具有原位沉积功能的带电粒子显微镜制造技术

一种带电粒子显微镜，包括真空室，在该真空室中提供了：—样本保持器，其用于将样本保持在照射位置；—粒子光学柱，其用于产生带电粒子束并引导该带电粒子束从而照射该样本；—检测器，其用于响应于被所述射束照射来检测从样本发出的辐射通量，其中：—所述真空室包括原位磁控管溅射沉积模块，其包括用于产生目标材料的蒸气流的磁控管溅射源；—载台被配置成使包括所述样本的至少一部分的样品在所述照射位置与所述沉积模块处的单独沉积位置之间移动；—所述沉积模块被配置成当所述样品被保持在所述沉积位置处时将一层所述目标材料沉积到所述样品上。

Charged particle microscope with in situ deposition function

A charged particle microscope, which comprises a vacuum chamber, provided in the vacuum chamber: a sample holder, which is used for the sample in the irradiation position; particle optical column, for generating a beam of charged particles and the charged particle beam irradiation so as to guide the sample; - detector for response to the the beam to detect radiation emitted from the sample, including: the vacuum chamber comprises in situ magnetron sputtering deposition module, comprising a magnetron sputtering source for generating the target material vapor flow; - loading station is configured so that the sample comprising at least a portion of the sample between the deposition location in the irradiation alone the position and the deposition at the mobile module; - the deposition module is configured to when the sample is kept in the deposition position of a layer of material is deposited onto the target On the sample.

【技术实现步骤摘要】
具有原位沉积功能的带电粒子显微镜本专利技术涉及一种带电粒子显微镜，包括真空室，在该真空室中提供了：—样本保持器，其用于将样本保持在照射位置；—粒子光学柱，其用于产生带电粒子束并引导该带电粒子束从而照射该样本；—检测器，其于响应于被所述射束照射来检测从样本发出的辐射通量。本专利技术还涉及一种使用此类带电粒子显微镜的方法。带电粒子显微术是用于特别是以电子显微术的形式对显微对象进行成像的众所周知且越来越重要的技术。历史上，电子显微镜的基本种类已经经历到许多众所周知的设备类别的演进，所述众所周知的设备类别诸如透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）以及扫描透射电子显微镜（STEM），并且还演进为各种子类，诸如所谓的“双束”工具（例如FIB-SEM），其另外采用“加工”聚焦离子束（FIB），例如允许诸如离子束铣削或离子束诱导沉积（IBID）之类的支持性活动。更具体地：在SEM中，通过扫描电子束进行的样本照射例如以次级电子、背散射电子、X射线和阴极发光（红外、可见和/或紫外光子）的形式沉淀“辅助”辐射从样本的发出；然后出于图像累积的目的检测并使用此发出辐射的一个或多个分量。—在TEM中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带电粒子显微镜，包括真空室，在该真空室中提供了：—样本保持器，其用于将样本保持在照射位置；—粒子光学柱，其用于产生带电粒子束并引导该带电粒子束从而照射该样本；—检测器，其用于响应于被所述射束照射来检测从样本发出的辐射通量，其特征在于：—所述真空室包括原位磁控管溅射沉积模块，其包括用于产生目标材料的蒸气流的磁控管溅射源；—载台被配置成使包括所述样本的至少一部分的样品在所述照射位置与所述沉积模块处的单独沉积位置之间移动；—所述沉积模块被配置成当所述样品被保持在所述沉积位置处时将一层所述目标材料沉积到所述样品上。

【技术特征摘要】
2016.05.27 EP 16171645.11.一种带电粒子显微镜，包括真空室，在该真空室中提供了：—样本保持器，其用于将样本保持在照射位置；—粒子光学柱，其用于产生带电粒子束并引导该带电粒子束从而照射该样本；—检测器，其用于响应于被所述射束照射来检测从样本发出的辐射通量，其特征在于：—所述真空室包括原位磁控管溅射沉积模块，其包括用于产生目标材料的蒸气流的磁控管溅射源；—载台被配置成使包括所述样本的至少一部分的样品在所述照射位置与所述沉积模块处的单独沉积位置之间移动；—所述沉积模块被配置成当所述样品被保持在所述沉积位置处时将一层所述目标材料沉积到所述样品上。2.根据权利要求1所述的显微镜，其中，所述沉积模块包括限制孔径，其布置在所述溅射源与所述沉积位置之间，用于限制在所述沉积位置处呈现的所述蒸气流的影响范围。3.根据权利要求1或2所述的显微镜，其中，所述沉积模块包括围绕所述沉积位置的周界的套罩，以用于减少所述蒸气流到所述真空室的迁移。4.根据权利要求1—3中的任一项所述的显微镜，其中，所述沉积模块包括管状构件，其被配置成使得：—所述溅射源被布置为邻近于所述管状构件的第一末端；—所述沉积位置被布置为邻近于所述管状构件的第二、相对末端。5.根据权利要求1—4中的任一项所述的显微镜，其为双射束显微镜，其包括：—电子光学柱，其用于产生电子束并引导该电子束从而照射该样本；—离子光学柱，其用于产生离子束并引导该离子束从而照射该样本。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：J米特彻斯，R沙姆佩斯，M赫劳泽克，T加德卡，
申请(专利权)人：FEI公司，
类型：发明
国别省市：美国,US