一种防止衬底背面溶液扩散的平台制造技术

本发明专利技术提供一种防止衬底背面溶液扩散的平台，用于衬底底面的平面支撑定位，包括平台本体，所述平台本体上设有低于平台本体表面的疏液槽，所述疏液槽设置在两相邻衬底的接合处。疏液槽可以有效避免在两个衬底样片间的狭缝透过的溶液对背面的污染，减少透过溶液对吸附通道系统的影响，提升产品品质，提高了生产效率。

A platform for preventing the diffusion of a substrate on the back of a solution

The invention provides a substrate to prevent back diffusion of solution of the platform, the bottom surface of the support substrate for plane positioning, including platform body, the platform body is provided with a lower tank surface sparsely platform main body, the sparse set in the joint of the two tank adjacent the substrate. Sparse liquid can effectively avoid the two slit between the sample substrate through the solution on the back of the pollution reduction through the solution on the adsorption effect of channel system, improve product quality, improve production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种防止衬底背面溶液扩散的平台
本专利技术涉及一种平板涂布设备，具体是一种防止衬底背面溶液扩散的平台。
技术介绍
挤压式涂布方式以其精确的膜质可控性，被广泛利用于新型薄膜太阳能电池、新型显示材料、光学功能膜、环保渗透膜等新型行业领域。并排放置在涂布平台的柔性基板或者刚性衬底在完成涂布的过程中，如图1中，因为相邻A、B两片衬底间存在微小缝隙，导致涂布溶液透过缝隙而污染到衬底背面。如果平台是吸附平台，那么透过的溶液也有可能被吸附到排空管路中，这样可能造成管道或者真空泵的腐蚀。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足，本专利技术的目的是提供了一种防止衬底背面溶液扩散的平台。为达到上述目的，本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种防止衬底背面溶液扩散的平台，用于衬底底面的平面支撑定位，包括平台本体，所述平台本体上设有低于平台本体表面的疏液槽，所述疏液槽设置在两相邻衬底的接合处。本专利技术相较于现有技术，疏液槽可以有效避免在两个衬底样片间的狭缝透过的溶液对背面的污染，减少透过溶液对吸附通道系统的影响，提升产品品质，提高了生产效率。进一步地，所述疏液槽为一道条状凹槽，条状凹槽中心位置对应于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防止衬底背面溶液扩散的平台，用于衬底底面的平面支撑定位，包括平台本体，其特征在于，所述平台本体上设有低于平台本体表面的疏液槽，所述疏液槽设置在两相邻衬底的接合处。

【技术特征摘要】
1.一种防止衬底背面溶液扩散的平台，用于衬底底面的平面支撑定位，包括平台本体，其特征在于，所述平台本体上设有低于平台本体表面的疏液槽，所述疏液槽设置在两相邻衬底的接合处。2.根据权利要求1所述的防止衬底背面溶液扩散的平台，其特征在于，所述疏液槽为一道条状凹槽，条状凹槽中心位置对应于相邻衬底的接合处。3.根据权利要求2所述的防止衬底背面溶液扩散的平台，其特征在于，所述条状凹槽的横截面成圆弧形或梯形。4.根据权利要求1所述的防止衬底背面溶液扩散的平台，其特征在于，所述疏液槽为多道并行设置的条状凹槽，相邻条状凹槽之间的连接处表面与所述平台本体处于同一平面高度。5.根据权利要求4所述的防止衬底背面溶液扩散的平台，其特征在于，所述疏液槽的端部设有汇流槽。6.根据权利要求5所述的防止衬底背面溶液扩散的平台，其特征在于，所述汇流槽内设有液位传感器，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯宗宝，欧阳俊波，张海銮，程园园，章婷，刘德昂，曲亚东，钱磊，张德龙，
申请(专利权)人：苏州威格尔纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32