接合胶带、应用其的保护片及偏光板制造技术

一种接合胶带、应用其的保护片及偏光板。接合胶带包括：一基材，具有一接合面与相对的一第一基材侧面与一第二基材侧面；以及一接合层，形成于该基材的该接合面上，该接合层与该第一基材侧面间隔一第一距离且与该第二基材侧面间隔一第二距离。保护片包括第一保护层、第二保护层及接合胶带。第二保护层与该第一保护层以边对边方式并排。接合胶带接合第一保护层与第二保护层。偏光板包括：一第一保护片；一第二保护片；以及一偏光层，配置在该第一保护片与该第二保护片之间。本发明专利技术可改善黏胶在压合过程中会溢出而污染到压合设备，进而污染到后续工艺的偏光板或其它种类的光学产品这一污染问题。

Bonding tape, protective sheet and polarizing plate using the same

Bonding adhesive tape, protective sheet using the same and polarizing plate. Joint tape comprises a substrate having a bonding surface and an opposite substrate with a first side and a second side of the substrate; bonding layer formed on the surface of the substrate bonding, the bonding layer and the first substrate side spaced a first distance and the second substrate side interval distance of second. The protective film comprises a first protection layer, a second protection layer and a bonding adhesive tape. The second protection layer and the first protection layer are arranged side by side. The adhesive tape engages the first protective layer with the second protective layer. The polarizer includes a first protection sheet, a second protection sheet, and a polarizing layer disposed between the first protection sheet and the second protection sheet. The invention can improve the adhesive overflow pollution to pressing equipment in the pressing process, and the pollution to the pollution problem of optical products, polarizing plate or other type of follow-up process.

【技术实现步骤摘要】
接合胶带、应用其的保护片及偏光板
本专利技术是有关于一种接合胶带、应用其的保护片及偏光板，且特别是有关于一种可接合二保护层的接合胶带、应用其的保护片及偏光板。
技术介绍
传统上，可通过压合设备，将二保护片与偏光层压合成一偏光板。然而，保护片在制作过程中会需要用到黏胶，此黏胶在压合过程中会溢出而污染到压合设备，进而污染到后续工艺的偏光板或其它种类的光学产品。因此，如何改善前述污染问题是本
业者努力的目标之一。
技术实现思路
本专利技术有关于一种接合胶带、应用其的保护片及偏光板，可改善黏胶在压合过程中会溢出而污染到压合设备，进而污染到后续工艺的偏光板或其它种类的光学产品这一污染问题。本专利技术一实施例提出一种接合胶带。接合胶带包括一基材及一接合层。基材具有一接合面与相对的一第一基材侧面与一第二基材侧面。接合层形成于基材的接合面上，接合层与第一基材侧面间隔一第一距离且与第二基材侧面间隔一第二距离。其中，该第一距离与该第二距离之和占该第一基材侧面与该第二基材侧面之间的距离的比例介于2％～20％。本专利技术另一实施例提出一种保护片。保护片包括一第一保护层、一第二保护层及一前述的接合胶带。第二保护层与该第一保护层以边对边方式并排。接合胶带接合并排的第一保护层与第二保护层。本专利技术另一实施例提出一种偏光板。偏光板包括一第一保护片、一第二保护片及一偏光层。偏光层配置在第一保护片与第二保护片之间。第一保护片与第二保护片至少一者具有如前述一种保护片的结构。其中，该第一保护片及/或该第二保护片的该接合胶带与该偏光层直接接触。本专利技术另一实施例提出另外一种保护片。保护片包括一第一保护层、一第二保护层、一前述的接合胶带及一裁切胶带。第二保护层与该第一保护层以边对边方式并排。接合胶带接合并排的第一保护层与第二保护层。第一保护层具有表面处理层，裁切胶带黏贴在第一保护层相对表面处理层的另一表面上，且接合胶带覆盖整个裁切胶带。其中，该裁切胶带具有一胶带侧面，该第一保护层具有一保护层侧面，该胶带侧面与该保护层侧面切齐。其中，该裁切胶带及该接合胶带各包括一接合层，该接合胶带的该接合层的一接合层侧面突出超过该裁切胶带的该接合层的一接合层侧面，使该接合胶带、该裁切胶带与该第一保护层之间形成一容胶空间。其中，该接合胶带突出超过该裁切胶带的一胶带侧面而黏贴在该第二保护层上，使该接合胶带、该裁切胶带与该第二保护层之间形成一容胶空间。其中，更包括一裁切道，该裁切道经过该第一保护层及该裁切胶带，且该裁切道沿一直线、一曲线或其组合延伸。本专利技术另一实施例提出一种偏光板。偏光板包括一第一保护片、一第二保护片及一偏光层。偏光层配置在第一保护片与第二保护片之间。第一保护片与第二保护片至少一者具有如前述另外一种保护片的结构。其中，该第一保护片与该第二保护片的一者具有前述一种保护片的结构，而该第一保护片与该第二保护片的另一者具有前述另一种保护片的结构。其中，该第一保护片的该接合胶带与该第二保护片的该接合胶带相对配置。附图说明图1A绘示依照本专利技术一实施例的第一保护片的俯视图。图1B绘示图1A的第一保护片沿方向1B-1B’的剖视图。图2绘示依照本专利技术一实施例的偏光板的剖视图。图3绘示依照本专利技术另一实施例的第一保护片的剖视图。图4A～4D绘示图3的第一保护片的制造过程图。图5绘示依照本专利技术另一实施例图偏光板的俯视图。图6～9绘示依照本专利技术其它数个实施例的保护片的示意图。其中，附图标记：100、200：偏光板110、210、310、410、510、610：第一保护片111、111’：第一保护层111a、112a：第一面111b：第二面111s：第一保护层侧面112：第二保护层112s：第二保护层侧面113：接合胶带1131、2141：基材1131a、2141a：接合面1131b：第一基材侧面1131c：第二基材侧面1131d：第三基材侧面1131e：第四基材侧面1132、2142：接合层120、220：第二保护片130：偏光层214：裁切胶带2141b：第一基材侧面2141c：第二基材侧面2142b：第一接合层侧面2142c：第二接合层侧面215：表面处理层A1：夹角S1：第一距离S2：第二距离S3：距离S4：第三距离SP1、SP2：容胶空间P1、P11～P15：切割道具体实施方式请参照图1A及图1B，图1A绘示依照本专利技术一实施例的第一保护片110的俯视图，而图1B绘示图1A的第一保护片110沿方向1B-1B’的剖视图。第一保护片110包括第一保护层111、第二保护层112及接合胶带113，其中接合胶带113接合分离的第一保护层111与第二保护层112，以形成一延长保护层结构。本实施例的第一保护片110例如是裁切成至少一偏光片产品前的第一保护片材，其具有一定连续长度，能被卷绕在一卷料轮，且可连续传输于压合设备中。第一保护层111与第二保护层112以边对边方式并排。例如，第一保护层111及第二保护层112分别具有第一保护层侧面111s及第二保护层侧面112s，第一保护层侧面111s与第二保护层侧面112s相对配置。此外，第一保护层侧面111s及第二保护层侧面112s可彼此接触，然亦可彼此间隔。接合胶带113黏贴在第一保护层111的第一面111a与第二保护层112的第一面112a，以接合第一保护层111与第二保护层112。第一保护层111的第一面111a与第二保护层112的第一面112a是第一保护片110的同侧的表面。接合胶带113包括基材1131及接合层1132，其中接合层1132预形成于基材1131的接合面1131a上。接合胶带113通过接合层1132接合第一保护层111与第二保护层112。此外，接合层1132例如是黏胶，其可由例如是(甲基)丙烯酸共聚物材料制成，例如是可包含但不限于官能基的材料，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等材料。基材1131更具有相对的第一基材侧面1131b与第二基材侧面1131c，前述接合面1131a延伸于第一基材侧面1131b与一第二基材侧面1131c之间。接合层1132与第一基材侧面1131b间隔第一距离S1且与第二基材侧面1131c间隔一第二距离S2。如此，在偏光板100(如图2所示)的压合工艺中，可避免在压合力作用下，接合层1132的胶溢出超过第一基材侧面1131b及第二基材侧面1131c，进而避免接合层1132的胶污染到压合设备，如滚轮。第一距离S1与第二距离S2之和占第一基材侧面1131b与第二基材侧面1131c之间的距离S3的比例可介于约2％～约20％、或约5％～约20％或约10％～约20％，可确保接合层1132不会溢出第一基材侧面1131b及第二基材侧面1131c。在一实施例中，如图1A所示，接合层1132与基材1131的另外相对的第三基材侧面1131d与第四基材侧面1131e也可具有类似第一基材侧面1131b与第二基材侧面1131c的设计，以达到相似的效果。请参照图2，其绘示依照本专利技术一实施例的偏光板100的剖视图。偏光板100包括第一保护片110、第二保护片120及偏光层130。第二保护片120具有相同于或类似于第一保护片110的结构，于此不再赘述。偏光层130位于第一保护片1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接合胶带，其特征在于，该接合胶带包括：一基材，具有一接合面与相对的一第一基材侧面与一第二基材侧面；以及一接合层，形成于该基材的该接合面上，该接合层与该第一基材侧面间隔一第一距离且与该第二基材侧面间隔一第二距离。

【技术特征摘要】
2017.06.19 TW 1061204421.一种接合胶带，其特征在于，该接合胶带包括：一基材，具有一接合面与相对的一第一基材侧面与一第二基材侧面；以及一接合层，形成于该基材的该接合面上，该接合层与该第一基材侧面间隔一第一距离且与该第二基材侧面间隔一第二距离。2.如权利要求1所述的接合胶带，其特征在于，该第一距离与该第二距离之和占该第一基材侧面与该第二基材侧面之间的距离的比例介于2％～20％。3.一种保护片，其特征在于，该保护片包括：一第一保护层；一第二保护层，与该第一保护层以边对边方式并排；以及一权利要求1所述的该接合胶带，接合并排的该第一保护层与该第二保护层。4.一种偏光板，其特征在于，该偏光板包括：一第一保护片；一第二保护片；以及一偏光层，配置在该第一保护片与该第二保护片之间；其中，该第一保护片与该第二保护片至少一者具有权利要求3所述的保护片的结构。5.如权利要求4所述的偏光板，其特征在于，该第一保护片及/或该第二保护片的该接合胶带与该偏光层直接接触。6.一种保护片，其特征在于，该保护片包括：一第一保护层；一第二保护层，与该第一保护层以边对边方式并排；一如权利要求1所述的该接合胶带，接合并排的该第一保护层与该第二保护层；以及一裁切胶带；其中，该第一保护层具有一表面处理层，该裁切胶带黏贴在该第一保护层相对该表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑唯豆，林益正，邱琬之，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71