一种大光圈投影光学系统技术方案

本发明专利技术公开了一种大光圈投影光学系统，从投射面到发光芯片依次设置有：第一透镜，第一透镜为球面透镜，且光焦度为负；第二透镜，第二透镜为非球面透镜，光焦度为负；且第二透镜两面均弯向发光芯片；光阑；第三透镜，第三透镜为球面透镜，光焦度为正，且第三透镜采用双凸透镜；第四透镜，第四透镜为球面透镜，且光焦度为负；第五透镜，第五透镜为球面透镜，且光焦度为正；第六透镜，第六透镜为球面透镜，且光焦度为正；第七透镜，第七透镜为非球面透镜；且光焦度为正；棱镜。本发明专利技术结构简单，光圈大，体积小，低成本，放大率高、高温共焦。

【技术实现步骤摘要】
一种大光圈投影光学系统
本专利技术涉及一种投影光学系统，尤其是一种大光圈投影光学系统。
技术介绍
随着投影技术的发展，投影机被广泛应用在教育、医疗、家用等领域，人们对投影机的要求越来越高，镜头作为投影机的核心部件，对各种参数的要求夜随之提高，但目前市场上投影机镜头普遍存在这样的缺点：镜头光圈小，导致投影机在白天投影的画面亮度低，影响日常的使用；少部分镜头虽然光圈比较大，但由于使用了较多球面或者玻璃非球面，导致价格昂贵；也有少部分镜头为了降低成本，提高镜头的放大率，在镜头中采用塑料非球面，但由于投影机发热量大，这类镜头往往会因为高温出现虚焦现象；目前市场上还没有克服以上全部缺点的投影镜头。因此，本专利技术正是基于以上的不足而产生的。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供了一种结构简单，光圈大，体积小，低成本，放大率高、高温共焦的大光圈投影光学系统。为解决上述技术问题，本专利技术采用了下述技术方案：一种大光圈投影光学系统，其特征在于，从投射面到发光芯片依次设置有：第一透镜，所述第一透镜为球面透镜，且光焦度为负；第二透镜，所述第二透镜为非球面透镜，光焦度为负；且第二透镜两本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大光圈投影光学系统，其特征在于，从投射面到发光芯片(9)依次设置有：第一透镜(1)，所述第一透镜(1)为球面透镜，且光焦度为负；第二透镜(2)，所述第二透镜(2)为非球面透镜，光焦度为负；且第二透镜(2)两面均弯向发光芯片(9)；光阑(10)；第三透镜(3)，所述第三透镜(3)为球面透镜，光焦度为正，且第三透镜(3)采用双凸透镜；第四透镜(4)，所述第四透镜(4)为球面透镜，且光焦度为负；第五透镜(5)，所述第五透镜(5)为球面透镜，且光焦度为正；第六透镜(6)，所述第六透镜(6)为球面透镜，且光焦度为正；第七透镜(7)，所述第七透镜(7)为非球面透镜；且光焦度为正；棱镜(8)。

【技术特征摘要】
1.一种大光圈投影光学系统，其特征在于，从投射面到发光芯片(9)依次设置有：第一透镜(1)，所述第一透镜(1)为球面透镜，且光焦度为负；第二透镜(2)，所述第二透镜(2)为非球面透镜，光焦度为负；且第二透镜(2)两面均弯向发光芯片(9)；光阑(10)；第三透镜(3)，所述第三透镜(3)为球面透镜，光焦度为正，且第三透镜(3)采用双凸透镜；第四透镜(4)，所述第四透镜(4)为球面透镜，且光焦度为负；第五透镜(5)，所述第五透镜(5)为球面透镜，且光焦度为正；第六透镜(6)，所述第六透镜(6)为球面透镜，且光焦度为正；第七透镜(7)，所述第七透镜(7)为非球面透镜；且光焦度为正；棱镜(8)。2.根据权利要求1所述的一种大光圈投影光学系统，其特征在于，所述的第一透镜(1)、第三透镜(3)、第四透镜(4)、第五透镜(5)和第六透镜(6)采用玻璃材质，所述的第二透镜(2)和第七透镜(7)采用塑料材质。3.根据权利要求1所述的一种大光圈投影光学系统，其特征在于，所述第一透镜(1)的光焦度为φ1，所述第二透镜(2)的光焦度为φ2，所述第三透镜(3)的光焦度为φ3，所述第四透镜(4)的光焦度为φ4，第五透镜(5)的光焦度为φ5，第六透镜(6)的光焦度为φ6，第七透镜(7)的光焦度为φ7，满足：1.68<|φ1/φ2|<1.71，-0.06<φ4&...

【专利技术属性】
技术研发人员：全丽伟，李建华，朱洪婷，龚俊强，
申请(专利权)人：中山联合光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44