一种废液中贵金属的回收方法技术
The method for recovering waste of precious metals
The invention discloses a method for recovering waste of precious metals, the method comprises the following steps: S1, clean the surface of the silicon wafer, removing the oxide layer of silicon surface; S2, silicon chips into waste liquid containing noble metal ions, noble metal ion electron was restored to the precious metal simple substance from the silicon surface, and attached to the surface of a silicon wafer; S3, attachment of precious metals out of silicon wafer, ultrasonic cleaning; S4, after the removal of air, and a collection of precious metals. The invention uses silicon wafer as the extraction material of noble metal ion, and has the advantages of low price and repeated use, high recovery efficiency and no need of other chemicals, and the recovery process does not generate two waste liquid.
【技术实现步骤摘要】
一种废液中贵金属的回收方法
本专利技术涉及废液处理
，特别是涉及一种废液中贵金属的回收方法。
技术介绍
在现代工业生产中，如贵金属采矿、电子、电镀、太阳能电池行业，常常会产生大量的含有贵金属离子的废液。一方面，这类废液的排放受到环保部门的严格控制和监管；另一方面，废液中的贵金属是一种难得的可再生资源，具有较高的回收利用价值。然而，由于其中的贵金属含量较低，回收利用成本较高。常用的废液中贵金属回收方法有电解法、置换法、吸附法、离子变换法和溶剂萃取法等，一般需要较复杂的设备或者其他化学品，回收成本较高；特别是回收低含量贵金属的废液往往得不偿失。因此，针对上述技术问题，有必要提供一种废液中贵金属的回收方法。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种废液中贵金属的回收方法。为了实现上述目的，本专利技术实施例提供的技术方案如下：一种废液中贵金属的回收方法，所述方法包括以下步骤：S1、对硅片进行表面清洁，去除硅片表面的氧化层；S2、将硅片放入含有贵金属离子的废液中，贵金属离子从硅片表面得到电子被还原成贵金属单质，并附着于硅片表面；S3、将附着有贵金属的硅片取出，...
【技术保护点】
一种废液中贵金属的回收方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：S1、对硅片进行表面清洁，去除硅片表面的氧化层；S2、将硅片放入含有贵金属离子的废液中，贵金属离子从硅片表面得到电子被还原成贵金属单质，并附着于硅片表面；S3、将附着有贵金属的硅片取出，进行超声清洗；S4、取出后晾干，并进行贵金属的收集。
【技术特征摘要】
1.一种废液中贵金属的回收方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：S1、对硅片进行表面清洁，去除硅片表面的氧化层；S2、将硅片放入含有贵金属离子的废液中，贵金属离子从硅片表面得到电子被还原成贵金属单质，并附着于硅片表面；S3、将附着有贵金属的硅片取出，进行超声清洗；S4、取出后晾干，并进行贵金属的收集。2.根据权利要求1所述的一种废液中贵金属的回收方法，其特征在于，所述步骤S1中“对硅片进行表面清洁”具体为：将硅片放入离子水或稀氢氟酸中进行表面清洁。3.根据权利要求1所述的一种废液中贵金属的回收方法，其特征在于，所述步骤S2中的贵金属离子包括Pt离子、Au离子、Ag离子、Cu离子中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的一种废液中贵金属的回收方法，其特征在于，所述步骤S2的废液中贵金属粒子的浓度大于或等于10-9mol/L。5.根据权利要求1所述的一种废液中贵金属的回收方...
【专利技术属性】
技术研发人员：查嘉伟，苏晓东，
申请(专利权)人：嘉兴尚能光伏材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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