金离子石墨烯的制造方法技术

本发明专利技术公开一种金离子石墨烯的制造方法及其应用，该制造方法包括以下过程：将石墨烯加入渗透剂中进行分散，渗透剂为非离子螯合物；向混合物中加入金离子化合物溶液进行进一步的分散，实现金离子化合物溶液均匀分散于石墨烯上，让石墨烯晶格充分接触金离子；将充分接触金离子的混合物料放入反应釜内进行离子渗入反应；将生成金离子石墨烯溶液烘干成成品，测定是否达到出厂参数，并将达标产品封装。本发明专利技术主要是在石墨烯晶格上镶嵌入金离子，并将金离子石墨烯代替黄金作为镀膜在电子零件的接线点位上使用。本发明专利技术的金离子石墨烯不仅带有黄金物质的特点，还附加了石墨烯的功能，填补了黄金物质在应用上的不足之处，在应用上更加稳定，散热功能和导电质量更好。

The manufacturing method of gold ion graphene

The invention discloses a manufacturing method of gold ions of graphene and its application, the manufacturing method comprises the following steps: adding graphene was dispersed in the penetrant penetrant, non ion chelate; adding gold ion compound solution to the mixture further dispersed, gold ion compound solution dispersed on graphene so, the graphene lattice full contact gold ions; mixed material will make full contact with gold ions into a reaction kettle for ion infiltration reaction; gold ions will generate graphene solution and drying into finished products, to determine whether the factory parameters and standard product package. The invention mainly encodes gold ions on the graphene lattice, and uses gold ion graphene instead of gold as coating to connect the electronic parts. The gold ion graphene of the invention not only has the characteristics of the gold material, but also attaches the function of graphene, fills the shortcomings of the gold substance in application, and is more stable in application, and has good heat dissipation function and conductive quality.

【技术实现步骤摘要】
金离子石墨烯的制造方法
本专利技术涉及石墨烯的
，尤其涉及一种金离子石墨烯的制造方法。
技术介绍
石墨烯的应用已是全世界的关注，然而对于石墨烯的研究，还在起步阶段。石墨烯是非常有特质的二维新型材料，然而这新型材料的应用上主要在材料添加上居多，要发展更深层和带功能性方向的材料才是科技进步的方向，这就要求必须在原料上制造出带功能特性的材料。原有石墨烯制造出来的材料叫N型石墨烯，意思是说，现在的石墨烯材料作为添加用途的材料是没有带自主特性的、和本身没带离子的石墨烯叫N型石墨烯，N的意义指：不带离子特性的石墨烯noionicgraphene或中性石墨烯neutralgraphene。我们有必要在添加离子生产上做工作，做出不一样的和带功能性的石墨烯，这也是是未来必要的研究课题和应用课题。在石墨烯作产品的应用方面主要是以添加剂为主，但是，石墨烯本身带离子的功能性应用并不多。为了普及使用石墨烯带功能特性方面的应用，镶嵌离子技术就是今后的必然发展方向。在工业应用上，由以过往的机电产品的应用，到今天的电子产品应用上，在很材组件和零件关键部位上，都应用黄金材料。由于黄金稳定性强和可靠性高，随着科技发展，黄金应用越来越多，由于材料昂贵，又没有其它替代品，以致生产成本压力大。尤其是今天的电子世界上，黄金材料应用需求越来越多，增长速度越来越快。
技术实现思路
针对上述技术中存在的不足之处，本专利技术提供一种解决黄金需求问题的金离子石墨烯的制造方法。为了达到上述目的，本专利技术一种金离子石墨烯的制造方法，包括以下制作过程：S1、渗透剂分散：将石墨烯加入渗透剂中进行分散，渗透剂为非离子螯合物；S2、金离子分散：向混合物中加入金离子化合物溶液进行进一步的分散，实现金离子化合物溶液均匀分散于石墨烯上，让石墨烯晶格充分接触金离子；S3、金离子嵌入反应：将充分接触金离子的混合物料放入反应釜内进行离子渗入反应；S4、烘干：将生成金离子石墨烯溶液烘干成成品，测定是否达到出厂参数，并将达标产品封装。其中，在S1中使用的石墨烯为N型石墨烯，该N型石墨烯为四层以下的2D石墨烯材料，所述金离子化合物溶液的pH值在6.8-8.4之间。其中，在S1中的渗透剂为非离子螯合剂（NH4）4‧EDTA或（NH4）4‧PTDA。其中，在S1中渗透剂与石墨烯的混合摩尔比为2:1。其中，在S2中金离子化合物溶液与石墨烯的混合摩尔比为1:3。其中，在S3中充分接触金离子的混合物料在反应釜内首先进行真空搅拌，再进行加温加压反应。其中，真空搅拌的功率为18ps-26ps，处理时间为0.5h。其中，加温加压反应的条件为氮气加到两个大气压，温度加热到450-600℃，加温加压的反应时间为8h。本专利技术一种金离子石墨烯的应用，代替黄金应用在电子产品的零部件内。其中，金属石墨烯代替黄金应用在电子零件的接线点位处作为镀膜。本专利技术的有益效果是：与现有技术相比，本专利技术的金离子石墨烯的制造方法，主要是在石墨烯晶格上镶嵌入金离子，并将金离子石墨烯代替黄金作为镀膜在电子零件的接线点位上使用。本专利技术的金离子石墨烯不仅带有黄金物质的特点，还附加了石墨烯的功能，填补了黄金物质在应用上的不足之处，在应用上更加稳定，散热功能和导电质量更好，更是大大降低了使用成本。附图说明图1为本专利技术一种金离子石墨烯的制造方法的工艺流程图。具体实施方式为了更清楚地表述本专利技术，下面结合附图对本专利技术作进一步地描述。参阅图1，本专利技术一种金离子石墨烯的制造方法，包括以下制作过程：S1、渗透剂分散：将四层以下的2D石墨烯材料加入渗透剂中进行分散，渗透剂为非离子螯合剂（NH4）4‧EDTA或（NH4）4‧PTDA，渗透剂与石墨烯的混合摩尔比为2:1；S2、金离子分散：向混合物中加入金离子化合物溶液进行进一步的分散，实现金离子化合物溶液均匀分散于石墨烯上，让石墨烯晶格充分接触金离子，金离子化合物溶液的pH值在6.8-8.4之间，金离子化合物溶液与石墨烯的混合摩尔比为1:3；S3、金离子嵌入反应：将充分接触金离子的混合物料放入反应釜内进行离子渗入反应，首先进行真空搅拌，再进行加温加压反应，真空搅拌的功率为18ps-26ps，处理时间为0.5h，加温加压反应的条件为氮气加到两个大气压，温度加热到450-600℃，加温加压的反应时间为8h；S4、烘干：将生成金离子石墨烯溶液烘干成成品，测定是否达到出厂参数，并将达标产品封装。本专利技术还公开了一种金离子石墨烯的应用，代替黄金应用在电子产品的零部件内。具体的，金属石墨烯代替黄金应用在电子零件的接线点位处作为镀膜。相较于现有技术，本专利技术的金离子石墨烯的制造方法，主要是在石墨烯晶格上镶嵌入金离子，并将金离子石墨烯代替黄金作为镀膜在电子零件的接线点位上使用。本专利技术的金离子石墨烯不仅带有黄金物质的特点，还附加了石墨烯的功能，填补了黄金物质在应用上的不足之处，在应用上更加稳定，散热功能和导电质量更好。金离子石墨烯完全可代替现有黄金在电机和电子产品上的应用，甚至比黄金材料经济可靠。据统计在应用经济价值上，用金离子石墨烯材料来代替黄金，成本可降低十倍到五十倍不等，还有有某些组件处理上更达到成本降低一百倍以上的惊人数据，所以金离子石墨烯材料，是根本性的必需开发的材料。金离子石墨烯有着黄金材料的应用特性外，还比黄金材料的功能效益有所提升。由于石墨烯上的晶格镶了黄金离子，金离子石墨烯不但带有黄金物质的特点，还附加了石墨烯的功能，填补了黄金材料在应用上不足的地方。例如金离子石墨烯使得黄金材料更加稳定，提升散热功能和导电质量，让黄金材料导电能力提升到银材料的状态。因我们都知道、黄金的导电系数都比铜的差，铜又比银的差。如果金离子石墨烯能把黄金导电系数提升到与银相当，或是超过银，应是科技上的又一崭新领域的材料革命了。现代科技发展上，有很多精密仪器上，都应用了黄金。但是价格昂贵，而让精密仪器只用在科研上和航天科技上。如果用金离子石墨烯取代黄金材料的位置，精密仪器可大大降低成本，让应用可以普及的更加大众化。因在精密仪器上金离子石墨烯可让成本降低百倍，由以精密探头为主，而且能让精密探头提升灵敏度达十倍之高。当然金离子石墨烯的作用，不但在科技上，还有医疗治病方面都能解决现时医学上的需要，例如痛风与风湿等，和筋骨治理…以至抗癌等等。还有有日常生活中的食物加工上也是非常重要的一个环节，可以说，金离子石墨烯是未来在高端器材上提升科技的一个重要材料。以上公开的仅为本专利技术的几个具体实施例，但是本专利技术并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金离子石墨烯的制造方法，其特征在于，包括以下制作过程：S1、渗透剂分散：将石墨烯加入渗透剂中进行分散，渗透剂为亲水亲油的非离子螯合物；S2、金离子分散：向混合物中加入金离子化合物溶液进行进一步的分散，使金离子化合物溶液均匀分散于石墨烯上，让石墨烯晶格充分接触金离子；S3、金离子嵌入反应：将充分接触金离子的混合物料放入反应釜内进行离子渗入反应；S4、烘干：将生成金离子石墨烯溶液烘干成成品，测定是否达到出厂参数，并将达标产品封装。

【技术特征摘要】
1.一种金离子石墨烯的制造方法，其特征在于，包括以下制作过程：S1、渗透剂分散：将石墨烯加入渗透剂中进行分散，渗透剂为亲水亲油的非离子螯合物；S2、金离子分散：向混合物中加入金离子化合物溶液进行进一步的分散，使金离子化合物溶液均匀分散于石墨烯上，让石墨烯晶格充分接触金离子；S3、金离子嵌入反应：将充分接触金离子的混合物料放入反应釜内进行离子渗入反应；S4、烘干：将生成金离子石墨烯溶液烘干成成品，测定是否达到出厂参数，并将达标产品封装。2.根据权利要求1所述的金离子石墨烯的制造方法，其特征在于，在S1中使用的石墨烯为N型石墨烯，该N型石墨烯为四层以下的2D石墨烯材料，所述金离子化合物溶液的pH值在6.8-8.4之间。3.根据权利要求2所述的金离子石墨烯的制造方法，其特征在于，在S1中使用的渗透剂为非离子螯合剂（NH4）4‧EDTA或（NH4）4‧PTDA。4.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯良节，梁思敬，司徒若祺，
申请(专利权)人：柯良节，梁思敬，司徒若祺，
类型：发明
国别省市：中国香港,81