抗菌自洁性涂膜组合物及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种抗菌自洁性涂膜组合物的胶体溶液制剂及其制备方法和应用。该组合物含有粒径小于５０ｎｍ的ＴｉＯ↓［２］光半导体颗粒和Ｈ↓［４］ＴｉＯ↓［５］。ＴｉＯ↓［２］含量为０．２５－１０％，Ｈ↓［４］ＴｉＯ↓［５］含量为０．１３－４％，ＴｉＯ↓［２］／Ｈ↓［４］ＴｉＯ↓［５］含量比为０３－６。制备方法是水解钛盐化合物制备钛酸，然后与过氧化氢反应并加热搅拌处理而成。将该组合物涂布于陶瓷，金属等各种材料表面，可形成强固的涂膜。这种涂膜在微弱的自然光及人工光作用下，可自动产生杀菌和消毒的效果。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗菌自洁性涂膜组合物及其制备方法和应用本专利技术涉及一种抗菌自洁性涂膜组合物，特别是涉及一种抗菌自洁性涂膜组合物的胶体溶液制剂。本专利技术还涉及一种所述抗菌自洁性涂膜组合物的胶体溶液制剂的制备方法和应用。近年来，各种抗菌性生活制品已经成了市场上消费的热点。制品表面的抗菌处理多采用有机杀菌剂和银等贵金属抗菌材料。有机杀菌剂不仅对人体不够安全，且在水洗时杀菌剂容易被溶出流失而失去效果，不适用于陶瓷、玻璃、金属等需经高温烧制而成的制品。而贵金属抗菌材料则因格昂贵而在应用上受到了很大限制。    以TiO2为代表的光半导体材料在抗菌、自洁等环境方面的应用研究正在引起广泛关注。这种光半导体材料在自然光或360nm左右的紫外光的作用下，其表面会激发出自由电子并同时形成一个带正电的空穴，进而引发出一系列氧化还原反应，产生羟基和活性氧自由基。这些自由基具有很强的氧化还原能力。它可分解吸附于其表面的各种有机化合物，杀死细菌，病毒等微生物，起到显著的抗菌作用。但是将光半导体附着在各种材料表面，使其活性强、坚固耐用的问题长期未得到解决。现有技术的方法有溶胶凝胶法，化学蒸着法等，不仅制造成本昂贵，且活性弱，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗菌自洁性涂膜组合物，其特征是所述组合物是水溶性的胶体溶液，含有粒径小于５０ｎｍ的二氧化钛（ＴｉＯ↓［２］）光半导体颗粒、高钛酸（Ｈ↓［４］ＴｉＯ↓［５］）；其中ＴｉＯ↓［２］含量为０．２５－１０％，Ｈ↓［４］ＴｉＯ↓［５］含量为０．１３－４％，ＴｉＯ↓［２］／Ｈ↓［４］ＴｉＯ↓［５］含量比为０．３－６。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种抗菌自洁性涂膜组合物，其特征是所述组合物是水溶性的胶体溶液，含有粒径小于50nm的二氧化钛(TiO2)光半导体颗粒、高钛酸(H4TiO5)；其中TiO2含量为0.25—10％，H4TiO5含量为0.13—4％，TiO2/H4TiO5含量比为0.3—6。2.权利要求1所述的抗菌自洁性涂膜组合物，其特征是TiO2的优选含量为1—4％，H4TiO5的优选含量为0.5—2％，TiO2/H4TiO5的优选含量比为1—4；该组合物中TiO2的最佳含量为TiO22％，H4TiO51％，TiO2/H4TiO5的最佳含量比...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔海信，秦泽荣，
申请(专利权)人：北京普人生物技术有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]