一种用于光学膜生产的涂布装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种用于光学膜生产的涂布装置，括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、涂布液均化装置、基膜。在涂布槽底部设有一个涂布液均化装置，本实用新型专利技术避免了涂布槽死角因为粒子沉淀、涂布液流动不畅造成涂布液粘度不均等造成的拉丝、条道、暗纹、点子等弊病，实现光学膜连续稳定生产，提高良率。

Coating device for optical film production

The utility model provides a coating device for optical film production, including feeding part and coating part, feeding part comprises a circulation material storing barrel, a stirring device, feeding pump, liquid supply pipe, a filter, a liquid receiving plate, liquid return pipe, coating part comprises a coating roller, scraper system, coating tank, liquid baffle plate with the liquid discharge hole side baffle, homogenizing device, film coating liquid. With a coating liquid homogenizing device in the trough bottom, the utility model avoids coating particle precipitation, because the dead slot defects caused by poor coating liquid drawing, coating liquid viscosity caused by the uneven road, dark lines and ideas, to achieve continuous and stable production of optical film, improve the yield rate.

【技术实现步骤摘要】
一种用于光学膜生产的涂布装置
本技术涉及薄膜
，特别是涉及用于光学膜涂布的系统。
技术介绍
在TFT-LCD液晶显示领域中，为了得到能满足要求的光学膜，如反射膜、扩散膜、增亮膜、复合DBEF膜等，需要在不同的光学支持体薄膜的正面或背面涂覆含有光学粒子的涂料，在涂覆生产中，需要涂覆装置将涂料均匀的涂覆在不同的光学支持体薄膜上。由于涂料中含有各种不同粒经的光学粒子，为了保证光学粒子均匀地涂覆在光学支持体薄膜上，通常采用辊涂、凹版涂覆或微凹版涂覆装置进行。在实际应用中，以上涂覆方式均存在有以下不足，主要是在涂覆过程中，涂布槽供液单点或多点的不均匀供料，涂料在涂布槽中分布、流速不均匀，流速慢，产生涡旋，造成光学粒子的聚集后，沉积在涂布槽底部，无法及时清除，导致涂料在涂布过程中而形成质量弊病，如拉丝、暗纹、条道等，需要经常停机清洗涂布头和涂布槽，造成涂覆生产中断，无法进行连续生产。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种用于生产光学薄膜的涂布系统，它可以解决光学粒子在涂布槽中易沉积和聚集粒子沉积后无法清除的问题，实现连续生产。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种用于光学膜生产的涂布装置，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。在挡液板下面涂布槽槽底部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置包括两部分，第一部分是沉淀收集槽，深度在0-50mm，第二部分是在槽内设有旋转柱，旋转柱的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间。上述用于光学膜生产的涂布装置，涂布槽底部设置1-3个涂布液均化装置，旋转柱的转数在5-300转/min。上述用于光学膜生产的涂布装置，旋转柱的杆直径d1和叶的直径d2搭配在1:10-1:2之间。上述用于光学膜生产的涂布装置，旋转柱的叶的角度β在5-80度之间。上述用于光学膜生产的涂布装置，旋转柱距挡液板底的距离在0.1mm-5mm之间。上述用于光学膜生产的涂布装置，旋转柱的叶的角度β可以设计成两边对称，也可以设计角度一致。上述用于光学膜生产的涂布装置，在涂布槽两侧或一侧的侧挡板上有排液孔供涂布液流出。上述用于光学膜生产的涂布装置，所述旋转柱的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。本技术的有益效果为，在单点和多点供料部分中，由于涂布辊转动造成离心力和重力的作用，聚集粒子和大粒径粒子更容易被分离到涂布槽的底部，在涂布槽底部设有涂布液均化装置，通过涂布液均化装置中旋转柱的转动，带动涂布液流动，防止聚集粒子沉积，同时旋转柱的转动会带动含有聚集粒子的涂布液向设定的方向流动，从侧挡板的排液孔排到接液盘，减少了聚集粒子在涂布槽内的沉积，避免了需要反复停机清洗涂布槽和涂布辊造成生产效率的降低；同时聚集的粒子和大径粒子通过侧挡板的排液口回流到接液盘，再通过球阀、循环泵输送，过滤器将其中的大部分过滤掉。本技术实现了长周期的连续生产，解决了涂覆光学膜存在的质量弊病如拉丝、暗纹、条道、涂布不均等质量问题，也避免了由于涂布液在涂布槽内混合不好造成的条状涂布不均，实现了光学膜的不停机连续生产。附图说明图1是本技术提供的连续生产光学膜的涂布系统示意图；图2双向涂布液均化装置旋转柱的示意图；图3单向涂布液均化装置旋转柱的示意图。图中各标号表示为：1、回液管，2、新液补充管，3、供液桶，4、供液搅拌，5、供液阀门，6、供液泵，7、过滤器，8、供液管，9、涂布液均化装置，10、涂布槽，11、供液孔，12、挡液板，13、涂布辊，14、刮刀，15、接液盘，16、基膜，17、排液孔，18、侧挡板。具体实施方式本技术包括供料部分和涂布部分，所供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜、在涂布槽的底部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置有两部分组成，第一部分是沉淀收集槽，深度在0-50mm，第二部分是在槽内设有旋转柱，旋转柱的直径在5-50mm，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间，通过涂布液均化装置中旋转柱的转动，带动涂布液流动，防止聚集粒子沉积，同时旋转柱的转动会带动含有聚集粒子的涂布液向设定的方向流动，从侧挡板的排液孔排到接液盘，减少了聚集粒子在涂布槽内的沉积，解决光学粒子在涂布槽中易沉积和聚集粒子沉积后无法清除的问题，实现连续生产。以下结合附图及实施例对技术作进一步阐述,但这些实施例仅用于说明本技术的原理，而不用于限制本技术的保护范围。本技术提供的生产光学薄膜的涂布系统，包括供料部分和涂布部分，如附图1所示，其中，供料部分包括接液盘15、回流管1、新料补充管2、供液桶3、供液搅拌4、供液阀门5、供液泵6、过滤器7、供液管8等，涂布部分包括涂布槽10、挡液板12、涂布辊13、刮刀14、侧挡板18、涂布液均化装置9等。供料部分将涂布液从供料桶3抽出，经过过滤，送到涂布槽内，涂布槽10中的涂料通过涂布辊13不断将涂料涂敷在基膜16的表面，由涂布槽溢流的涂料经接液盘15、回流管1返回供料桶3，从而实现了一个循环。本技术中设置在涂布槽10底部的涂布液均化装置镶嵌在粒子收集槽中，收集槽深度在0-50mm，优选10-30mm，收集槽截面为半圆形或弧形，深的可以是半圆形与长方形结合体，半圆和和弧的半径取决于沉淀清理涂布液均化装置沉淀清理涂布液均化装置旋转柱的直径，旋转柱的直径在5-50mm，优选10-30mm，旋转柱的角度β在5-80度之间，优选10-60度，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间优选10-30mm，通过涂布液均化装置，防止聚集粒子沉积下来，并随时将沉积的粒子清除出涂布槽，并将混合不均的涂布液混合均匀。本技术中涂布槽10的内部表面、旋转柱表面为光滑表面，内部过渡均为圆滑过渡。本技术中沉淀清理涂布液均化装置可以设1-3个，旋转柱的叶的角度在5-80度之间，旋转柱的转数在5-300转/min可调；本技术中循环泵可以选自市售的螺杆泵、齿轮泵、蠕动泵、柱塞泵；带马达的搅拌装置3上的搅拌桨可以选自浆式、旋浆式、涡轮式或锚式搅拌桨，马达可以是正反旋转的调速防爆马达或气动马达，搅拌装置安装在可以调节的装置上，可以调节搅拌桨叶的位置。实施例1如图1所示，供料部分部分包括接液盘15、回流管1、新料补充管2、供液桶3、供液搅拌4、供液阀门5、供液泵6、过滤器7、供液管8等，涂布部分包括涂布槽10、挡液板12、涂布辊13、刮刀14、侧挡板18、涂布液均化装置9等。供料部分将涂布液从供料桶3抽出，经过过滤，送到涂布槽内，涂布槽10中的涂料通过涂布辊13不断将涂料涂敷在基膜16的表面，由涂布槽溢流的涂料经接液盘15、回流管1返回供料桶3，从而实现了一个循环。进料口11的数量为1个，在涂布槽正中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光学膜生产的涂布装置，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。

【技术特征摘要】
1.一种用于光学膜生产的涂布装置，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。2.根据权利要求1所述的用于光学膜生产的涂布装置，其特征在于，在挡液板下面涂布槽槽底部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置包括两部分，第一部分是沉淀收集槽，深度在0-50mm，第二部分是在槽内设有旋转柱，旋转柱的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间。3.根据权利要求2所述的用于光学膜生产的涂布装置，其特征在于，涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置，旋转柱的转数在5-300转/...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚志刚，李敏合，鲍立民，
申请(专利权)人：昆山乐凯锦富光电科技有限公司，合肥乐凯科技产业有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32