一种耐温全息烫印膜制造技术

本发明专利技术公开了一种耐温全息烫印膜，所述烫印膜包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层，所述金属反射层各处厚度均匀，其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合，从而将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上，使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构，所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层，该结构保护层与金属反射层紧密贴合，使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构。本发明专利技术技术方案中的耐温全息烫印膜，通过增设结构保护层，避免了烫印膜在高温环境下出现雾化、防伪力度降低等问题；节省了模压设备成本，保证了模压成品率。

A kind of temperature resistant holographic printing film

The invention discloses a temperature resistant holographic hot stamping film, the hot stamping film comprises a substrate layer, which are sequentially overlapped from the type layer, an imaging layer, a metal reflective layer and adhesive layer, a metallic reflective layer around the uniform thickness, and the imaging layer on a holographic image with micro nano structure surface tightly, the holographic image of the imaging layer of micro nano structure rubbing to metal reflective layer, the holographic image can show the imaging layer micro nano structure between the metal reflective layer and surface layer structure is also provided with a protective layer, the protective layer and the metal reflection layer tightly, forming structure coincided with the imaging layer the micro nano structure corresponding to the structure of the protective layer and the metal reflection layer on the bonding surface. The temperature resistant holographic hot stamping film in the technical scheme of the invention avoids the problems of atomization and anti-counterfeiting strength of hot stamping film in high temperature environment, and saves the cost of molding equipment, and ensures the finished product rate of moulded products by adding a structural protection layer.

【技术实现步骤摘要】
一种耐温全息烫印膜
本专利技术属于防伪
，更具体地，涉及一种耐温全息烫印膜。
技术介绍
激光全息防伪图案由于技术含量高、制备工艺复杂和具备特殊的光学效果，是目前重要的防伪技术手段之一。常见的产品形式之一为全息烫印膜，其包括基材、离型层、成像层、反射层和背胶层。使用时，背胶层与包装盒粘结，将基材层和离型层等多层结构剥离，即可使得激光全息图案层保留在包装对象上。该全息防伪图案可用于展现公司的logo、宣传标语等品牌图案，同时还可以通过图案中同位异像、微缩、透镜、动态等全息效果来实现防伪效果。在一些特殊应用领域，如水转印工艺高温烘烤(150-200℃)、烫印后过打印机或者高速烫印等情况下，全息烫印膜会出现全息亮度下降或者发雾等问题。全息图像的图案信息来自于成像层表面微纳米结构与反射层界面的反射，而全息图像的亮度取决于微纳米结构的形态。由于成像层的热转化温度远大于胶层的热软化温度，微纳米结构的耐温性实际上取决于成像层的耐温性。当温度过高时，成像层出现软化，微纳米结构在高温下发生变化，从而导致全息亮度下降，影响到烫印膜的防伪力度和美观程度。实践中，大部分生产厂商采用提高成像层的玻璃化温度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种耐温全息烫印膜，其包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层，其中，所述基材层作为最外侧的保护层，所述背胶层用于与标识物表面贴合，其特征在于，所述金属反射层各处厚度均匀，其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合，从而可将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上，使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构；所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层，该结构保护层与金属反射层紧密贴合，使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构；由此，全息图像信息被固定在成像层和结构保护层之间，从而可实现对成像层微纳米结构的固化，保护烫印膜的全息图像...

【技术特征摘要】
1.一种耐温全息烫印膜，其包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层，其中，所述基材层作为最外侧的保护层，所述背胶层用于与标识物表面贴合，其特征在于，所述金属反射层各处厚度均匀，其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合，从而可将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上，使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构；所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层，该结构保护层与金属反射层紧密贴合，使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构；由此，全息图像信息被固定在成像层和结构保护层之间，从而可实现对成像层微纳米结构的固化，保护烫印膜的全息图像信息在高温下不被破坏。2.根据权利要求1或2所述的耐温全息烫印膜，其中，所述结构保护层厚度优选0.2～3微米，更优选的是0.5-1.0微米。3.根据权利要求1或2所述的耐温全息烫印膜，其中，所述结构保护层为树脂层，所述树脂层优选采用热塑性树脂和/或交...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨志方，牟靖文，徐晓光，黄婷，
申请(专利权)人：武汉华工图像技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42