A quantum dot AAO surface film, quantum dot film lens, preparation method, quantum dot conversion white light LED, and encapsulation method, which relate to the field of white light LED display and lighting. Quantum dots AAO surface film comprises a porous anodic alumina film array surface or plane, the radius of curvature of porous anodic alumina film array is equal to the radius of curvature of the inner surface of the lens, a quantum dot nanocrystals embedded in porous anodic alumina film array, the quantum dot AAO surface can be encapsulated in a thin film of quantum dots, and can improve the heat dissipation the efficiency of quantum dots; process for preparation of AAO quantum dots surface film is simple, can be made of the surface film of quantum dots encapsulated in the. The quantum dot thin film lens includes a cap shaped lens and the above quantum dots AAO surface film. The quantum dot AAO surface film is bonded to the inner surface of the lens. The quantum dot thin film lens is used for packaging and forming quantum dots to convert white LED.
【技术实现步骤摘要】
量子点AAO曲面薄膜、量子点薄膜透镜、制备方法及量子点转换白光LED、封装方法
本专利技术涉及白光LED显示与照明领域,且特别涉及一种量子点AAO曲面薄膜、量子点薄膜透镜、制备方法及量子点转换白光LED、封装方法。
技术介绍
近年来,量子点材料逐渐受到重视,特别是量子点具有光谱随尺寸可调、发光半峰宽窄、斯托克斯位移大、激发效率高等一系列独特的光学性能,受到LED与LCD背光行业的广泛关注。目前商业化的显示照明用白光LED采用蓝光芯片激发黄色荧光粉进行混光得到,虽然通过高显色荧光粉掺杂能够得到较高显色指数Ra,但受到材料本身能级结构限制,发射谱太宽,单色性较差,尤其特殊显色指数R9值难以大幅度提升,色域覆盖面积不宽。为此,引入量子点调节LED的显色性能,是该类器件的未来发展方向。量子点材料的可靠封装成为封装量子点转换白光LED过程中需要考虑的重要问题。基于on-chip方式的量子点转换白光LED不但封装简单,而且能够直接利用现有的大功率LED封装工艺,快速实现商业化,是目前该领域研究的主流。然而由于量子点材料的温度稳定性差,而且量子点材料进行光转换过程中光致发热较严重,量子点的自吸收使得其本身温度呈现不断升高的趋势,过高的温度一方面导致量子点发生热猝灭,另一方面使得光转换效率下降,形成恶性循环,严重影响器件的光学性能。因此,需要一种能提高量子点材料的光-热稳定性,增强器件可靠性的封装方式。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种量子点AAO曲面薄膜,其能够将量子点封装其中,同时可提高量子点的散热效率。本专利技术的另一目的在于提供一种量子点AAO曲面薄膜的制备 ...
【技术保护点】
一种量子点AAO曲面薄膜,其特征在于,其包括呈曲面或平面的多孔阵列阳极氧化铝薄膜,所述多孔阵列阳极氧化铝薄膜的曲率半径等于透镜内表面的曲率半径,所述多孔阵列阳极氧化铝薄膜的孔道内嵌有量子点纳米晶。
【技术特征摘要】
1.一种量子点AAO曲面薄膜,其特征在于,其包括呈曲面或平面的多孔阵列阳极氧化铝薄膜,所述多孔阵列阳极氧化铝薄膜的曲率半径等于透镜内表面的曲率半径,所述多孔阵列阳极氧化铝薄膜的孔道内嵌有量子点纳米晶。2.一种如权利要求1所述的量子点AAO曲面薄膜的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:在外表面呈曲面的Al基板上生长形成多孔阵列阳极氧化铝薄膜,所述Al基板外表面的曲率半径等于透镜内表面的曲率半径;在所述多孔阵列阳极氧化铝薄膜的孔道内均匀嵌入量子点纳米晶。3.根据权利要求2所述的量子点AAO曲面薄膜的制备方法,其特征在于,所述多孔阵列阳极氧化铝薄膜的生长方法为:取纯度≥99.999%的Al基板,去油、去氧化层、抛光,得到预处理后的Al基板;将预处理后的Al基板进行两次阳极氧化,得到生长有氧化铝薄膜的Al基板;将生长有氧化铝薄膜的Al基板进行处理,去除Al基板。4.根据权利要求3所述的量子点AAO曲面薄膜的制备方法,其特征在于,预处理的方式是:将Al基板,首先用质量分数为92%~97%的丙酮溶液超声15~25分钟,其次用蒸馏水冲洗;再置于浓度为0.8~1.2mol/L的NaOH溶液中8~13分钟,用蒸馏水洗净;之后于450~520℃退火3~4小时,冷却;接着在0℃下,置于体积比[V(C2H5OH):V(HClO4)=3~4:1]的混合溶液中恒压电化学抛光,电压8~12V,抛光4~6分钟。5.根据权利要求3所述的量子点AAO曲面薄膜的制备方法,其特征在于,两次阳极氧化的方法是:采用0℃,浓度为0.2~0.4mol/L的H2C2O溶液做电解液,铅板做阴极,电压3...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈全,王闵,陈青山,夏杭,
申请(专利权)人:武汉纺织大学,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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