荧光X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的扫描型的荧光X射线分析装置包括定量分析条件设定机构(13)，该机构根据标准试样(14)的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先确定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应作为分析对象元素来追加。

Fluorescent X ray analysis apparatus

X ray fluorescence scanning the analysis apparatus includes a quantitative analysis of condition setting mechanism (13), the agency according to the standard sample (14) analysis of the results of qualitative analysis and semi quantitative, according to the predetermined sample to form a new detection element outside, according to the absorption effect of overlapped degree, incentive effects and interference line. Analysis of line object elements of the degree of fluorescent X ray relative analysis object element value, whether should be as the analysis object to additional elements.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】荧光X射线分析装置相关申请本专利技术要求申请日为2015年8月28日、申请号为JP特愿2015—169543号申请的优先权，通过参照其整体，将其作为构成本申请的一部分的内容而进行引用。
本专利技术涉及测定对试样照射一次X射线而产生的二次X射线的强度的扫描型的荧光X射线分析装置。
技术介绍
过去，具有扫描型的X射线分析装置，在该扫描型的X射线分析装置中，对试样照射一次X射线，测定由试样而产生的荧光X射线等的二次X射线的强度，根据该测定强度，对比如试样的元素的含有率进行定量分析。在这样的装置中，包括与分析对象试样相对应的标准试样，作为定量分析条件，预先设定分析对象试样中的分析对象元素以及标准试样中的试样组成元素及其含有率(化学分析值)，测定标准试样，制作校准线，进行分析对象试样的定量分析。具有下述的荧光X射线分析装置，在该荧光X射线分析装置中，与定量分析条件的设定有关，包括品种存储机构、半定量分析机构、品种判断机构和定量分析机构，由此，针对试样，自动地进行基于半定量分析结果的试样的品种的判断、与该判断的品种相对应的适合的分析条件下的定量分析(参照专利文献1)。另外，具有在计算用于对校准线进行补偿的理论矩阵补偿系数时，相对试样而设定适合的补偿模型的荧光X射线分析装置(参照专利文献2)。按照这样的装置，由于对应于试样的品种，自动地选择定量分析条件，故即使在非熟练的操作人员的情况下，仍可进行正确的分析。已有技术文献专利文献专利文献1：JP特开2002—340822号文献专利文献2：JP特开2013—205080号文献
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，于标准试样中包含含有率不清楚的元素，另外因包含该元素，分析对象元素的分析受到影响，产生误差，在这样的场合，即使在采用上述那样的荧光X射线分析装置的情况下，在预先设定与试样的品种相对应的定量分析条件时仍没有考虑于标准试样中包含含有率不清楚的元素，由此，无法对分析对象元素进行正确的分析。本专利技术是针对这样的问题而提出的，本专利技术的目的在于提供一种扫描型的荧光X射线分析装置，其中，即使在于标准试样中包含含有率不清楚的元素的情况下，仍针对定量分析条件而自动地进行分析对象元素的适合的追加，可进行正确的分析。用于解决课题的技术方案为了实现上述目的，本专利技术涉及一种扫描型的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置测定对试样照射一次X射线而产生的二次X射线的强度，该荧光X射线分析装置包括：多个标准试样，该多个标准试样用于形成与分析对象试样相对应的校准线；定量分析条件设定机构，该定量分析条件设定机构预先设定分析对象试样的分析对象元素、以及标准试样的试样组成元素及其含有率作为定量分析条件。另外，上述定量分析条件设定机构进行下述操作，针对标准试样进行定性分析、以及作为基于定性分析结果的定量分析的半定量分析，将预先设定的试样组成元素以外的元素作为新检测元素而检测，针对新检测元素和预先设定的试样组成元素，通过基本参数法(也称为“FP法”)计算与荧光X射线的吸收激励有关的理论矩阵补偿系数，根据该理论矩阵补偿系数、新检测元素的半定量分析值和预先设定的试样组成元素的含有率，将新检测元素的荧光X射线的吸收激励相对分析对象元素的分析值的影响度作为吸收激励影响度而计算，将其与相应的规定的基准值进行比较。此外，上述定量分析条件设定机构从预先存储的重叠补偿表格中调用新检测元素的干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠补偿系数，根据该重叠补偿系数、新检测元素的半定量分析值和预先设定的试样组成元素的含有率，将新检测元素的干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度作为重叠影响度而计算，将其与相应的规定的基准值进行比较，在上述吸收激励影响度和上述重叠影响度中的至少一者大于相应的规定的基准值的场合，作为定量分析条件，将该新检测元素作为分析对象试样的分析对象元素而追加。按照本专利技术的荧光X射线分析装置，包括定量分析条件设定机构，该定量分析条件设定机构根据标准试样的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先设定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应对作为分析对象元素而追加，故即使在于标准试样中包含含有率不清楚的元素的情况下，仍针对定量分析条件而自动地进行分析对象元素的适合的追加，可进行正确的分析。在本专利技术的荧光X射线分析装置中，最好，上述定量分析设定机构在新检测元素的半定量分析值大于规定的含有率的场合，作为定量分析条件，不将该新检测元素作为分析对象试样的分析对象元素而追加，而是作为剩余元素而设定。在标准试样为比如钢铁的场合，作为主成分的铁应作为剩余元素，而不应作为分析对象元素的元素，但是由于该铁能作为新检测元素而检测，但是通过该优选的方案，将这样的新检测元素不根据半定量分析值，作为分析对象试样中的分析对象元素而追加，而是作为剩余元素而设定。在本专利技术的荧光X射线分析装置中，最好，上述定量分析条件设定机构针对作为分析对象试样中的分析对象元素而追加的新检测元素，设定采用预先存储的装置灵敏度常数的基本参数法的定量运算条件作为定量分析条件。作为针对作为分析对象试样中的分析对象元素而追加的新检测元素的定量运算方法，还包括设定作为标准试样中的已追加的分析对象元素的含有率的半定量分析值的校准线法，但是，在基于使测角器扫描而测定的X射线强度的半定量分析值的精度仍有些问题，然而，按照其优选的方案，由于适用采用预先存储的装置灵敏度常数的基本参数法，采用基于固定测角器而测定的X射线强度的更高精度的定量分析值，故可从整体上进行更加正确的分析。权利要求书和/或说明书和/或附图中公开的至少2个结构中的任意的组合均包含在本专利技术中。特别是，权利要求书中的各项权利要求的2个以上的任意的组合也包含在本专利技术中。附图说明根据参照附图的下面的优选的实施形式的说明，会更清楚地理解本专利技术。但是，实施形式和附图用于单纯的图示和说明，不应用于确定本专利技术的范围。本专利技术的范围由权利要求书确定。在附图中，多个附图中的同一部件标号表示同一部分。图1为表示本专利技术的一个实施方式的荧光X射线分析装置的概况图；图2为表示该荧光X射线分析装置的动作的流程图。具体实施方式下面参照附图，对本专利技术的一个实施方式的装置进行说明。像图1所示的那样，该装置为扫描型的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置测定对试样1、14照射一次X射线3而产生的二次X射线5的强度，该荧光X射线分析装置包括：装载试样1、14的试样台2；对试样1、14照射一次X射线3的X射线管等的X射线源4；分光元件6，该分光元件6对从试样1、14而产生的荧光X射线等的二次X射线5进行分光；检测器8，在该检测器8中，射入通过该分光元件6而分光的二次X射线7，该检测器8检测其强度。检测器8的输出经由在图中没有示出的放大器、波高分析器、计数机构等，输入到控制装置整体的控制机构11中。该装置为波长分散型，并且扫描型的荧光X射线分析装置，包括连动机构10，即所谓的测角器，其按照射入检测器8中的二次X射线7的波长变化的方式，使分光元件6和检测器8连动。如果二次X射线5以某入射角θ而射入分光元件6中，则该二次X射线5的延长线9与通过分光元件6而分光(衍射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种扫描型的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置测定对试样照射一次X射线而产生的二次X射线的强度，该荧光X射线分析装置包括：多个标准试样，该多个标准试样用于形成与分析对象试样相对应的校准线；定量分析条件设定机构，该定量分析条件设定机构预先设定分析对象试样的分析对象元素、以及标准试样的试样组成元素及其含有率作为定量分析条件，上述定量分析条件设定机构进行下述操作，针对标准试样，进行定性分析、以及作为基于定性分析结果的定量分析的半定量分析，将预先设定的试样组成元素以外的元素作为新检测元素而检测；针对新检测元素和预先设定的试样组成元素，通过基本参数法计算与荧光X射线的吸收激励有关的理论矩阵补偿系数，根据该理论矩阵补偿系数、新检测元素的半定量分析值和预先设定的试样组成元素的含有率，将新检测元素的荧光X射线的吸收激励相对分析对象元素的分析值作为吸收激励影响度而计算，将其与相应的规定的基准值进行比较；从预先存储的重叠补偿表格中，调用新检测元素的干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠补偿系数，根据该重叠补偿系数、新检测元素的半定量分析值和预先设定的试样组成元素的含有率，将新检测元素的干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度作为重叠影响度而计算，将其与对应的规定的基准值进行比较；在上述吸收激励影响度和上述重叠影响度中的至少一者大于对应的规定的基准值的场合，作为定量分析条件，该新检测元素作为分析对象试样的分析对象元素而追加。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.28 JP 2015-1695431.一种扫描型的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置测定对试样照射一次X射线而产生的二次X射线的强度，该荧光X射线分析装置包括：多个标准试样，该多个标准试样用于形成与分析对象试样相对应的校准线；定量分析条件设定机构，该定量分析条件设定机构预先设定分析对象试样的分析对象元素、以及标准试样的试样组成元素及其含有率作为定量分析条件，上述定量分析条件设定机构进行下述操作，针对标准试样，进行定性分析、以及作为基于定性分析结果的定量分析的半定量分析，将预先设定的试样组成元素以外的元素作为新检测元素而检测；针对新检测元素和预先设定的试样组成元素，通过基本参数法计算与荧光X射线的吸收激励有关的理论矩阵补偿系数，根据该理论矩阵补偿系数、新检测元素的半定量分析值和预先设定的试样组成元素的含有率，将新检测元素的荧光X射线的吸收激励相对分析对象元素的分析值作为吸收激励影响度而计算，将其...

【专利技术属性】
技术研发人员：原真也，松尾尚，山田康治郎，本间寿，片冈由行，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本,JP