用于改善嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法技术

本发明专利技术涉及用于在纳米尺度上控制嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法。本发明专利技术还涉及用于控制嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的组合物，和涉及由此获得的有序膜，所述有序膜特别地可用作光刻领域中的掩模。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于改善嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法
本专利技术涉及用于在纳米尺度上改善嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法。本专利技术还涉及用于改善嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的组合物(成分)，和涉及得到的有序膜，所述有序膜特别地可用作光刻领域中的掩模。
技术介绍
使用嵌段共聚物产生光刻掩模现今是公知的。虽然该技术是有前景的，但是困难存在于产生可工业化开发的大表面积的掩模。特别地寻求导致最佳的可能的圆柱体直径规整性(cylinderdiameterregularity)的用于制造光刻用掩模的方法。该圆柱体直径规整性的特征在于关键尺寸均匀性。在具有圆柱状形态的嵌段共聚物的有序膜中的关键尺寸均匀性(CDU)对应于圆柱体直径尺寸均匀性。在理想的情况下，对于所有的圆柱体必需具有相同的直径，因为该直径的任何变化将对于待考虑的应用造成性能水平(传导率、传递曲线的特性、放出的热功率、电阻等)的变化。自身组织成有序膜并且具有最佳的可能的圆柱体直径规整性的纯BCP是难以获得的。包括至少一种BCP的混合物为对于该问题的一个解决方案，并且在本专利技术中显示：在寻求获得具有最佳的可能的圆柱体直径规整本文档来自技高网...

【技术保护点】
可改善包括嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法，所述有序膜包括至少一种具有有序‑无序转变温度(TODT)和至少一种Tg的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的嵌段共聚物的混合物，该混合物具有低于单独的嵌段共聚物的TODT的TODT，所述方法包括下列步骤：‑将至少一种具有TODT的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的嵌段共聚物在溶剂中混合，‑将该混合物沉积于表面上，‑在不具有TODT的嵌段共聚物的最高Tg与所述混合物的TODT之间的温度下将沉积在所述表面上的混合物固化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.21 FR 15504661.可改善包括嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法，所述有序膜包括至少一种具有有序-无序转变温度(TODT)和至少一种Tg的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的嵌段共聚物的混合物，该混合物具有低于单独的嵌段共聚物的TODT的TODT，所述方法包括下列步骤：-将至少一种具有TODT的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的嵌段共聚物在溶剂中混合，-将该混合物沉积于表面上，-在不具有TODT的嵌段共聚物的最高Tg与所述混合物的TODT之间的温度下将沉积在所述表面上的混合物固化。2.根据权利要求1的方法，其中所述具有TODT的嵌段共聚物为二嵌段共聚物。3.根据权利要求2的方法，根据所述方法，所述二嵌段共聚物的嵌段之一包括苯乙烯单体且另一嵌段包括甲基丙烯酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：C纳瓦罗，C尼科利特，R伊努布利，X舍瓦利耶，
申请(专利权)人：阿科玛法国公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR