一种紫外辐照装置制造方法及图纸
An ultraviolet irradiation device
The invention provides an ultraviolet irradiation device, the ultraviolet irradiation device comprises: a chamber for holding the substrate; a sample stage is used for supporting the substrate in the chamber top or bottom; the UV lamp for emitting ultraviolet light, arranged opposite to the sample table, is located on the top of the chamber or at the bottom; and the specular reflection structure is located within the chamber for UV reflection by the ultraviolet light emission; wherein, the mirror structure includes bulges or concaves arranged orderly, for exposure to the UV mirror structure in all directions to solve the reflection; ultraviolet or cleaning the UV curing process of UV irradiation the phenomenon of uneven radiation.
【技术实现步骤摘要】
一种紫外辐照装置
本专利技术涉及紫外光
，尤其涉及一种紫外辐照装置。
技术介绍
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到原子清洁度。在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。此外，紫外光也用于辐射固化中。辐射固化是利用电磁辐射(如紫外线UV或电子束EB照射涂层)，产生辐射聚合、辐射交联等反应。迅速将低分子量物质转变成高分子量产物的化学过程，体系中不含溶剂或含极少量溶剂，辐照后液膜几乎100％固化，因而VOC(挥发性有机化合物)排放量很低。综上所述，现有技术的紫外辐照装置，存在着紫外辐照不均匀的现象，由于紫外光在腔室中分布的不均匀，从而影响紫外清洗性能与紫外辐射固化效果，在大尺寸生产过程中更为明显。...
【技术保护点】
一种紫外辐照装置，其特征在于，包括：腔室，用于容置基材；样品台，用于承载所述基材，位于所述腔室顶部或底部；紫外灯，用于发射紫外光，与所述样品台相对设置，位于所述腔室顶部或底部；以及镜面反射结构，设置在所述腔室内，用于反射所述紫外灯发射的紫外光；其中，所述镜面反射结构包括有序排列的凸起或凹陷，用于将照射到所述镜面反射结构的所述紫外光朝各个方向反射。
【技术特征摘要】
1.一种紫外辐照装置，其特征在于，包括：腔室，用于容置基材；样品台，用于承载所述基材，位于所述腔室顶部或底部；紫外灯，用于发射紫外光，与所述样品台相对设置，位于所述腔室顶部或底部；以及镜面反射结构，设置在所述腔室内，用于反射所述紫外灯发射的紫外光；其中，所述镜面反射结构包括有序排列的凸起或凹陷，用于将照射到所述镜面反射结构的所述紫外光朝各个方向反射。2.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述镜面反射结构设置在所述腔室的预定位置，所述腔室的预定位置至少包括所述腔室的四周、顶部、底部中的一者。3.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述凸起或凹陷分布于整个所述镜面反射结构。4.根据权利要求3所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述凸起或凹陷呈圆锥状、棱锥状、棱台...
【专利技术属性】
技术研发人员：史婷，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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