用于样本阵列的自参考检测与成像的系统和方法技术方案

提供一种用于检测具有可检测样本和至少一个参考样本的样本阵列的系统。该系统包括：电磁辐射源；感测表面，包括多个样本域，其中，所述多个样本域包括至少一个参考域；相位差产生器，配置成导入样本阵列中的一个或更多的样本的路径长度的差异；以及成像光谱仪，配置成对样本阵列中的一个或更多的样本进行成像。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于样本阵列的自参考检测与成像的系统和方法
技术介绍
本专利技术涉及检测与成像，更具体而言，涉及用于样本阵列的光学检测与成像的系统和方法。表面等离子体共振（SPR）检测是用于检测分子吸收和相互作用的光学检测技术。SPR检测被用于包含生物传感器的多种多样的化学系统。典型而言，SPR传感器包括棱镜支持薄金属层的布置。配体分子被固定在薄金属层的一侧，以从该薄金属层形成改性金属表面。样本被设置在改性金属表面上。入射到样本上的光束以共振方式激发薄金属层中的表面等离子体。表面等离子体在平行于薄金属层与棱镜之间形成的界面（金属/棱镜界面）的方向扩散。由于表面等离子体存在于薄金属层与外部介质（例如空气或水）的边界，因此表面等离子体的震荡响应于金属与外部介质的边界的任何改变、诸如金属表面上的分子的吸收。SPR现象典型地通过对薄金属层的表面附近的折射率改变进行感测来检测。改性金属表面的反射光谱可以通过测量作为入射光的入射角或者波长的函数的、反射光的强度来确定。SPR现象对在边界的折射率改变的敏感性对于观察并量化在薄金属膜/样本溶液界面的化学反应是有用的。典型而言，SPR系统在干涉仪中使用两个不同的路径。第一路本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于检测具有可检测样本和至少一个参考样本的样本阵列的系统，包括：电磁辐射源，用于提供入射辐射；感测表面，包括多个样本域，其中，所述多个样本域包括至少一个参考域，并且其中所述感测表面被所述入射辐射照射以生成结果束；相位差产生器，配置成通过在第一方向在所述入射辐射或者所述结果束中导入相位差来导入所述样本阵列中的一个或更多的样本的路径长度的差异；以及成像光谱仪，配置成在不同于所述第一方向的第二方向对所述样本阵列中的一个或更多的样本进行成像，其中，所述成像光谱仪是2D光谱仪，所述2D光谱仪配置成检测在x方向引入的相位差并且在y方向成像。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.09.30 IN 3391/CHE/20111.一种用于检测具有可检测样本和至少一个参考样本的样本阵列的系统，包括：电磁辐射源，用于提供入射辐射；感测表面，包括多个样本域，其中，所述多个样本域包括至少一个参考域，并且其中所述感测表面被所述入射辐射照射以生成结果束；相位差产生器，配置成通过在第一方向在所述入射辐射或者所述结果束中导入相位差来导入所述样本阵列中的一个或更多的样本的路径长度的差异；以及成像光谱仪，配置成在不同于所述第一方向的第二方向对所述样本阵列中的一个或更多的样本进行成像，其中，所述成像光谱仪是2D光谱仪，所述2D光谱仪配置成检测在x方向引入的相位差并且在y方向成像。2.如权利要求1所述的系统，其中，所述参考域包括所述参考样本。3.如权利要求1所述的系统，其中，所述参考样本包括确定的光谱吸收。4.如权利要求2所述的系统，其中，所述参考样本包括具有高于或者低于可检测范围的折射率的材料。5.如权利要求1所述的系统，其中，所述参考域包括一个或更多的层或者金属的涂层或者电介质材料。6.如权利要求1所述的系统，其中，所述检测系统包括用于所述可检测样本和参考样本的公共光路。7.如权利要求1所述的系统，其中，所述感测表面包括多个参考域。8...

【专利技术属性】
技术研发人员：M山田，S迈蒂，SD瓦尔塔克，R兰戈祖，A帕蒂尔，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国,US