水平度调整装置及水平度调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种水平度调整装置及水平度调整方法，所述水平度调整方法用于将多个待调整部件的测量点位置调整至处于同一预定水平面上；所述方法包括：在各待调整部件的测量点位置处设置待触发物，所述待触发物能够被预设光线触发而发出预设触发信号；发射所述预设光线，且所述预设光线为在所述预定水平面上传播的准直光线；调整每一待调整部件的位置，直至每一待调整部件的测量点处的待触发物发出所述预设触发信号。本发明专利技术所提供的水平度调整方法和装置测量方法方便，节省作业时间，提高作业效率，且能够提高水平度调整精度。

【技术实现步骤摘要】
水平度调整装置及水平度调整方法
本专利技术涉及测量
，尤其涉及一种水平度调整装置及水平度调整方法。
技术介绍
在TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)制造工艺中，以磁控溅射设备为例，需要承托盘等来承载玻璃基板在设备内传送，而承托盘的传送是靠其下部一排滚轮进行的，如果各滚轮不在同一水平高度上时，会造成承托盘的颠簸和振动，从而导致玻璃基板碎片，因此调整各滚轮的水平度至关重要。目前业内常用调整各滚轮水平度的方法主要是利用激光准直仪，测量每一滚轮的高度，来对滚轮高度进行调整。但是，由于设备的滚轮较多，这种方法导致测量所需时间长，且准确度不高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种水平度调整装置及水平度调整方法，测量方法方便，节省作业时间，提高作业效率，且能够提高水平度调整精度。本专利技术所提供的技术方案如下：一种水平度调整方法，用于将多个待调整部件的测量点位置调整至处于同一预定水平面上；所述方法包括：在各待调整部件的测量点位置处设置待触发物，所述待触发物能够被预设光线触发而发出预设触发信号；发射所述预设光线，且所述预设光线为在所述预定水平面上传播的准直光线；调整每本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水平度调整方法，用于将多个待调整部件的测量点位置调整至处于同一预定水平面上；其特征在于，所述方法包括：在各待调整部件的测量点位置处设置待触发物，所述待触发物能够被预设光线触发而发出预设触发信号；发射所述预设光线，且所述预设光线为在所述预定水平面上传播的准直光线；调整每一待调整部件的位置，直至每一待调整部件的测量点处的待触发物发出所述预设触发信号。

【技术特征摘要】
1.一种水平度调整方法，用于将多个待调整部件的测量点位置调整至处于同一预定水平面上；其特征在于，所述方法包括：在各待调整部件的测量点位置处设置待触发物，所述待触发物能够被预设光线触发而发出预设触发信号；发射所述预设光线，且所述预设光线为在所述预定水平面上传播的准直光线；调整每一待调整部件的位置，直至每一待调整部件的测量点处的待触发物发出所述预设触发信号。2.根据权利要求1所述的水平度调整方法，其特征在于，在所述方法中，所述待触发物包括能够在所述预定光线激发下发出预定波长的光的发光件。3.根据权利要求2所述的水平度调整方法，其特征在于，所述发光件包括能够在所述预定光线激发下发出预定波长的荧光的量子点材料及用于承载所述量子点材料的量子点载体器件，所述量子点载体器件可拆卸地设置在所述待调整部件的测量点处。4.根据权利要求3所述的水平度调整方法，其特征在于，所述量子点载体器件包括包裹或掺杂所述量子点材料的纳米器件。5.根据权利要求1所述的水平度调整方法，其特征在于，在所述方法中，沿所述预定水平面发射所述预设光线，具体包括：沿一水平面发射所述预定光线，且所述预定光线发射至一基准参照物上，当所述预定光线触发预定基准待调整部件上的待触发物发出所述预定触发信号时，在所述基准参照物上对当前所述预定光线的高度进行标记，并以当前水平面作为所述预定水平面；发射所述预设光线，并保证所述预定光线始终发射至所述基准参照物上的标记上。6.根据权利要求1所述的水平度调整方法，其特征在于，在所述方法中，调整每一待调整部件的位置，直至每一待调整部件的测量点处的待触发物发出所述预设触发信号，具体包括：第一调整步骤：当所述待调整部件的数量大于预设值时，多个待调整部件沿所述预定光线发射方向依次排列，包括最接近所述预定光线发射点的第一待调整部件和除所述第一待调整部件之外的多个第二待调整部件；其中当调整除所述第一待调整部件之外的第二待调整部件时，将位...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛瑞锋，金相起，侯建新，程贯杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11