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本实用新型实施例提供一种接近式曝光装置，涉及显示技术领域，能够调节不同区域的曝光光线的透过率，使得整个曝光区域的照度更加均一化。所述接近式曝光装置包括用于提供曝光光线的光源，以及设置在曝光光线的光路上的光线开关件、滤光器、复眼透镜、凹面镜和...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。