\u4e00\u79cd\u504f\u632f\u5206\u675f\u5668\u548c\u65cb\u8f6c\u5668\u8bbe\u5907(500)\u5305\u62ec\uff1a\u5149\u6a21\u5f0f\u8f6c\u6362\u5668(501)\uff0c\u5305\u62ec\u7b2c\u4e00\u5149\u6ce2\u5bfc(511)\uff0c\u5176\u4e2d\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e00\u5149\u6ce2\u5bfc\u7684\u82af\u5c42(515\u3001517a\u3001517b)\u7684\u5f62\u72b6\u662f\u4e0d\u5bf9\u79f0\u7684\uff0c\u4ece\u800c\u5f15\u53d1\u8026\u5408\u5230\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e00\u5149\u6ce2\u5bfc(511)\u4e2d\u7684\u504f\u632f\u5149\u5c06\u5176\u96f6\u9636\u7684\u6a2a\u78c1\u6a21(TM0)\u8f6c\u6362\u5230\u4e00\u9636\u7684\u6a2a\u7535\u6a21(TE0)\u540c\u65f6\u4fdd\u6301\u5176\u96f6\u9636\u7684\u6a2a\u7535\u6a21(TE0)\u4e0d\u53d8\uff1b\u8f93\u51fa\u8026\u5408\u5668(503)\uff0c\u5305\u62ec\u8026\u5408\u5230\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e00\u5149\u6ce2\u5bfc(511)\u7684\u7b2c\u4e8c\u5149\u6ce2\u5bfc(512)\u548c\u7edd\u70ed\u8026\u5408\u5230\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e8c\u5149\u6ce2\u5bfc(512)\u7684\u7b2c\u4e09\u5149\u6ce2\u5bfc(513)\uff0c\u6240\u8ff0\u7edd\u70ed\u8026\u5408\u5f15\u53d1\u4ece\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e00\u5149\u6ce2\u5bfc(511)\u8026\u5408\u5230\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e8c\u5149\u6ce2\u5bfc(512)\u4e2d\u7684\u6240\u8ff0\u504f\u632f\u5149\u901a\u8fc7\u5c06\u5176\u4e00\u9636\u7684\u6a2a\u7535\u6a21(TE1)\u4f5c\u4e3a\u96f6\u9636\u7684\u6a2a\u7535\u6a21(TE0)\u8026\u5408\u5230\u6240\u8ff0\u7b2c\u4e09\u5149\u6ce2\u5bfc(513)\u4e2d\u5e76\u4e14\u4fdd\u6301\u5176\u96f6\u9636 The transverse electric mode (TE0) in the second optical waveguide (512) without coupling to the third light waveguide (513), in the second optical waveguide (512) and the third light waveguide (513) between the energy spread.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振分束器和旋转器设备
本专利技术涉及一种偏振分束器和旋转器设备,尤其涉及一种用于氮化硅平台的基于横截面不对称波导的绝缘转换和绝缘解复用的偏振分束器和旋转器设备。本专利技术还涉及一种用于生产偏振分束器和旋转器设备的方法。本专利技术一般涉及光子集成电路领域。
技术介绍
作为在电信、数据通信、互连和传感中广泛应用的通用技术平台,硅光子学显得日趋重要。其可以通过在高质量低成本的硅衬底上使用互补型金属氧化物半导体(ComplementaryMetalOxideSemiconductor,CMOS)兼容的晶圆级技术来实现光子功能。然而,纯无源硅波导设备的性能在插入损耗、相位噪声(导致信道串扰)和温度依存性方面仍然受限。这是因为SiO2(二氧化硅)包层和Si(硅)芯层之间的相对折射率差高、Si层厚度不均匀以及硅的热光效应大。基于氮化硅的无源设备提供优越性能。已经证明,SiNx(氮化硅)芯层厚度为640nm的波导具有0.1dB/cm的传播损耗,而芯层厚度为50nm的波导具有甚至低于0.1dB/m的传播损耗。此外,SiNx(n=2)和SiO2(n=1.45)对照Si(n=3.5)和SiO2(n=1.45)之间的相对折射率(n)差略小,导致相位噪声更少而制造容差更大。这有助于制造高性能但是仍然非常紧凑的光电路,例如阵列波导光栅(ArrayedWaveguideGrating)、环形谐振器等。氮化硅波导既作为有源硅光子芯片上的高性能无源波导层报道过,而且还作为‘独立’无源光芯片报道过。硅和氮化硅材料系统(相比于石英波导)的高相对折射率差引入了强偏振依存性。为了实现偏振无关光电 ...
【技术保护点】
一种偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于,包括:光模式转换器(501),包括第一光波导(511),其中所述第一光波导(511)的芯层(515、517a、517b)的形状是不对称的,引发耦合到所述第一光波导(511)中的偏振光将其零阶的横磁模(TM0)转换到一阶的横电模(TE1)同时保持其零阶的横电模(TE0)不变;输出耦合器(503),包括耦合到所述第一光波导(511)的第二光波导(512)和绝热耦合到所述第二光波导(512)的第三光波导(513),所述绝热耦合引发从所述第一光波导(511)耦合到所述第二光波导(512)的所述偏振光通过将其一阶的横电模(TE1)作为零阶的横电模(TE0)耦合到所述第三光波导(513)中并且保持其零阶的横电模(TE0)在所述第二光波导(512)中传播无需耦合到所述第三光波导(513),在所述第二光波导(512)和所述第三光波导(513)之间传播其能量。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.28 EP 14190695.81.一种偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于,包括:光模式转换器(501),包括第一光波导(511),其中所述第一光波导(511)的芯层(515、517a、517b)的形状是不对称的,引发耦合到所述第一光波导(511)中的偏振光将其零阶的横磁模(TM0)转换到一阶的横电模(TE1)同时保持其零阶的横电模(TE0)不变;输出耦合器(503),包括耦合到所述第一光波导(511)的第二光波导(512)和绝热耦合到所述第二光波导(512)的第三光波导(513),所述绝热耦合引发从所述第一光波导(511)耦合到所述第二光波导(512)的所述偏振光通过将其一阶的横电模(TE1)作为零阶的横电模(TE0)耦合到所述第三光波导(513)中并且保持其零阶的横电模(TE0)在所述第二光波导(512)中传播无需耦合到所述第三光波导(513),在所述第二光波导(512)和所述第三光波导(513)之间传播其能量。2.根据权利要求1所述的偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于:所述第一光波导(511)的所述芯层(515、517a、517b)的所述形状相对于所述第一光波导(511)的纵轴和/或横轴是不对称的。3.根据权利要求1或2所述的偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于:所述第一光波导(511)的所述芯层(515、517a、517b)包括形成所述芯层(515、517a、517b)的所述不对称形状的至少一处磨损。4.根据前述权利要求之一所述的偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于:所述第一光波导(511)的所述芯层(515、517a、517b)包括第一部分(515)和第二部分(517a、517b),所述第二部分(517a、517b)的厚度与所述第一部分(515)的不同,其中所述第一部分(515)和所述第二部分(517a、517b)的所述不同厚度形成所述芯层(515、517a、517b)的所述不对称形状。5.根据前述权利要求之一所述的偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于:所述第一光波导(511)的所述芯层(515、517a、517b)的横截面是不对称的。6.根据前述权利要求之一所述的偏振分束器和旋转器设备(500),其特征在于:所述第一光波导(511)的所述芯层(515、517a、517b)的横截面的形状是第一矩形(521),所述第一矩形(521)放置在第二矩形(523...
【专利技术属性】
技术研发人员:马科·兰波尼,乔斯特·布洛卡特,
申请(专利权)人:华为技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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