光阻涂布设备及涂布方法技术

本发明专利技术公开了一种光阻涂布设备，包括：工作台，工作台上表面间隔地开设有多个用于朝上方的基板吹气使基板悬浮的喷气孔；喷头组件，包括移动架和喷头，移动架的移动方向垂直于其长度方向，喷头用于朝基板喷涂光阻材料；检测单元，固定在喷头组件上，用于检测喷头顶部与基板之间的距离；控制器，用于根据检测单元的检测结果控制喷气孔的喷出压力，以调整基板的悬浮高度。本发明专利技术的光阻涂布设备可以使基板悬浮于工作台上方，并利用喷头朝基板喷涂光阻材料，避免了基板与工作平台直接接触产生静电，也避免了喷头或基板损伤，保证了光阻涂布厚度和品质。同时，可在光阻涂布前对基板与喷头之间的距离进行校准，进一步保证了光阻的涂布厚度的均匀性。

Photoresist coating equipment and coating method

The invention discloses a photoresist coating apparatus includes a table, the table surface is provided with a plurality of intervals for blowing towards the top of the substrate of the jet hole substrate suspension; nozzle assembly includes a movable frame and a nozzle moving direction of the movable frame is perpendicular to the length direction, the nozzle toward the substrate spray photoresist; detection unit is fixed on the spray nozzle component, for detection of the nozzle and the substrate from the top; the controller, according to the results of spray pressure detection unit control jet hole, in order to adjust the substrate suspension height. The photoresist coating device of the invention can suspend the substrate above the worktable, and spray the photo resist material on the substrate with the spray head, avoiding the direct contact between the substrate and the working platform, resulting in static electricity, and avoiding damage to the sprinkler head or substrate, so as to ensure the thickness and quality of the photoresist coating. At the same time, the distance between the base plate and the nozzle can be calibrated before the optical resistance coating, which further ensures the uniformity of the coating thickness of the photoresist.

【技术实现步骤摘要】
光阻涂布设备及涂布方法
本专利技术涉及光阻涂布
，尤其涉及一种光阻涂布设备及涂布方法。
技术介绍
CF(colorfilter，即彩色滤光片)基板是LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)用来实现彩色显示的主要器件，其基本构成通常包括：玻璃基板、黑色矩阵(BlackMatrix，即BM)、彩色色阻层等。背光源发出的光经过液晶分子的调制入射到CF基板，通过CF基板上彩色色阻层的红色色阻、绿色色阻、以及蓝色色阻的滤光作用，分别显示红，绿，蓝三种光线，不同颜色的色阻分别透射对应颜色波段的光，从而实现显示器的彩色显示。在CF制程当中，包括光阻涂布、曝光、显影等制程，其中，光阻涂布无疑是最为重要的一个环节，光阻涂布的均匀性以及光阻的厚度对于显示效果都有很重要的影响。为保证光阻涂布厚度的均一性，现有的光阻涂布机通常包括工作平台、喷头模块和喷头支架，工作平台用于放置待喷涂光阻的基板，两条喷头支架相互平行，分别位于工作平台的宽度方向的两侧，一排涂布喷头集成在条状的涂布喷头模块上，涂布喷头模块两端分别与喷头支架滑动配合，涂布喷头模块在沿基板的长度方向上来回移动的过程中喷出光阻材料，对下方的基板进行光阻的涂布。然而，此种涂布方式的基板表面极易产生一些微粒(Particle)，当微粒介入到喷头与基板之间，容易造成喷头损伤或基板出现划痕，从而影响光阻涂布厚度。同时，基板与工作平台接触还容易产生静电，从而影响光阻涂布品质。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的不足，本专利技术提供了一种光阻涂布设备及涂布方法，可以避免光阻涂布过程中产生静电，也可以保证光阻涂布厚度。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种光阻涂布设备，包括：工作台，所述工作台上表面间隔地开设有多个用于朝上方的基板吹气使所述基板悬浮的喷气孔；喷头组件，包括沿水平方向上可移动地设于所述工作台上方的移动架和沿所述移动架长度方向线性布置在所述移动架底部的至少一排喷头，所述移动架的移动方向垂直于所述移动架的长度方向，所述喷头用于朝所述基板喷涂光阻材料；检测单元，固定在所述喷头组件上，用于检测所述喷头顶部与所述基板之间的距离；控制器，用于根据所述检测单元的检测结果控制所述喷气孔的喷出压力，以调整所述基板的悬浮高度。作为其中一种实施方式，所述喷头为多排，阵列设置在所述喷头组件下表面。作为其中一种实施方式，所述检测单元固定在所述喷头组件侧面。作为其中一种实施方式，所述喷头包括喷腔和连接在所述喷腔底部的喷嘴，所述检测单元伸入所述喷腔底部与所述工作台之间，用于检测所述喷腔底部与所述基板之间的距离。作为其中一种实施方式，所述检测单元为两个，分别设于所述喷头组件的两端。作为其中一种实施方式，所述工作台上表面还间隔地开设有多个吸气孔。作为其中一种实施方式，所述喷气孔阵列设置，所述吸气孔为多排，每排所述吸气孔设于相邻的两排所述喷气孔之间。作为其中一种实施方式，所述喷气孔垂直于所述工作台，所述工作台上表面还开设有子喷气孔，所述子喷气孔与所述喷气孔呈一夹角设置。作为其中一种实施方式，所述的光阻涂布设备还包括多排滚轮，所述滚轮可滚动地设于所述工作台上，且所述滚轮的部分滚轮面凸出于所述工作台上表面。本专利技术的另一目的在于提供一种使用所述的光阻涂布设备的光阻涂布方法，包括测量所述喷头顶部与所述基板之间的距离，计算所述喷头端部和所述基板之间的间距，并根据所述喷头端部和所述基板之间的间距与预定间隙值的差距调整所述基板的悬浮高度，然后所述喷头开始喷涂并平移，直至喷涂完成。本专利技术的光阻涂布设备可以使基板悬浮于工作台上方，并利用喷头朝基板喷涂光阻材料，避免了基板与工作平台直接接触产生静电，也避免了喷头或基板损伤，保证了光阻涂布厚度和品质。同时，可在光阻涂布前对基板与喷头之间的距离进行校准，进一步保证了光阻的涂布厚度的均匀性。附图说明图1为本专利技术实施例1的光阻涂布设备的工作状态示意图；图2为本专利技术实施例1的喷头与基板的位置关系示意图；图3为本专利技术实施例1的检测单元的安装位置示意图；图4为本专利技术实施例1的检测单元的检测光路示意图；图5为本专利技术实施例1的光阻涂布设备的侧面示意图；图6为本专利技术实施例1的工作台的俯视图；图7为本专利技术实施例1的光阻涂布方法流程图；图8为本专利技术实施例2的光阻涂布设备的工作状态示意图；图9为本专利技术实施例2的一种工作台的俯视图；图10为本专利技术实施例3的一种工作台的俯视图。具体实施方式在本专利技术中，术语“设置”、“设有”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。另外，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本专利技术及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本专利技术中的具体含义。为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。实施例1参阅图1和图2，本实施例的光阻涂布设备包括工作台10、喷头组件20、检测单元30以及控制器(图未示)，其中，工作台10的上表面间隔地开设有多个用于朝上方的基板1吹气使基板1悬浮的喷气孔11，喷头组件20包括移动架21和喷头200，移动架21沿水平方向上可移动地设于工作台10上方，至少一排喷头200沿移动架21的长度方向线性布置在移动架21的底部，移动架21的移动方向垂直于移动架21的长度方向，喷头200用于朝基板1喷涂光阻材料。检测单元30固定在喷头组件20上，用于检测喷头200顶部与基板1之间的距离，控制器用于根据检测单元30的检测结果控制喷气孔11的喷出压力，以调整基板1的悬浮高度，保证喷头200末端与基板1之间的距离始终保持在恒定值，从而使得光阻喷涂厚度始终一致。为提高喷涂效率，喷头200最好是设置成多排，若干喷头200阵列设置在喷头组件20下表面，可以提高一次喷涂的基板的面积。结合图3所示，检测单元30固定在喷头组件20侧面，喷头200包括喷腔201和连接在喷腔201底部的喷嘴202，喷腔201内开设有容纳光阻的空间和底部的喷嘴安装通道，喷嘴202安装到喷腔201底部的喷嘴安装通道处，检测单元30伸入喷腔201底部与工作台10之间，用于检测喷腔201底部的喷嘴202与基板1之间的距离(即涂布间隙G)。如图4所示，优选该检测单元30为光线传感器，包括光线发射单元31、光线接收单元32和设于光线发射单元31和光线接收单元32的光路上的众多光学元器件，光学元器件包括振镜33和透镜34，光线发射单元3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻涂布设备，其特征在于，包括：工作台(10)，所述工作台(10)上表面间隔地开设有多个用于朝上方的基板(1)吹气使所述基板(1)悬浮的喷气孔(11)；喷头组件(20)，包括沿水平方向上可移动地设于所述工作台(10)上方的移动架(21)和沿所述移动架(21)长度方向线性布置在所述移动架(21)底部的至少一排喷头(200)，所述移动架(21)的移动方向垂直于所述工作台(10)的长度方向，所述喷头(200)用于朝所述基板(1)喷涂光阻材料；检测单元(30)，固定在所述喷头组件(20)上，用于检测所述喷头(200)顶部与所述基板(1)之间的距离；控制器，用于根据所述检测单元(30)的检测结果控制所述喷气孔(11)的喷出压力，以调整所述基板(1)的悬浮高度。

【技术特征摘要】
1.一种光阻涂布设备，其特征在于，包括：工作台(10)，所述工作台(10)上表面间隔地开设有多个用于朝上方的基板(1)吹气使所述基板(1)悬浮的喷气孔(11)；喷头组件(20)，包括沿水平方向上可移动地设于所述工作台(10)上方的移动架(21)和沿所述移动架(21)长度方向线性布置在所述移动架(21)底部的至少一排喷头(200)，所述移动架(21)的移动方向垂直于所述工作台(10)的长度方向，所述喷头(200)用于朝所述基板(1)喷涂光阻材料；检测单元(30)，固定在所述喷头组件(20)上，用于检测所述喷头(200)顶部与所述基板(1)之间的距离；控制器，用于根据所述检测单元(30)的检测结果控制所述喷气孔(11)的喷出压力，以调整所述基板(1)的悬浮高度。2.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其特征在于，所述喷头(200)为多排，阵列设置在所述喷头组件(20)下表面。3.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其特征在于，所述检测单元(30)固定在所述喷头组件(20)侧面。4.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其特征在于，所述喷头(200)包括喷腔(201)和连接在所述喷腔(201)底部的喷嘴(202)，所述检测单元(30)伸入所述喷腔(201)底部与所述工作台(10)之间，用于检测所述喷腔(201)底部与所述基板(1)...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚成波，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42