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本实用新型提供一种结构设计新颖、紧凑、靶体使用率高的激光溅射离子源的发生装置；包括离子源的靶体；还包括反应源，所述反应源上设有一通孔，还包括设置于反应源后侧的脉冲激光器，所述脉冲激光器射出的激光束经过透镜聚焦后穿过通孔打在靶体前端的A面上；...
该专利属于东华理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过东华理工大学授权不得商用。

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