浮法玻璃制造技术
Float glass
The object of the present invention is to provide float glass which effectively suppresses the strength reduction of the bottom surface. The present invention relates to float glass having a surface density of not less than 4700 when the surface does not have a grinding scar and has a base surface contacting the molten metal in float forming. (Sds).
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及浮法玻璃。
技术介绍
在数码相机、手机或便携信息终端PDA(PersonalDigitalAssistants，个人数字助理)等平板显示装置中，为了提高显示器的保护和美观，将薄的板状保护玻璃以成为比图像显示部分大的区域的方式配置在显示器的正面。伴随着对平板显示装置的轻量化和薄型化的要求，要求保护玻璃本身也变薄。因此，为了满足该目的，要求保护玻璃的表面和端面均具有更高的强度。另一方面，广泛使用浮法作为平板玻璃的制造方法。对于通过浮法成形得到的玻璃而言，在制造工序中由于与辊接触而容易在表面产生伤痕，因此，与不与熔融金属接触的顶面相比，在浮法成形时与熔融金属接触的底面的强度有可能降低。为了提高玻璃的强度，已知的方法是利用氢氟酸等实施表面蚀刻处理(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2013-516387号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，当在玻璃表面存在潜在伤痕时，在使用了氢氟酸等的蚀刻处理中，潜在伤痕扩大，有可能产生由凹坑导致的外观不良。此外，从安全方面考虑，氢氟酸需要小心处理。另外，也考虑通过对底面进行研磨或磨削而削去表层...
【技术保护点】
一种浮法玻璃，其中，所述浮法玻璃在表面不具有研磨伤痕，并且所述浮法玻璃的在浮法成形时与熔融金属接触的底面的、在下述条件下测定的顶点密度(Sds)为4700以下；顶点密度(Sds)测定条件：通过原子力显微镜(AFM、Atomic Force Microscope)(XE‑HDM；Park systems公司制造)、测定模式：非接触模式、扫描尺寸：1μm×0.5μm、像素数：256×128、色标：±0.5nm、扫描速度：1Hz、悬臂：非接触悬臂(型号：PPP‑NCHR 10M；Park systems公司制造)获得形状图像，然后利用AFM装置附带的图像分析软件(XEI)分别在形...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.20 JP 2015-0088501.一种浮法玻璃，其中，所述浮法玻璃在表面不具有研磨伤痕，并且所述浮法玻璃的在浮法成形时与熔融金属接触的底面的、在下述条件下测定的顶点密度(Sds)为4700以下；顶点密度(Sds)测定条件：通过原子力显微镜(AFM、AtomicForceMicroscope)(XE-HDM；Parksystems公司制造)、测定模式：非接触模式、扫描尺寸：1μm×0.5μm、像素数：256×128、色标：±0.5nm、扫描速度：1Hz、悬臂：非接触悬臂(型号：PPP-NCHR10M；Parksystems公司制造)获得形状图像，然后利用AFM装置附带的图像分析软件(XEI)分别在形状图像的X方向、Y方向上实施平坦化处理，使用图像分析软件(SPIP6.2.6；ImageMetrology公司制造)对平坦化处理后的形状图像实施形状图像的L-滤波处理(ISO值2.0μm)，并通过粗糙度分析求出顶点密度(Sds)。2.如权利要求1所述的浮法玻璃，其中，将玻璃的自最外表面起算的深度为X的区域中的氢浓度Y进行线性近似而得到的直线在X＝0.10～0.25(μm)的情况下满足下述关系式(I)；Y＝aX+b(I)[式(I)中的各符号的含义如下所述：Y：氢浓度(H2O换算、mol/L)X：自玻璃最外表面起算的深度(μm)a：-2.700以上b：0.700以下]。3.如权利要求1或2所述的浮法玻璃，其中，所述浮法玻璃能够进行...
【专利技术属性】
技术研发人员：鹿岛出，藤原祐辅，玉井喜芳，铃木祐一，世良洋一，山田拓，小林大介，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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