半导体精密部件超声波振荡清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开一种半导体精密部件超声波振荡清洗机，清洗机包括水箱主体和顶边，水箱主体呈槽状，顶边固定安装在水箱主体顶部，水槽底部固定安装有超声波振荡器，水槽内设有进水口，水箱主体内侧上方固定设有溢流板，溢流板与水箱主体之间形成有溢流槽，溢流槽底部开设有出水口，溢流板顶部呈锯齿状。本实用新型专利技术采用水箱式结构，不仅简化了结构，还能使清洗效果更好，其顶部采用溢流槽结构设计可使上端的漂浮物随水流飘走，而不是采用流水冲洗方式，从而节约水资源。

【技术实现步骤摘要】
半导体精密部件超声波振荡清洗机
本技术公开一种清洗机，特别是一种半导体精密部件超声波振荡清洗机，属于特种清洗机械

技术介绍
随着半导体技术的不断发展，半导体在人们生活中的应用越来越广泛，随之而来的就是半导体的加工行业也得到了很大的发展，由于半导体属于精密部件，其加工过程有着严格的要求，因此对其加工机械的精度等也有很高要求，对半导体加工机械中的精密部件需要定期进行清洗，以维持其光洁度，从而保证加工质量。超声波清洗在半导体精密部件的清洗中占有很重要的地位，常规的超声波清洗机结构复杂，操作不便，而且清洗效果较差，对水资源浪费较多。
技术实现思路
针对上述提到的现有技术中的半导体加工机械中的精密部件清洗时采用的超声波清洗机结构复杂的缺点，本技术提供一种半导体精密部件超声波振荡清洗机，其采用水箱式结构，不仅简化了结构，还能使清洗效果更好。本技术解决其技术问题采用的技术方案是：一种半导体精密部件超声波振荡清洗机，清洗机包括水箱主体和顶边，水箱主体呈槽状，顶边固定安装在水箱主体顶部，水槽底部固定安装有超声波振荡器，水槽内设有进水口，水箱主体内侧上方固定设有溢流板，溢流板与水箱主体之间形成有溢流槽，溢流槽底部开设有出水口，溢流板顶部呈锯齿状。本技术解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括：所述的超声波振荡器设有一个以上，一个以上的超声波振荡器平行设置。所述的进水口呈“L”形，进水口朝下设置。所述的水槽内设有支撑架，支撑架设置在超声波振荡器上方。所述的水槽内部固定安装有水位检测器。所述的顶边上安装有两条滑轨，两条滑轨平行设置，每条滑轨上安装有一个以上的滑块，滑块上固定安装有支撑杆，支撑杆横跨在水槽上方，支撑杆两端分别安装在两条滑轨上的对应的滑块上，支撑杆上安装有遮挡幔。所述的顶边顶部固定安装有滑轨安装座，滑轨安装在滑轨安装座上。所述的水箱主体底部固定安装有支撑脚。本技术的有益效果是：本技术采用水箱式结构，不仅简化了结构，还能使清洗效果更好，其顶部采用溢流槽结构设计可使上端的漂浮物随水流飘走，而不是采用流水冲洗方式，从而节约水资源。下面将结合附图和具体实施方式对本技术做进一步说明。附图说明图1为本技术立体结构示意图。图2为本技术俯视结构示意图。图3为本技术剖面结构示意图。图中，1-水箱主体，2-支撑脚，3-水槽，4-顶边，5-滑轨，6-滑轨安装座，7-滑块，8-支撑杆，9-溢流板，10-溢流槽，11-进水口，12-水位检测器，13-超声波振荡器，14-支撑架。具体实施方式本实施例为本技术优选实施方式，其他凡其原理和基本结构与本实施例相同或近似的，均在本技术保护范围之内。请参看附图1、附图2和附图3，本技术主要包括水箱主体1和顶边4，水箱主体1呈槽状，内部为用于盛水的水槽3，顶边4固定安装在水箱主体1顶部，水槽3底部固定安装有超声波振荡器13，超声波振荡器13设有一个以上，多个超声波振荡器13平行设置，水槽3内设有进水口11，本实施例中，进水口11呈“L”形，其出口朝下，则可使从进水口流入的水流直接朝向下方流入，再从下方向上漫溢，可保持顶部溢出的水流相对稳定。本实施例中，在水箱主体1内侧上方（即水槽3上方）固定设有溢流板9，溢流板9与水箱主体1之间形成一个溢流槽10，当水槽3内的水灌满时，顶部的水携带清洗掉的漂浮的杂质从溢流板9流入溢流槽10内，从溢流槽10内流走，溢流槽10底部开设有出水口（图中未画出），用于污水排放。本实施例中，溢流板9顶部呈锯齿状（或者称为三角波形），溢流时，污水从溢流板9的缝隙处流走。本实施例中，水槽3内设有支撑架14，支撑架14设置在超声波振荡器13上方，使用时，可将工件放置在支撑架14上，以防止其在清洗时对超声波振荡器13产生损坏。本实施例中，在水槽3内部固定安装有水位检测器12，可用于检测水槽3内的水位情况，当水槽3内的水位低于水位检测器12时，则说明水槽3内水量过少，控制器控制超声波振荡器13停止工作，并发出警报提醒工作人员，本实施例中，水位检测器12的安装高度可根据实际需要具体设定。本实施例中，在顶边4的两个平行的边上分别固定安装有一个滑轨5，即在顶边4上安装有两条滑轨5，两条滑轨5平行设置，顶边4顶部固定安装有滑轨安装座6，滑轨5安装在滑轨安装座6上，即滑轨5通过滑轨安装座6固定安装在顶边4上，每条滑轨5上安装有一个以上的滑块7，滑块7可沿着滑轨5来回滑动，本实施例中，滑块7上固定安装有支撑杆8，支撑杆8横跨在水槽3上方，支撑杆8两端对应安装在两条滑轨5上的对应的滑块7上。支撑杆8上安装有遮挡幔，用于挡住水槽3顶部，防止水槽3内的水飞溅出来。本实施例中，水箱主体1底部固定安装有支撑脚2，用于将本技术撑起，可防止因地面不平而对水箱主体1底部造成损坏。本技术在使用时，推开支撑杆8，将遮挡幔打开，露出水槽3，将工件放入水槽3内的支撑架14上，拉动支撑杆8，通过遮挡幔将水槽3顶部遮挡住，进行超声波振荡清洗，清洗过程中，进水口11不断的往水槽3内通入清水，当水槽3内的水漫过溢流板9时，水会夹带着杂质流入溢流槽10内流走，完成清洗。本技术采用水箱式结构，不仅简化了结构，还能使清洗效果更好，其顶部采用溢流槽结构设计可使上端的漂浮物随水流飘走，而不是采用流水冲洗方式，从而节约水资源。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体精密部件超声波振荡清洗机，其特征是：所述的清洗机包括水箱主体和顶边，水箱主体呈槽状，顶边固定安装在水箱主体顶部，水槽底部固定安装有超声波振荡器，水槽内设有进水口，水箱主体内侧上方固定设有溢流板，溢流板与水箱主体之间形成有溢流槽，溢流槽底部开设有出水口，溢流板顶部呈锯齿状。

【技术特征摘要】
1.一种半导体精密部件超声波振荡清洗机，其特征是：所述的清洗机包括水箱主体和顶边，水箱主体呈槽状，顶边固定安装在水箱主体顶部，水槽底部固定安装有超声波振荡器，水槽内设有进水口，水箱主体内侧上方固定设有溢流板，溢流板与水箱主体之间形成有溢流槽，溢流槽底部开设有出水口，溢流板顶部呈锯齿状。2.根据权利要求1所述的半导体精密部件超声波振荡清洗机，其特征是：所述的超声波振荡器设有一个以上，一个以上的超声波振荡器平行设置。3.根据权利要求1所述的半导体精密部件超声波振荡清洗机，其特征是：所述的进水口呈“L”形，进水口朝下设置。4.根据权利要求1所述的半导体精密部件超声波振荡清洗机，其特征是：所述的水槽内设有支撑架，支...

【专利技术属性】
技术研发人员：张远，熊志红，
申请(专利权)人：深圳仕上电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44