EWTECH LED 工艺制造技术

本发明专利技术涉及允许制备电解铜阴极的工艺，其在电解沉积中直接使用饱和浸出溶液(PLS)，避免了通过溶剂提取来浓缩矿物的步骤。此外，这种工艺具有模块化结构，并且取决于该工艺自身的要求，整个工艺可调。本发明专利技术还涉及操作前述的工艺的系统。

EWTECH LED process

The invention relates to a process for allowing the preparation of an electrolytic copper cathode, in which direct use of a saturated leaching solution (PLS) avoids the steps of concentrating minerals by solvent extraction. In addition, this process has a modular structure, and depends on the requirements of the process itself, the entire process adjustable. The invention also relates to a system for operating the aforementioned process.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】EWTECHLED工艺
本专利技术的
涉及采矿，特别是湿法冶金、电解沉积和/或电解精炼的工艺。
技术介绍
大规模获得铜阴极是现有技术中已知的工艺。这种可获利的工艺对于待获得的大量材料来说是集约的。这种工艺的基础是1869年在南威尔士首次使用的工艺，其中将电解精炼作为在电解槽中进行的金属性铜的纯化工艺进行测试，并且包括施加电流以溶解不纯铜。以这种方式，获得了可能的最纯电解铜，其纯度为99.99％，这允许其在其它应用中作为电导体使用。智利是世界上铜的主要生产者和精炼者之一。获得电解精炼铜的总体工艺为本领域技术人员所已知的(上面图1/9)，并且操作如下：-破碎：在这个阶段，将提取的材料减少到越来越小和更紧凑的部分。-浸出(LX)：冶金技术，包括用硫酸水溶液冲洗矿化堆、溶解氧化矿物中的铜含量和形成硫酸铜溶液，将其带到PLS(饱和浸出溶液)池。-溶剂提取(SX)：是通过使用溶剂分离混合物中一种或多种物质的方法，获得富含铜的溶液。-电解沉积(EW)：是将铜溶液(电解质)带到电解沉积场所的工艺，在电解沉积场所中存在一系列槽，该一系列槽以当向其施加电流时硫酸铜溶液分解并且铜保持附着于阴极的方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于其包括：PLS、ILS、水、试剂的动力泵；PLS累积容器；备用池；混合溶液和ILS溶液(中间浸出溶液)；PLS加热器；热交换器；EWTECH LED电解沉积槽的模块；用于向电解沉积(EW)槽供给PLS的管道；以及低电流整流变压器和允许记录和测量工艺变量的仪器。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于其包括：PLS、ILS、水、试剂的动力泵；PLS累积容器；备用池；混合溶液和ILS溶液(中间浸出溶液)；PLS加热器；热交换器；EWTECHLED电解沉积槽的模块；用于向电解沉积(EW)槽供给PLS的管道；以及低电流整流变压器和允许记录和测量工艺变量的仪器。2.根据权利要求1的在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于PLS加热器和热交换器一起工作使得：根据PLS循环，PLS/PLS或(P/P)板式热交换器将热能从离开EWTECHLED工艺的PLS/残液转移至再循环/新引入的PLS，从而依次在能量方面回馈该溶液，随后在板式热交换器中再一次热处理流体，这次为PLS/水(P/A)，以热水(加热器)作为供热流体在没有直接接触的逆流流动操作中操作，如先前的交换中的一样，从而允许在进入EWTECHLED电解沉积槽时维持PLS的恒定温度在20℃和60℃之间的范围，优选45℃。3.根据权利要求1的在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于PLS动力泵、PLS累积容器、备用池、混合溶液和ILS(中间浸出溶液)和用于向电解沉积(EW)槽供给PLS的管道，顺次工作：将源自EWTECHLED槽的废溶液的LX残液溶液泵送到动态的结块材料堆上，随后是来自其池的ILS再循环溶液，该再循环溶液从逐渐的铜富集的具有低浓度的铜、工艺水以及硫酸的浸出溶液形成，通过管道被送到电解沉积(EW)区域作为PLS，同样地PLS溶液被加热和通过添加添加剂、新鲜的硫酸和工艺用水在线调节，随后PLS进入EWTECHLED电解沉积槽的模块；一旦完成这个步骤，就将贫铜溶液输送到转移容器，该转移容器将溶液导出至混合池；进行这个步骤特定的次数直到EWTECHLED的排出溶液中的铜浓度降低至预定值，此后，将该贫铜排出溶液导出至相同的混合池段，但是作为残液，用于通过动态料堆对其进行铜的再次富集并且因而返回到电解工艺；以这种方式，操作了连续体积的电解溶液。4.根据权利要求1的在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于将允许记录和测量工艺变量的仪器集成到系统中，并且其还允许检测和控制直流、温度、流量、pH和电导率。5.根据权利要求1的在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于整流变压器供给和控制EWTECHLED的储料器和槽的装载密度。6.根据权利要求1的在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于整个系统是模块化和可扩大的，这取决于材料的提供。7.根据权利要求1的在没有用溶剂进行提取的情况下从具有低铜含量的饱和浸出溶液(PLS)进行电解沉积的系统，其特征在于整个系统是可移动的并且可在实地现场安装。8.在没有用溶剂进行提取的情况下用具有低铜含量的PLS进行电解沉积的方法，其特征在于其包括以下步骤：a.粉碎矿石直至100％的产物的直径低于1.27cm；b.用酸和工艺用水使材料结块直...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·A·梅洛蒙达卡，P·戈多伊梅洛，O·戈多伊奥尔京，
申请(专利权)人：普罗特股份有限公司，尢沃特切研究开发与创新股份公司，
类型：发明
国别省市：智利,CL