电阻;在提高触头间的纵向磁场的同时增大强纵向磁场区域面积,是一种适用于高额定电流输电等级真空灭弧室的纵向磁场触头结构。为达到以上目的,本技术采用的技术方案是:一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统1和阴极触头系统2,所述阳极触头系统1包括导电杆3、U型铁心4和触头片5;导电杆3一端穿过U型铁心4开口处,并与触头片5连接;触头片5的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽9,非直线通槽9将触头片5分为位于两个非直线通槽9间导流 ...
【技术保护点】
一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,其特征在于:包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统(1)和阴极触头系统(2),所述阳极触头系统(1)包括导电杆(3)、U型铁心(4)和触头片(5);导电杆(3)一端穿过U型铁心(4)开口处,并与触头片(5)连接;触头片(5)的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽(9),非直线通槽(9)将触头片(5)分为位于两个非直线通槽(9)间的导流区域(6)和位于两个非直线通槽(9)端部外侧的燃弧区域(7),所述导流区域(6)和燃弧区域(7)之间通过两个非直线通槽(9)端部间的导电桥(8)进行电连接;U型铁心(4)设置在触头片(5)的背部,且位于燃弧区域(7)之内;所述阳极触头系统(1)和阴极触头系统(2)相对布置,触头片(5)正面相对,且使U型铁心(4)的开口方向呈错开180°配置。
【技术特征摘要】
1.一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,其特征在于:包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统(1)和阴极触头系统(2),所述阳极触头系统(1)包括导电杆(3)、U型铁心(4)和触头片(5);导电杆(3)一端穿过U型铁心(4)开口处,并与触头片(5)连接;触头片(5)的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽(9),非直线通槽(9)将触头片(5)分为位于两个非直线通槽(9)间的导流区域(6)和位于两个非直线通槽(9)端部外侧的燃弧区域(7),所述导流区域(6)和燃弧区域(7)之间通过两个非直线通槽(9)端部间的导电桥(8)进行电连接;U型铁心(4)设置在触头片(5)的背部,且位于燃弧区域(7)之内;所述阳极...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘志远,李昊旻,王子寒,耿英三,王建华,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:新型
国别省市:陕西,61
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。