光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法技术
【技术实现步骤摘要】
光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法
本专利技术涉及一种电磁屏蔽玻璃，特别是涉及一种光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法。
技术介绍
电磁屏蔽玻璃是一类具有衰减电磁辐射功率功能的透光观察视窗器件，应用于特种显示领域时，能够起到防止电磁信息泄露、抵抗外来电磁干扰的作用。传统电磁屏蔽玻璃通常是在高温高压条件下利用有机胶片材料将“防眩/减反玻璃”、“电磁屏蔽材料”和“结构支撑玻璃”粘接在一起制成的，其工艺过程较为复杂，成品率相对较低。常用的电磁屏蔽材料主要包括ITO导电膜、刻蚀丝网及金属网栅。其中，ITO导电膜具有较高的透光率，但其电导率相对较低，屏蔽效能差，仅能满足屏效要求较低的应用要求；刻蚀丝网和金属网栅具有相对较高的屏蔽效能，但其透光率会随屏蔽效能的增强而迅速衰减，且存在由于光学干涉而产生的莫尔条纹现象，极大的限制了其应用途径。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，提供一种新型光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法，所要解决的技术问题是使其同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，从而更加适于实用。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种光学...
【技术保护点】
一种光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于：其包括以下步骤:在结构支撑玻璃的表面涂覆光刻胶涂层；根据泰森多边形法计算无规则网格图形，将所述无规则网格的图形输入激光器中，在所述光刻胶涂层上进行激光直写刻蚀，除去结构支撑玻璃上无规则网格图形外围的光刻胶，得到具有无规则网格图形的光刻胶掩膜；在所述光刻胶掩膜上镀制复合金属膜层；所述的复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述光刻胶掩膜上；所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁；去除镀制完复合金属膜层的玻璃上的光刻胶，得到光学调控电磁屏蔽玻璃。
【技术特征摘要】
1.一种光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于：其包括以下步骤:在结构支撑玻璃的表面涂覆光刻胶涂层；根据泰森多边形法计算无规则网格图形，将所述无规则网格的图形输入激光器中，在所述光刻胶涂层上进行激光直写刻蚀，除去结构支撑玻璃上无规则网格图形外围的光刻胶，得到具有无规则网格图形的光刻胶掩膜；在所述光刻胶掩膜上镀制复合金属膜层；所述的复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述光刻胶掩膜上；所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁；去除镀制完复合金属膜层的玻璃上的光刻胶，得到光学调控电磁屏蔽玻璃。2.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于，所述的光刻胶的材料为正性光刻胶，所述光刻胶的厚度为12-20μm；所述的复合金属膜层为：铬膜层和铜膜层，铬膜层的厚度为50-80nm，铜膜层的厚度为300-700nm；氧化铝膜层、铝膜层、和银膜层，氧化铝膜层的厚度为10-20nm，铝膜层的厚度为50-80nm，银膜层的厚度为300-700nm；或铬膜层和金膜层，铬膜层的厚度为50-80nm，金膜层的厚度为300-700nm。3.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于，根据泰森多边形法计算无规则网格图形时，以单位面积上随机点分布密度和无规则网格图形的网格边线线径为变量；所述网格边线的线径为8-15μm。4.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于，利用真空镀膜法镀制所述的复合金属膜层，镀膜时，本底真空度为3.0×10-4-5.0×10-4Pa，烘烤温度50-80℃，保温时间为25-35min。5.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于，对所述的结构支撑玻璃的另一表面进行防眩处理或镀制复合减反射膜。6.根据权利要求5所述的光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法，其特征在于，采用喷砂法对结构支撑玻...
【专利技术属性】
技术研发人员：邱阳，陈玮，金扬利，祖成奎，韩滨，徐博，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院，
类型：发明
国别省市：北京,11
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