一种用于晶片抛光机的传动柱组件、传动转盘制造技术
Transmission column assembly and drive turntable for wafer polishing machine
The utility model provides a drive for the post assembly, drive rotary wafer polishing machine, the drive turntable comprises the transmission column component, wherein the transmission column assembly comprises a cylinder sleeve (1) and (2), the column (1) is arranged in the middle part of the stop the convex ring. The sleeve (2) is closed at one end, the other end is open, the sleeve (2) is sheathed on the column (1), the sleeve (2) is in contact with the open end of the cylinder (1) stop on a convex ring. The transmission column assembly provided by the utility model can avoid the influence of the grinding liquid on the relative rotation between the sleeve and the cylinder, so as to improve the service life.
【技术实现步骤摘要】
一种用于晶片抛光机的传动柱组件、传动转盘
本技术涉及晶片抛光机
，特别是涉及一种用于晶片抛光机的传动柱组件、传动转盘。
技术介绍
如图1所示，现有技术中，晶片抛光机采用行星齿轮机构来驱动晶片定位衬片03，例如，专利申请号为CN201610925500.5的中国专利公开的一种四驱双面晶片磨光机就应用了这种传动方式。由图1可见，在传动转盘01上安装有传动齿柱02，传动齿柱02包括柱体和套接在柱体上的套管，传动过程中，套管相对柱体发生转动。目前，由于套管通常为两端敞口结构，而柱体是竖直安装的(晶片定位衬片03平放)，所以，研磨液容易进入套管与柱体的间隙内，当研磨液结晶后，会导致套管与柱体难以相对转动，使磨损量增大，最终降低使用寿命。综上所述，如何减小研磨液对套管与柱体之间相对转动的影响，成为了本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种用于晶片抛光机的传动柱组件、传动转盘，所述传动转盘包括所述传动柱组件，该传动柱组件能够避免研磨液对套管与柱体之间相对转动产生影响，从而有利于提高使用寿命。为了达到上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于晶片...
【技术保护点】
一种用于晶片抛光机的传动柱组件，其特征在于，包括柱体(1)和套筒(2)，所述柱体(1)的中部设置有止挡凸环，所述套筒(2)的一端封闭，另一端敞口，所述套筒(2)套接在所述柱体(1)上，所述套筒(2)的敞口端抵接在所述柱体(1)的止挡凸环上。
【技术特征摘要】
1.一种用于晶片抛光机的传动柱组件，其特征在于，包括柱体(1)和套筒(2)，所述柱体(1)的中部设置有止挡凸环，所述套筒(2)的一端封闭，另一端敞口，所述套筒(2)套接在所述柱体(1)上，所述套筒(2)的敞口端抵接在所述柱体(1)的止挡凸环上。2.根据权利要求1所述的传动柱组件，其特征在于，所述套筒(2)的敞口处设置有裙边(21)，所述裙边(21)绕所述柱体(1)的轴线包围所述止挡凸环。3.根据权利要求2所述的传动柱组件，其特征在于，所述裙边(21)的内径比所述止挡凸环的外径大2mm～5mm。4.根据权利要求1所述的传动柱组件，其特征在于，所述止挡凸环的圆周面上具有第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：饶桥兵，贺建龙，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南,43
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