一种絮凝沉淀装置制造方法及图纸

技术编号:16942583 阅读:136 留言:0更新日期:2018-01-03 21:08
一种絮凝沉淀装置,包括沉淀池本体、进水管、溢水口、排污管、第一清洗机构、第二清洗机构;所述沉淀池本体顶部设有所述进水管,所述沉淀池本体上方一侧设有所述溢水口,所述沉淀池本体底部由两块斜板交汇形成沉淀池的底部;所述沉淀池本体内部上方横向设有固定架,所述沉淀池本体内部下方设有过滤网,所述进水管下方连接有导水管,所述导水管下方设有进水罩。本实用新型专利技术的有益效果为:(1)沉淀池本体底部水中的污泥全部被过滤网拦截,避免了污泥随清水一同从溢水口排出;(2)清洗刷可以很方便的来回清洗过滤网底部的污泥;(3)波形凸起的设置延长了污水上升的时间,从而增加了污水中污泥沉淀的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种絮凝沉淀装置
本技术涉及废水处理领域,具体涉及一种絮凝沉淀装置。
技术介绍
絮凝沉淀是颗粒物在水中作絮凝沉淀的过程。在水中投加混凝剂后,其中悬浮物的胶体及分散颗粒在分子力的相互作用下生成絮状体且在沉降过程中它们互相碰撞凝聚,其尺寸和质量不断变大,沉速不断增加。悬浮物的去除率不但取决于沉淀速度,而且与沉淀深度有关。地面水中投加混凝剂后形成的矾花,生活污水中的有机悬浮物,活性污泥在沉淀过程中都会出现絮凝沉淀的现象。即选用无机絮凝剂和有机阴离子配制成水溶液加入废水中,便会产生压缩双电层,使废水中的悬浮微粒失去稳定性,胶粒物相互凝聚使微粒增大,形成絮凝体、矾花。絮凝体长大到一定体积后即在重力作用下脱离水相沉淀,从而去除废水中的大量悬浮物,从而达到水处理的效果。为提高分离效果,可适时、适量加入助凝剂。絮凝沉淀池是废水处理中沉淀池的一种。絮凝过程是工业用水和生活污水处理中最基本也是极为重要的处理过程,通过向水中投加一些药剂(通常称为混凝剂及助凝剂),使水中难以沉淀的颗粒能互相聚合而形成胶体,然后与水体中的杂质结合形成更大的絮凝体。絮凝体具有强大吸附力,不仅能吸附悬浮物,还能吸附部分细菌和溶解性物质。絮凝体通过吸附,体积增大而下沉。絮凝沉淀工艺在水处理上的应用已有几百年的历史,与其他物理化学方法相比具有出水水质好、工艺运行稳定可靠、经济实用、操作简便等优点。现有的絮凝沉淀装置中都是将污水通入絮凝沉淀装置,将污泥沉淀之后,上部的清水从上方溢水口排出,但是沉淀过程所需的时间往往比较慢,很容易出现污泥未沉淀完全水质就从溢水口排出,这样很容易将带有污泥的水一同从溢水口排出;同时污泥斗中的污泥由于长期的积累,很难清洗,时间久了就会影响污水沉淀的效果。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种絮凝沉淀装置,为解决上述技术问题,本技术的技术方案为:一种絮凝沉淀装置,包括沉淀池本体、进水管、溢水口、排污管、第一清洗机构、第二清洗机构;所述沉淀池本体顶部设有所述进水管,所述沉淀池本体上方一侧设有所述溢水口,所述沉淀池本体底部由两块斜板交汇形成沉淀池的底部,两块所述斜板的交汇处设有所述排污管;所述沉淀池本体内部上方横向设有固定架,所述沉淀池本体内部下方设有过滤网,所述进水管下方连接有导水管,所述导水管下方设有进水罩;所述导水管顶部设于所述固定架上方,所述导水管底部设于所述过滤网下方;所述第一清洗机构包括第一气缸、第一推力块、第一电机、第一转轴,所述第一气缸设于所述沉淀池本体外部一侧,所述第一推力块设于所述第一气缸与所述沉淀池本体之间,其中所述第一推力块垂直设于所述第一气缸的伸缩端,所述第一推力块通过所述第一转轴与所述沉淀池本体垂直连接,其所述第一转轴靠近所述沉淀池本体的一端垂直贯穿设于所述沉淀池本体内部,设于所述沉淀池本体内部的所述第一转轴端部上安装有第一清洗刷;所述第一推力块与所述沉淀池本体之间的所述第一转轴外围设有所述第一电机;所述第二清洗机构包括第二气缸、第二推力块、第二电机、第二转轴,所述第二气缸设于所述沉淀池本体外部另一侧,所述第二推力块设于所述第二气缸与所述沉淀池本体之间,其中所述第二推力块垂直设于所述第二气缸的伸缩端,所述第二推力块通过所述第二转轴与所述沉淀池本体垂直连接,其所述第二转轴靠近所述沉淀池本体的一端垂直贯穿设于所述沉淀池本体内部,设于所述沉淀池本体内部的所述第二转轴端部上安装有第二清洗刷;所述第二推力块与所述沉淀池本体之间的所述第二转轴外围设有所述第二电机;所述第一清洗刷和所述第二清洗刷均设于所述过滤网与所述斜板之间;所述第一清洗机构和所述第二清洗机构相对于所述导水管对称。优选地,所述导水管通过所述固定架固定并纵向设于所述沉淀池本体内部。优选地,所述排污管上安装有排污阀。优选地,所述固定架与所述过滤网相互平行。优选地,所述斜板上设有波形凸起。优选地,所述导水管顶部水平高度高于所述溢水口所在水平高度。本技术的有益效果为:(1)沉淀池本体底部水中的污泥全部被过滤网拦截,避免了污泥随清水一同从溢水口排出;(2)清洗刷可以很方便的来回清洗过滤网底部的污泥,减少了污泥长期沉淀而导致的难以清洗的问题;(3)波形凸起的设置延长了污水上升的时间,从而增加了污水中污泥沉淀的效率。附图说明附图1为本技术结构示意图。具体实施方式为使对本技术的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识,用以较佳的实施例及附图配合详细的说明,说明如下:如附图1所示,一种絮凝沉淀装置,包括沉淀池本体100、进水管200、溢水口300、排污管400、第一清洗机构、第二清洗机构;所述沉淀池本体100顶部设有所述进水管200,所述沉淀池本体100上方一侧设有所述溢水口300,所述沉淀池本体100底部由两块斜板105交汇形成沉淀池的底部,所述斜板105上设有波形凸起1051,所述波形凸起1051在污水上升的过程中,起到了减缓污水上升速度的作用,避免了污水上升过快而导致了沉泥过滤不彻底。两块所述斜板105的交汇处设有所述排污管400,所述排污管400上安装有排污阀401,所述排污管400的设置是为了方便所述沉淀池本体100底部所积沉泥的排放,所述排污阀401是为了方便控制所述排污管400的开关。所述沉淀池本体100内部上方横向设有固定架101,所述沉淀池本体100内部下方设有过滤网104,所述进水管200下方连接有导水管102,所述导水管102下方设有进水罩103;所述导水管102顶部设于所述固定架101上方,所述导水管102底部设于所述过滤网104下方;所述导水管102通过所述固定架101固定并纵向设于所述沉淀池本体100内部。所述固定架101与所述过滤网104相互平行。根据水压和水深成正比的原理,由于所述导水管102顶部水平高度高于所述溢水口所在水平高度,同时所述导水管102的横截面直径小于所述沉淀池本体100内部横截面直径,所以,从所述进水管200进入的污水能够很容易的下降到所述沉淀池本体100底部。所述第一清洗机构包括第一气缸500、第一推力块501、第一电机502、第一转轴505,所述第一气缸500设于所述沉淀池本体100外部一侧,所述第一推力块501设于所述第一气缸500与所述沉淀池本体100之间,其中所述第一推力块501垂直设于所述第一气缸500的伸缩端,所述第一推力块501通过所述第一转轴505与所述沉淀池本体100垂直连接,其所述第一转轴505靠近所述沉淀池本体100的一端垂直贯穿设于所述沉淀池本体100内部,设于所述沉淀池本体100内部的所述第一转轴505端部上安装有第一清洗头503,所述第一清洗头503上设有第一清洗刷504;所述第一推力块501与所述沉淀池本体100之间的所述第一转轴505外围设有所述第一电机502;所述第二清洗机构包括第二气缸600、第二推力块601、第二电机602、第二转轴605,所述第二气缸600设于所述沉淀池本体100外部另一侧,所述第二推力块601设于所述第二气缸600与所述沉淀池本体100之间,其中所述第二推力块601垂直设于所述第二气缸600的伸缩端,所述第二推力块601通过所述第二转轴605与所述沉淀池本体100垂直连接,其所述第二转轴605本文档来自技高网
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一种絮凝沉淀装置

【技术保护点】
一种絮凝沉淀装置,包括沉淀池本体、进水管、溢水口、排污管、第一清洗机构、第二清洗机构;其特征在于:所述沉淀池本体顶部设有所述进水管,所述沉淀池本体上方一侧设有所述溢水口,所述沉淀池本体底部由两块斜板交汇形成沉淀池的底部,两块所述斜板的交汇处设有所述排污管;所述沉淀池本体内部上方横向设有固定架,所述沉淀池本体内部下方设有过滤网,所述进水管下方连接有导水管,所述导水管下方设有进水罩;所述导水管顶部设于所述固定架上方,所述导水管底部设于所述过滤网下方;所述第一清洗机构包括第一气缸、第一推力块、第一电机、第一转轴,所述第一气缸设于所述沉淀池本体外部一侧,所述第一推力块设于所述第一气缸与所述沉淀池本体之间,其中所述第一推力块垂直设于所述第一气缸的伸缩端,所述第一推力块通过所述第一转轴与所述沉淀池本体垂直连接,其所述第一转轴靠近所述沉淀池本体的一端垂直贯穿设于所述沉淀池本体内部,设于所述沉淀池本体内部的所述第一转轴端部上安装有第一清洗刷;所述第一推力块与所述沉淀池本体之间的所述第一转轴外围设有所述第一电机;所述第二清洗机构包括第二气缸、第二推力块、第二电机、第二转轴,所述第二气缸设于所述沉淀池本体外部另一侧,所述第二推力块设于所述第二气缸与所述沉淀池本体之间,其中所述第二推力块垂直设于所述第二气缸的伸缩端,所述第二推力块通过所述第二转轴与所述沉淀池本体垂直连接,其所述第二转轴靠近所述沉淀池本体的一端垂直贯穿设于所述沉淀池本体内部,设于所述沉淀池本体内部的所述第二转轴端部上安装有第二清洗刷;所述第二推力块与所述沉淀池本体之间的所述第二转轴外围设有所述第二电机;所述第一清洗刷和所述第二清洗刷均设于所述过滤网与所述斜板之间;所述第一清洗机构和所述第二清洗机构相对于所述导水管对称。...

【技术特征摘要】
1.一种絮凝沉淀装置,包括沉淀池本体、进水管、溢水口、排污管、第一清洗机构、第二清洗机构;其特征在于:所述沉淀池本体顶部设有所述进水管,所述沉淀池本体上方一侧设有所述溢水口,所述沉淀池本体底部由两块斜板交汇形成沉淀池的底部,两块所述斜板的交汇处设有所述排污管;所述沉淀池本体内部上方横向设有固定架,所述沉淀池本体内部下方设有过滤网,所述进水管下方连接有导水管,所述导水管下方设有进水罩;所述导水管顶部设于所述固定架上方,所述导水管底部设于所述过滤网下方;所述第一清洗机构包括第一气缸、第一推力块、第一电机、第一转轴,所述第一气缸设于所述沉淀池本体外部一侧,所述第一推力块设于所述第一气缸与所述沉淀池本体之间,其中所述第一推力块垂直设于所述第一气缸的伸缩端,所述第一推力块通过所述第一转轴与所述沉淀池本体垂直连接,其所述第一转轴靠近所述沉淀池本体的一端垂直贯穿设于所述沉淀池本体内部,设于所述沉淀池本体内部的所述第一转轴端部上安装有第一清洗刷;所述第一推力块与所述沉淀池本体之间的所述第一转轴外围设有所述第一电机;所述第二清洗机构包括第二气缸、第二推力块、第二电机、第二转轴,...

【专利技术属性】
技术研发人员:余耀明谢勤李永亚
申请(专利权)人:合肥鸿科瑞水务工程有限公司
类型:新型
国别省市:安徽,34

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