结构改进的帽子制造技术

技术编号:167933 阅读:148 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术为一种结构改进的帽子,尤指一种具有较佳透气性和舒适性的帽体结构设计。本实用新型专利技术主要是在帽体的后下缘部延伸一适当长度的摺体部,该摺体部两侧与帽檐缘布间设有气缝,而松紧带则缝设于摺体部内,以此构成一结构独特,兼具透气性和舒适性于一体的新颖帽体设计。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种帽子,具体地说,是指具有较佳透气性和舒适性的结构改进的帽子
技术介绍
一般常见的帽子,如图1所示,其帽体10内下周缘所设的松紧带11为整条相同材质的伸缩带,该松紧带直接缝设于帽体10内下周缘,此种设计虽具有松紧伸缩效果,但透气性和吸汗性较差,且松紧带10直接接触头部,使戴用者有不舒适之感;另一种常见的帽子如图2所示,其设计上是在帽体10内下周缘缝设一圈伸缩带12,并在该伸缩带上方的帽体10内设洞孔13,以此达到松紧和透气的效果,但伸缩带较窄,松紧效果不佳;图3所示则又为另一种常见的帽子,该帽子采用部分伸缩带14的设计,显然松紧效果不佳,且具有上述常见帽子使用上的缺点。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种结构改进的帽子,经独特的帽体结构设计,使其具有较佳透气性和戴用舒适性。为达上述目的,本技术的帽子在帽体的后下缘部延伸一适当长度的摺体部,该摺体部两侧与帽檐缘布设有气缝,而松紧带的两侧缝于帽檐缘布内,其中段部分则以摺体部摺覆缝于摺体部内,以此构成透气、吸汗、戴用更为舒适的帽体结构。本技术具有优良的伸缩松紧性,整体透气性和吸汗性好,使用者佩戴更舒适。附图说明图1是常见帽子1的立体图。图2是常见帽子2的立体图。图3是常见帽子3的立体图。图4是本技术的帽子的立体图。图5是本技术的帽子侧视图。图6是本技术的帽子掀开示意图。图7是本技术的帽子实施例图。图8是本技术的帽子另一实施例图。具体实施方式以下结合附图,对本技术的结构设计特征做进一步说明见图4所示为本技术的立体图、图5为本技术的侧视图、图6为本技术的掀开示意图。如图所示,本技术在结构设计上主要是在帽体20的后下缘部延伸一适当长度的摺体部21,该摺体部21两侧与帽檐缘布22间设有气缝23、24,而本技术的松紧带25的两侧缝设于帽檐缘布22内,该松紧带25中段部分以摺体部21摺覆缝于摺体部21内,以此构成一外形独特、戴用舒适透气的新颖帽体设计;使用者的头部不会因直接与松紧带25摩擦而造成不适,且本技术两侧的气缝23、24使透气性更佳,戴用上更具有优良的伸缩松紧性和舒适性。如图7所示,本技术缝设于摺体部21的松紧带结构也可为两侧为布中段为伸缩带的松紧带26型式;或如图8所示,该结构亦可作整条为伸缩带的松紧带27型式,使用上均可发挥其优异的效果。综上所述,本技术凭借其优异的帽体改进设计,突破一般常用的型式,使整体呈现不同的构体面貌,使用上更具优良的透气性和戴用舒适性。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种结构改进的帽子,其特征在于:帽体的后下缘部延伸一适当长度的摺体部,该摺体部两侧与帽檐缘布间开设气缝,松紧带的两侧缝设于帽檐缘布内,而其中段部分以摺体部摺覆缝设于摺体部内。

【技术特征摘要】
一种结构改进的帽子,其特征是在于帽体的后下缘部延伸一适当长度的摺体部,该摺体部两侧与帽...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖松岳
申请(专利权)人:全成制帽厂股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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