激光溅射离子源的发生装置制造方法及图纸
The generator of laser sputtering ion source
The utility model provides a novel device structure design, compact structure, the target utilization rate of laser sputtering ion source high; the target includes an ion source; also includes the reaction source, the reaction source is provided with a through hole, also includes a pulse laser is arranged on the rear side of the reaction source, the pulsed laser beam the laser emitted after the lens passes through the through hole to play in front of the target surface on the front surface of B A; the A surface and the source of the reaction target front surface contact, B surface of the target relative reaction source at the front of the spins and under reciprocating sliding motion.
【技术实现步骤摘要】
激光溅射离子源的发生装置
本技术涉及离子源发生装置
，尤其涉及一种激光溅射离子源的发生装置。
技术介绍
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置，它是各种类型的离子加速器、质谱仪、光谱仪等装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件；现有技术中的质谱仪等装置涉及的激光溅射离子源，使用聚焦的脉冲激光束照射在转动的靶体，蒸发靶体的靶面材料产生的等离子体与脉冲载气进行反应，生成各种带电离子。此方式在应用中最重要的问题是，其靶体不断地做自转运动，而激光束的照射方向固定不动，因此，长时间的使用会使得靶体的靶面被激光束照射烧蚀出一个环形坑。环形坑的出现会使得离子源的工作状态很不稳定；此外，该情况下靶体的利用率极低，只有环形坑处的材料被充分利用，而靶面其他部位的材料则被浪费，特别是对于一些诸如金等贵金属做的靶体，其造成的浪费极大，其成本也是巨大。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，适应现实需要，提供一种结构设计新颖、紧凑、靶体使用率高的激光溅射离子源的发生装置。为了实现本技术的目的，本技术所采用的技术方案为：设计一种激光溅射离子源的发生装置，包括离...
【技术保护点】
一种激光溅射离子源的发生装置，包括离子源的靶体；其特征在于：还包括反应源，所述反应源上设有一通孔，还包括设置于反应源后侧的脉冲激光器，所述脉冲激光器射出的激光束经过透镜聚焦后穿过通孔打在靶体前端的A面上；所述靶体前端的A面与反应源前侧的B面面接触，所述靶体相对反应源前侧的B面做自转和上下往复滑动的动作。
【技术特征摘要】
1.一种激光溅射离子源的发生装置，包括离子源的靶体；其特征在于：还包括反应源，所述反应源上设有一通孔，还包括设置于反应源后侧的脉冲激光器，所述脉冲激光器射出的激光束经过透镜聚焦后穿过通孔打在靶体前端的A面上；所述靶体前端的A面与反应源前侧的B面面接触，所述靶体相对反应源前侧的B面做自转和上下往复滑动的动作。2.如权利要求1所述的激光溅射离子源的发生装置，其特征在于：还包括第一驱动机构，所述第一驱动机构带动所述靶体做自转动作，所述第一驱动机构包括一固定于安装板上的第一驱动电机，所述第一驱动电机的输出轴与靶体同轴连接。3.如权利要求2所述的激光溅射离子源的发生装置，其特征在于：所述第一驱动机构还包括与第一驱动电机的输出轴同轴连接的一导向柱，所述导向柱的尾端设有一后挡板，还包括一套管，所述套管的内壁对称设有沿套管轴向设置的滑槽，所述导向柱的外壁上设有沿导向柱轴线方向设置的滑带，所述套管套在导向柱上，所述滑带匹配安装于滑槽内，所述套管可相对导向柱轴向移动，与后挡板相向设置的套管的端部与后挡板间隔设置，套管的前端设有一前挡板，位于前挡板和后挡板之间的套管上套有弹簧，所述弹簧对所述套管施加向前的推力；所述靶体同轴与套管的前端连接。4.如权利要求3所述的激光溅射离子源的发生装置，其特征在于：所述套...
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