研磨垫制造技术

本实用新型专利技术提供一种研磨垫，包括研磨层。研磨层具有研磨面以及背面，且研磨层的背面具有螺旋波纹。本实用新型专利技术提供的研磨垫，可使得在后续研磨过程中所产生的气泡得以排出，而经由检测窗检测研磨目标的研磨程度时，可以提升其检测灵敏度。

Grinding pad

The utility model provides an abrasive pad, which includes a grinding layer. The grinding layer has an abrasive face and a back, and the back of the grinding layer has a spiral ripple. The abrasive pad provided by the utility model can make the bubbles generated in the subsequent grinding process be discharged, and the detection sensitivity can be improved by detecting the grinding degree of the grinding target through the detection window.

【技术实现步骤摘要】
研磨垫
本技术涉及一种研磨垫，尤其涉及一种在研磨层的背面具有螺旋波纹的研磨垫。
技术介绍
随着产业的进步，平坦化制程经常被采用为生产各种元件的制程。在平坦化制程中，研磨制程经常为产业所使用。研磨制程是将研磨目标吸附于研磨系统的研磨头，并施加压力以将其压置在研磨垫上，且让研磨目标与研磨垫彼此进行相对运动，而使其表面逐渐平坦，来达到平坦化的目的。此外，也可选择在研磨过程中，提供具有化学品混合物的研磨液或研磨浆在研磨垫上，在机械效应与化学效应共同作用下，达成平坦化研磨目标表面。研磨垫在研磨过程中，常因累积的应力作用下，使得研磨层背面产生气泡，而影响研磨稳定性，甚至造成研磨目标破碎。对于具有光学检测系统的研磨设备，研磨垫上某部分区域通常会设置有透明检测窗，其功能是当使用此研磨垫进行研磨目标表层研磨时，使用者可通过研磨设备的光学检测系统，透过透明检测窗来检测研磨目标表层的研磨情况，以作为研磨制程的终点检测(End-PointDetection)。因此，如何提供一种研磨垫能提升研磨稳定性，或提升检测研磨目标表层的研磨情况的灵敏度，就成为相当重要的研究课题。
技术实现思路
本技术提供一种研磨垫及其制造方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨垫，其特征在于，适用于具有旋转方向的研磨设备，包括：研磨层，具有研磨面及背面，其中所述研磨层的所述背面具有螺旋波纹，其中从所述研磨垫俯视方向，所述螺旋波纹由中心向外具有偏斜方向，所述偏斜方向与所述研磨设备的所述旋转方向相反。

【技术特征摘要】
2016.02.24 TW 1051054161.一种研磨垫，其特征在于，适用于具有旋转方向的研磨设备，包括：研磨层，具有研磨面及背面，其中所述研磨层的所述背面具有螺旋波纹，其中从所述研磨垫俯视方向，所述螺旋波纹由中心向外具有偏斜方向，所述偏斜方向与所述研磨设备的所述旋转方向相反。2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述螺旋波纹具有间距，所述间距大于或等于0.1mm。3.根据权利要求2所述的研磨垫，其特征在于，所述螺旋波纹的所述间距为固定，使所述螺旋波纹规则性地分布在所述研磨层的所述背面。4.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，还包括检测窗，位于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：白昆哲，简毅，
申请(专利权)人：智胜科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71