一种接近式曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供一种接近式曝光装置，涉及显示技术领域，能够调节不同区域的曝光光线的透过率，使得整个曝光区域的照度更加均一化。所述接近式曝光装置包括用于提供曝光光线的光源，以及设置在曝光光线的光路上的光线开关件、滤光器、复眼透镜、凹面镜和曝光基台，其中，光线开关件用于允许或阻挡曝光光线的通过，滤光器用于透射预设波段的曝光光线，复眼透镜包括在二维方向上分布的多个子眼单元，还包括：调光面板，调光面板位于复眼透镜和滤光器之间或复眼透镜和凹面镜之间的光路上；调光面板包括在二维方向上分布的多个调光单元，每个调光单元在不同的工作电压下具有不同的光线透过率。本实用新型专利技术用于基板曝光。

Proximity type exposure device

The embodiment of the utility model provides a proximity type exposure device, which relates to the display technical field, and can adjust the transmittance of the exposure light in different areas, so that the illuminance of the whole exposure area is more uniform. The proximity exposure apparatus includes a light source for exposure to light, and the light path is arranged in the exposure light light switch, a filter, a fly eye lens, concave mirror and exposure base station, the light switch for allowing or blocking the passage of light exposure, the exposure light transmission filter for preset band eye, eye lens comprises a plurality of sub units, distribution in two dimensions include: dimming panel, dimming panel on the optical path between the eye lens and a filter or between the compound eye lens and a concave mirror; the dimming panel includes a plurality of light distribution unit in two-dimensional directions, each light unit in different voltages with different light transmittance. The utility model is used for the substrate exposure.

【技术实现步骤摘要】
一种接近式曝光装置
本技术涉及显示
，尤其涉及一种接近式曝光装置。
技术介绍
TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)是目前主流的液晶显示器，而薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板是其显示面板的主要构成部件。在阵列基板和彩膜基板的制备过程中，光刻工艺是非常重要的；目前的光刻工艺通常包括：涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影以及后烘等。其中，曝光是采用曝光光线通过掩膜板照射在待曝光基板的光刻胶上，将光刻胶感光；在实际应用中，通常需要曝光区域均匀感光才能获得较好的曝光效果，而曝光效果的好坏直接影响整个显示装置的良率。现有的接近式曝光机中的曝光光源常常采用高压紫外汞灯，如图1所示，为了提高光线利用率，高压紫外汞灯01外围还设置有抛物面镜02，但由于高压紫外汞灯01并非理想化的点光源，在经过抛物面镜02的焦点以外的光线不会以平行的方向传播出去，这样便导致了来自不同方向上光线的叠加，使得到达曝光基台上的各区域光线的照度出现不均匀的情况。虽然现有技术中通常会在曝光光源与曝光基台之间的光路上设置复眼透镜来均一化各区域的照度，但由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接近式曝光装置，包括用于提供曝光光线的光源，以及设置在所述曝光光线的光路上的光线开关件、滤光器、复眼透镜、凹面镜和曝光基台，其中，所述光线开关件用于允许或阻挡所述曝光光线的通过，所述滤光器用于透射预设波段的曝光光线，所述复眼透镜包括在二维方向上分布的多个子眼单元，其特征在于，还包括：调光面板，所述调光面板位于所述复眼透镜和所述滤光器之间或所述复眼透镜和所述凹面镜之间的光路上；所述调光面板包括在二维方向上分布的多个调光单元，每个所述调光单元在不同的工作电压下具有不同的光线透过率。

【技术特征摘要】
1.一种接近式曝光装置，包括用于提供曝光光线的光源，以及设置在所述曝光光线的光路上的光线开关件、滤光器、复眼透镜、凹面镜和曝光基台，其中，所述光线开关件用于允许或阻挡所述曝光光线的通过，所述滤光器用于透射预设波段的曝光光线，所述复眼透镜包括在二维方向上分布的多个子眼单元，其特征在于，还包括：调光面板，所述调光面板位于所述复眼透镜和所述滤光器之间或所述复眼透镜和所述凹面镜之间的光路上；所述调光面板包括在二维方向上分布的多个调光单元，每个所述调光单元在不同的工作电压下具有不同的光线透过率。2.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，每个所述调光单元的面积大于每个所述子眼单元在垂直于光路的平面上的投影的面积。3.根据权利要求2所述的接近式曝光装置，其特征在于，每个所述调光单元的面积为每个所述子眼单元在垂直于光路的平面上的投影的面积的2～3倍。4.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，所述调光面板包括相对设置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的...

【专利技术属性】
技术研发人员：代伟男，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11