一种单层二硫化钼纳米片的制备方法技术

技术编号:16373497 阅读:87 留言:0更新日期:2017-10-15 01:30
本发明专利技术涉及一种单层二硫化钼纳米片的制备方法,包括以下步骤:(1)将200‑250mg粒径小于2μm的二硫化钼粉末、90‑110mg壳聚糖粉末、1‑1.2g离子液体和10‑15mL有机溶剂均匀混合并转移至密闭玻璃容器,得到第一分散液;(2)将第一分散液超声处理,处理结束后高速离心分离,收集沉淀;(3)将所述沉淀分散在0.5%的醋酸溶液中,离心分离并收集沉淀,重复两次;(4)将所述沉淀分散在去离子水中,低速离心分离,收集上清液得单层二硫化钼纳米片溶液。本发明专利技术工艺简单、成本低、产率高于25%、重复性好,能克服现有技术中得到的二硫化钼纳米片尺寸大、单层产率低、粒径不均等缺陷。

Preparation method of monolayer molybdenum disulfide nanosheets

The invention relates to a single-layer MoS2 nano sheet preparation method comprises the following steps: (1) 200 250mg particle size less than molybdenum disulfide powder, 2 m 90 110mg chitosan powder, 1 1.2g and 10 ionic liquid 15mL organic solvent mixture and transferred to a closed glass container, get the first dispersion; (2) the first dispersion of ultrasonic treatment, treatment after high speed centrifugation, precipitation collection; (3) the precipitation dispersed in 0.5% acetic acid solution, centrifuged and collected precipitation, repeated two times; (4) the precipitation of dispersed in deionized water, centrifuged at low speed the supernatant was collected for single layer separation, molybdenum disulfide solution. The process has the advantages of simple process, low cost, high yield and good repeatability, and can overcome the defects of large size, single layer yield and unequal size of molybdenum disulfide nanosheets obtained in the prior art. The invention has the advantages of high yield, good repeatability and good repeatability. The invention has the advantages of large size, low monolayer yield and unequal particle size.

【技术实现步骤摘要】
一种单层二硫化钼纳米片的制备方法
本专利技术涉及新型纳米材料领域,特别是涉及一种单层二硫化钼纳米片的制备方法。
技术介绍
作为一种类石墨烯的二维纳米材料,层状二硫化钼纳米材料具有许多独特的物理化学特性。二硫化钼纳米材料的带隙与层数有关,当剥离至单层时,其半导体间隙从间接带隙结构将转换为直接带隙结果,导致光子吸收截面比石墨烯和贵金属纳米颗粒还要大,其荧光量子效率也得到大大增强。比表面积大、光吸收截面大、量子效率高、机械性能好、带隙结构独特使二硫化钼纳米材料在光电器件、传感器、催化、电池、储存及生物医学等领域具有广阔的应用前景。因此,单层二硫化钼纳米片的制备极具现实意义。目前,制备二硫化钼纳米片的方法包括机械剥离法、离子插层剥离法、化学合成法、化学气相层积方法等。机械剥离法制备量子点产率低、耗时长;离子插层剥离法需要离子作为稳定剂;化学气相层积方法无法大规模和高效率制备量子点。授权公告号CN103803651B,专利技术名称:一种制备二硫化钼纳米片的方法,是通过以下工艺过程实现的:将购买的MoS2粉末和碳酸锂按摩尔比为1:42的比例均匀混合,放入装有40毫升苯甲醇的高压釜中,密封。在20本文档来自技高网...
一种单层二硫化钼纳米片的制备方法

【技术保护点】
一种单层二硫化钼纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将200‑250mg粒径小于2μm的二硫化钼粉末、90‑110mg壳聚糖粉末、1‑1.2g离子液体和10‑15mL有机溶剂均匀混合并转移至密闭玻璃容器,得到第一分散液;(2)将第一分散液超声处理,处理结束后高速离心分离,收集沉淀;(3)将所述沉淀分散在0.5%的醋酸溶液中,离心分离并收集沉淀,重复两次;(4)将所述沉淀分散在去离子水中,低速离心分离,收集上清液得单层二硫化钼纳米片溶液。

【技术特征摘要】
1.一种单层二硫化钼纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将200-250mg粒径小于2μm的二硫化钼粉末、90-110mg壳聚糖粉末、1-1.2g离子液体和10-15mL有机溶剂均匀混合并转移至密闭玻璃容器,得到第一分散液;(2)将第一分散液超声处理,处理结束后高速离心分离,收集沉淀;(3)将所述沉淀分散在0.5%的醋酸溶液中,离心分离并收集沉淀,重复两次;(4)将所述沉淀分散在去离子水中,低速离心分离,收集上清液得单层二硫化钼纳米片溶液。2.如权利要求1所述的一种单层二硫化钼纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述的密闭玻璃容器为100mL血清瓶或其他相似容器。3.如权利要求1所述的一种单层二硫化钼纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述的超声处理为超声功率为100-150W,所述超声时间为1.5-2.5小时。4.如权利要求1所述的一种单层二硫化钼纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,离心转速为10000-...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋驁天汪远昊彭晋卿詹宸杜争
申请(专利权)人:深圳孔雀科技开发有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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