处理盒制造技术

处理盒包括：显影单元；鼓单元；推压构件；和导电构件。显影单元包括显影辊。鼓单元包括感光鼓。显影单元能相对于鼓单元绕沿着显影辊延伸的枢转轴线枢转地移动。推压构件被构造成将显影辊朝向感光鼓推压。导电构件被设置在显影单元处且被构造成对显影辊施加电压。导电构件由导电树脂制成。导电构件包括接触部，接触部被构造成接触被设置在成像设备处的电触点。枢转轴线和接触部之间限定第一距离。枢转轴线和推压构件之间限定第二距离。第一距离小于第二距离。

Processing box

The processing box comprises a developing unit, a drum unit, a pushing component, and a conducting component. The developing unit comprises a developing roller. Drum unit includes photosensitive drum. The developing unit can be pivoted to the pivot axis extending along the developing roller relative to the drum unit. The push member is configured to press the developing roller toward the photosensitive drum. The conductive member is disposed at the developing unit and is applied to the developing roller to apply voltage. The conductive component is made of conductive resin. The conductive member includes a contact portion, and the contact portion is configured to contact an electrical contact disposed at the imaging device. The first distance is defined between the pivot axis and the contact part. A second distance is defined between the pivot axis and the push member. The first distance is less than second.

【技术实现步骤摘要】
处理盒
本技术涉及处理盒，该处理盒包括：显影单元，该显影单元设有显影辊；和鼓单元，该鼓单元设有感光鼓。
技术介绍
传统上已知包括显影单元和鼓单元的处理盒。显影单元被附接至鼓单元，以便能够相对于鼓单元绕规定枢转轴线枢转地移动。在日本专利申请公开特开2013-134299中公开了一种这样的处理盒。在这种处理盒中，随着显影单元相对于鼓单元的枢转移动，被设置在显影单元处的显影辊能够与被设置在鼓单元处的感光鼓分离和接触。在这种类型的处理盒中，设置导电构件用于将电压施加给显影辊。导电构件的一部分暴露于外部。导电构件的暴露部分用作显影电极。被设置在成像设备的主壳体中的电极与暴露部接触。已经在实际产品中使用这种构造。此外，在这种构造中，弹簧被设置在显影电极和显影单元的枢转轴线之间，用于将显影辊朝向感光鼓推压。然而，在上述构造中，显影电极被设置在离显影单元的枢转轴线比弹簧离显影单元的枢转轴线远的位置处。为了当显影单元在接触位置和分离位置之间枢转地移动时防止显影电极从主壳体的电极移位，需要显影电极增加它的在显影单元的移动方向上的尺寸。由于显影电极的尺寸的增加，处理盒也在尺寸上增长。技术内容鉴于上述，本技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理盒，其特征在于所述处理盒包括：显影单元，所述显影单元包括显影辊；鼓单元，所述鼓单元包括感光鼓，所述显影单元被安装至所述鼓单元，以便能够相对于所述鼓单元绕沿着所述显影辊延伸的枢转轴线枢转地移动；推压构件，所述推压构件被构造成将所述显影辊朝向所述感光鼓推压；和导电构件，所述导电构件被设置在所述显影单元处，并且所述导电构件被构造成对所述显影辊施加电压，所述导电构件由导电树脂制成，所述导电构件包括接触部，所述接触部被构造成接触被设置在成像设备处的电触点，所述枢转轴线和所述接触部之间限定第一距离，所述枢转轴线和所述推压构件之间限定第二距离，所述第一距离小于所述第二距离。

【技术特征摘要】
2016.03.15 JP 2016-0504941.一种处理盒，其特征在于所述处理盒包括：显影单元，所述显影单元包括显影辊；鼓单元，所述鼓单元包括感光鼓，所述显影单元被安装至所述鼓单元，以便能够相对于所述鼓单元绕沿着所述显影辊延伸的枢转轴线枢转地移动；推压构件，所述推压构件被构造成将所述显影辊朝向所述感光鼓推压；和导电构件，所述导电构件被设置在所述显影单元处，并且所述导电构件被构造成对所述显影辊施加电压，所述导电构件由导电树脂制成，所述导电构件包括接触部，所述接触部被构造成接触被设置在成像设备处的电触点，所述枢转轴线和所述接触部之间限定第一距离，所述枢转轴线和所述推压构件之间限定第二距离，所述第一距离小于所述第二距离。2.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸，并且其中在所述枢转轴线方向上观察时，所述接触部位于所述枢转轴线和所述推压构件之间。3.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于所述显影单元能够相对于所述鼓单元在枢转方向上枢转地移动，其中所述接触部具有在所述枢转方向上的长度，并且其中所述推压构件包括螺旋弹簧，所述螺旋弹簧具有螺旋部，所述螺旋部具有比所述接触部的所述长度大的长度。4.根据权利要求3所述的处理盒，其特征在于所述接触部在所述枢转方向上的长度在从5mm至12mm的范围内。5.根据权利要求4所述的处理盒，其特征在于所述接触部在所述枢转方向上的长度在从6mm至10mm的范围内。6.根据权利要求5所述的处理盒，其特征在于所述接触部在所述枢转方向上的长度在7mm至9mm的范围内。7.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸，并且其中当在所述枢转轴线方向上观察时，所述推压构件延伸成与经过所述显影辊的旋转轴线及所述枢转轴线的直线交叉。8.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于所述推压构件具有被...

【专利技术属性】
技术研发人员：横井淳一，
申请(专利权)人：兄弟工业株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP