杀菌剂和含有该杀菌剂的清洗剂制造技术

＊＊＊ 一种适宜消除军团菌的抗菌剂，含有至少一种式（１）所代表的氧化胺和／或至少一种式（２）所代表的氧化胺。其中Ｒ↓［１］代表Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ＋１］（ＯＣ↓［２］Ｈ↓［４］）↓［ｍ］，ｎ为１２－１８，ｍ为０－１０，Ｒ↓［２］代表氢原子或具有１－４个碳原子的烷基，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。其中Ｒ↓［１］代表Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ＋１］（ＯＣ↓［２］Ｈ↓［４］）↓［ｍ］，ｎ为１２－１８，ｍ为０－１０，Ｒ↓［３］代表（Ｃ↓［ｐ］Ｈ↓［２ｐ］）ＯＨ，其中ｐ为１－４，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种抗菌剂，含有至少一种式（１）代表的氧化胺、和／或至少一种式（２）代表的氧化胺：Ｒ↓［１］－＊→Ｏ （１）其中Ｒ↓［１］代表Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ＋１］（ＯＣ↓［２］Ｈ↓［４］）↓［ｍ］，ｎ为１２－１８，ｍ为０－１０，Ｒ↓［２］代表 氢原子或具有１－４个碳原子的烷基，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键；并且Ｒ↓［１］－＊→Ｏ （２）其中Ｒ↓［１］代表Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ＋１］（ＯＣ↓［２］Ｈ↓［４］）↓［ｍ］，ｎ为１２－１８，ｍ为０－１０，Ｒ↓［３］代表（Ｃ↓［ ｐ］Ｈ↓［２ｐ］）ＯＨ，其中ｐ为１－４，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：水谷增美，市原和好，山下圭子，
申请(专利权)人：正和株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]