水底设备自清洁装置制造方法及图纸

技术编号:16737514 阅读:41 留言:0更新日期:2017-12-08 14:42
本实用新型专利技术提供了一种水底设备自清洁装置,包括:电机、联动部件、衬体和清洁件;所述电机、所述联动部件和所述衬体位于水底设备内部,所述清洁件位于水底设备外部;所述衬体和所述清洁件通过磁力相互吸引;所述联动部件的一端与所述电机的转轴连接,所述联动部件的另一端与所述衬体连接。当水底设备自清洁装置的电机转动时带动清洁件擦刷水底设备的外壁。该装置具有安全可靠,成本低,实现简单,性能价格比高,可适用于高压强大水深的情况。

【技术实现步骤摘要】
水底设备自清洁装置
本技术涉及自清洁装置,特别涉及水底设备自清洁装置。
技术介绍
随着科技的进步,人类对海洋资源的开发越来越关注。人类对于海洋生物资源的认识和了解都需要借助海底探测设备。海底探测设备大多为圆柱形结构,传感器光学窗口设置在海底探测设备的顶面或者侧面上。海底探测设备放置在海底后,通过海底设备上开设的传感器光学窗口收集海底信息。由于海底探测设备长期放置在海底,没有人员进行清洁管理,传感器光学窗口容易被海底附作物覆盖,导致海底探测设备的某些功能不能正常工作。由于海底压强是陆地海平面的几百倍,派遣清洁人员到海底进行清理需要使用专门的潜水装置,清洁成本太高;通过在海底探测设备上穿孔安装清洁装置会导致海底探测设备穿孔位置的活动部件的结合部防水难度很大,制造成本很高。如何提供一种成本低,实现简单的清洁装置用于清除探测光学窗口上的附作物是当前亟待解决的一个问题。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷,本技术提出了一种水底设备自清洁装置,用以克服现有技术中的缺陷,提供一种安全可靠,成本低,实现简单,性能价格比高,可适用于高压强大水深的情况,不需要复杂的海底设备自清洁装置。本技术提供了一种水底设备自本文档来自技高网...
水底设备自清洁装置

【技术保护点】
一种水底设备自清洁装置,其特征在于,包括:电机、联动部件、衬体和清洁件;所述电机、所述联动部件和所述衬体位于水底设备内部,所述清洁件位于所述水底设备外部;所述衬体和所述清洁件通过磁力相互吸引;所述联动部件的一端与所述电机的转轴连接,所述联动部件的另一端与所述衬体连接。

【技术特征摘要】
1.一种水底设备自清洁装置,其特征在于,包括:电机、联动部件、衬体和清洁件;所述电机、所述联动部件和所述衬体位于水底设备内部,所述清洁件位于所述水底设备外部;所述衬体和所述清洁件通过磁力相互吸引;所述联动部件的一端与所述电机的转轴连接,所述联动部件的另一端与所述衬体连接。2.根据权利要求1所述的水底设备自清洁装置,其特征在于,所述电机为步进电机。3.根据权利要求1所述的水底设备自清洁装置,其特征在于,所述水底设备自清洁装置还包括定时器,所述定时器控制所述电机定时自动转动。4.根据权利要求1所述的水底设备自清洁装置,其特征在于,所述清洁件为长条形。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:范世杰
申请(专利权)人:深圳市朗信浩通科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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