一种巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜及其制备方法技术
【技术实现步骤摘要】
一种巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜及其制备方法
本专利技术涉及新材料
，尤其涉及一种巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜及其制备方法。
技术介绍
在现代社会生产和科学技术中,磁性材料和磁效应在许多方面已经获得重要的应用。近年来,随着磁学研究的发展,在一些新的磁性材料中发现若干磁效应有着很大的,甚至突破性的增长,称为巨磁效应。这些巨磁效应材料的研究和发展不但对磁学提出了重要的挑战,而且也为高新技术的应用提供了新的可能。外加磁场或者材料特别是磁性材料内部磁状态的变化引起材料所透射或者反射光、或者发射光特性的改变成为磁光效应。但是，近年来随着巨磁效应研究的进展，信息新技术的要求，也相继研究出一些具有巨磁光效应的新磁性材料。钇铁石榴石(YIG)是迄今最透明的磁性材料，具有居里点在室温以上的有点，在光波长为1.2微米时，吸收系数可接近0.01厘米，有望成为最具应用前景的磁光材料。可是作为磁光材料，纯YIG的磁光效应很弱，应用的光通信磁光开关器件需要对YIG进行Bi、Lu、Tm等元素的掺杂改性能增强其磁光效应，但存在晶格失配和几十微米超厚膜难制备的问题，且液相外延制备...
【技术保护点】
一种巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜，其特征在于，包括采用液相外延在[111]晶向的钆镓石榴石上生长的高质量单晶钇铁石榴石作为基片，以及所述的YIG基片上利用分子束外延技术生长很薄的一层铋得到钇铁石榴石/铋异质薄膜。
【技术特征摘要】
1.一种巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜，其特征在于，包括采用液相外延在[111]晶向的钆镓石榴石上生长的高质量单晶钇铁石榴石作为基片，以及所述的YIG基片上利用分子束外延技术生长很薄的一层铋得到钇铁石榴石/铋异质薄膜。2.如权利要求1所述的巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜，其特征在于，所述的钇铁石榴石基片的厚度为470～500nm。3.如权利要求1所述的巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜，其特征在于，所述的铋薄膜厚度为3～50nm。4.一种巨磁光效应的钇铁石榴石/铋异质薄膜结构及其制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：选择以[111]晶向的钆镓石榴石为基底，采用液相外延生长的高质量的钇铁石榴石，经过丙酮、酒精以及去离子水清洗，用氮气吹干，保证钇铁石榴石表面干燥洁净；步骤2：将步骤1中...
【专利技术属性】
技术研发人员：金立川，洪彩云，张怀武，杨青慧，钟智勇，饶毅恒，李颉，廖宇龙，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川,51
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