The present invention provides a method for forming a chemical composition. The method comprises (1) mixed multiple continuous flow of material to form a chemical composition in the mixing tank, each continuous flow of material including the composition of at least one component; and (2) the packing table of the chemical composition of continuous flow moves to the downstream of the mixing tank. The mixing and moving steps are performed continuously. The invention also provides a system that can be used to execute the method.
【技术实现步骤摘要】
先进流体处理方法及系统相关申请的交叉引用本申请要求2016年3月11日提交的美国临时申请第62/306,795号的优先权,其内容以全文引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及连续流体处理方法以及相关系统及组件。
技术介绍
混合是两种或更多种物质经组合同时每种物质的化学性质基本上保持不变的过程。然而,整体混合物的性质可能不同于组分物质的性质。因此,混合通常用以制造具有可以通过分析技术证实的一组所要物理及化学性质的介质。举例来说,在半导体制造中,化学机械平坦化/抛光(CMP)用以使得晶圆表面扁平。此工艺需要使用含有磨料颗粒分散于液体化学组合物(例如含有酸及/或碱的那些)中的浆液。CMP浆液通常通过混合各种化学品及磨料颗粒以形成分散液(例如,胶体分散液)而制造。在CMP期间,磨料颗粒在晶圆上的移动从晶圆表面机械地去除材料。浆液中的酸或碱通过与待去除的材料反应而促进材料的化学去除。因此,所述工艺被称为“化学”“机械”抛光。为了制造具有所要性质的CMP浆液,可能有用的是过滤CMP浆液以实现分散于化学反应性试剂内的磨料颗粒的所要分布。过滤还确保最终CMP产品具有高纯度。随着半导体晶圆变得更先进,晶圆表面上的特征变得更精细并且更复杂。平坦化这些复杂精细特征需要非常紧凑的抛光处理窗。因此,CMP工艺需要CMP浆液性质规格非常严格。这转而迫使CMP浆液制造商显著提高其生产工艺能力同时减小批次之间的变化。常规浆液生产工艺不能满足这些严格要求。常规浆液制造工艺包括分批工艺(图2)及连续工艺(图3)。在分批工艺中,所有浆液组分逐一添加到大罐中(通常通过例如泵的流体传输单元及/或流量 ...
【技术保护点】
一种形成化学组合物的方法,所述方法包括:混合步骤,在至少一个混合罐中混合多个连续的材料流以形成化学组合物,每个连续的材料流包括所述化学组合物的至少一种组分;及移动步骤,使所述化学组合物的连续流移动到所述至少一个混合罐下游的包装台;其中,所述混合步骤及所述移动步骤连续地执行,所述材料流及所述化学组合物的所述连续流处于过程稳态;并且所述至少一个混合罐中的所述混合步骤包括湍流混合所述材料流、机械搅动所述材料流、回流所述化学组合物及其组合中的至少一种混合方法。
【技术特征摘要】
2016.03.11 US 62/306,7951.一种形成化学组合物的方法,所述方法包括:混合步骤,在至少一个混合罐中混合多个连续的材料流以形成化学组合物,每个连续的材料流包括所述化学组合物的至少一种组分;及移动步骤,使所述化学组合物的连续流移动到所述至少一个混合罐下游的包装台;其中,所述混合步骤及所述移动步骤连续地执行,所述材料流及所述化学组合物的所述连续流处于过程稳态;并且所述至少一个混合罐中的所述混合步骤包括湍流混合所述材料流、机械搅动所述材料流、回流所述化学组合物及其组合中的至少一种混合方法。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在所述混合步骤之前,获得具有基本上恒定流速的材料流。3.根据权利要求2所述的方法,其中,获得具有基本上恒定流速的材料流包括:通过至少一个流体传输单元及至少一个流量控制单元,使材料罐中的所述材料流连续回流,直到达到预定流速。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在不中断所述连续工艺的情况下,对所述混合罐中的所述化学组合物执行过程中质量控制测量。5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述混合罐的容积是约40升到约1500升。6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述化学组合物是由包括稀释剂、酸、碱、盐和磨料颗粒的组分制备的抛光组合物。7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述稀释剂包括去离子水。8.根据权利要求6所述的方法,其中,所述酸包括有机酸、无机酸或其混合物。9.根据权利要求6所述的方法,其中,所述碱包括氢氧化钾、氢氧化铵、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、季铵化合物或其混合物。10.根据权利要求6所述的方法,其中,所述盐包括柠檬酸钾、碳酸钾、硝酸铵、硫酸铵、柠檬酸铵、草酸铵、硝酸钾、硫酸钾、氯化钾或其混合物。11.根据权利要求6所述的方法,其中,所述磨料颗粒包括二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛、氧化铝或其混合物。12.根据权利要求6所述的方法,其中,所述磨料颗粒包括胶体二氧化硅。13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述化学组合物的所述连续流包括至多约50wt%二氧化硅。14.根据权利要求1所述的方法,其中,所述化学组合物的所述连续流具有约2至约11的pH。15.根据权利要求14所述的方法,其中,所述化学组合物的所述连续流具有约2至约9的pH。16.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在包装之前,将所述化学组合物连续地移动到存储罐中。17.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在将所述化学组合物的所述连续流移动到所述包装台前,过滤所述化学组合物的所述连续流。18.根据权利要求1所述的方法,其中,流出所述混合罐的所述化学组合物的所述连续流的体积流速是至少约20升/分钟。19.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法形成的所述化学组合物在组分重量...
【专利技术属性】
技术研发人员:周仕斌,张文宏,D·马胡利卡尔,T·瓦尔加,A·米什拉,
申请(专利权)人:富士胶片平面解决方案有限责任公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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