水平工艺线的除污模块及用于从此除污模块分离及移除除污颗粒的方法技术

本发明专利技术涉及一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块(1)，所述水平电化或湿式化学工艺线用于在待处理衬底上进行金属沉积、尤其是铜沉积，除污模块(1)用于移除沉淀物，除污模块(1)包括可连接到除污单元(3)的除污容器(2)、泵(4)及用于将泵与除污单元连接的至少第一液体连接元件(5)，其中泵是通过至少第一液体连接元件与除污单元结合；且其中在除污模块内部提供处理液位(6)，处理液位(6)高于泵的进水区(7)；其中除污模块进一步包括至少第一液体区域(9)、包括泵的进水区的至少相邻第二液体区域(10)，及被布置在至少第一液体区域与至少第二液体区域之间的至少第一分离元件(11)。本发明专利技术进一步涉及一种用于从此除污模块选择性分离及随后移除除污颗粒的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水平工艺线的除污模块及用于从此除污模块分离及移除除污颗粒的方法
本专利技术涉及一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块，其用于移除待处理衬底上的沉淀物，尤其是铜的金属沉积物，所述除污模块包括可连接到除污单元的除污容器、泵及用于将所述泵与所述除污单元连接的至少第一液体连接元件，其中所述泵是通过所述至少第一液体连接元件与所述除污单元结合；且其中处理液位被提供在所述除污模块内部，所述处理液位高于所述泵的进水区。本专利技术进一步涉及一种用于从此除污模块选择性分离及随后移除除污颗粒的方法。
技术介绍
例如高锰酸钠或高锰酸钾、铬酸或硫酸的除污化学物质在印刷电路板产业中众所周知地用于清理印刷电路板过程中的钻出的贯穿管道。尤其如果高锰酸钠或高锰酸钾已用于此除污清理程序，那么通过除污化学物质与印刷电路板的经钻出贯穿管道的位置处的树脂残留物的化学反应产生大量除污颗粒。所述所产生的除污颗粒在高锰酸钠或高锰酸钾的情况中是二氧化锰颗粒，其已知是凝聚在除污模块的相应除污容器的底部上。然而，通常难以尤其仅通过除污液体流再次从相应除污容器的底部机械地移除所述除污颗粒；且归因于除污处理液体中的二氧化锰颗粒的悬浮的高密度而尤其难以在相应待处理衬底的水平过程期间以连续方式移除所述颗粒。过去还一直尝试通过化学还原过程凭借使用适当的额外化学物质移除所述二氧化锰颗粒。但是，本专利技术的目的是寻找一种用于移除所述除污颗粒的新的且具专利技术性的机械解决方案。迄今为止机械地移除所述除污颗粒的尝试仅部分成功且受到起因于停止整个水平工艺线以允许除污容器的单独清理的不利需要的问题的困扰。此中断造成中断时间增加及效率损失，这再次造成此类水平工艺线的成本较高。为了缓解此问题，过去安装了复杂的自动清理程序以避免归因于维护问题而中断待处理衬底的水平过程。但是，此类解决方案因此通常增加此类水平工艺线的成本及复杂性。在文件DE3813518A1中，揭示一种用于机械地移除此类除污颗粒的装置。在本文中，一对喷嘴(即，布置在经钻出贯穿管道正上方的压力喷嘴及布置在相同经钻出贯穿管道正下方的吸力喷嘴)已用于将除污处理液体直接按压通过经钻出贯穿管道，其中包括相应经钻出贯穿管道的除污颗粒的正通过的除污处理液体直接进入吸力喷嘴。因此，除污颗粒可直接从除污模块中移除。但是，此解决方案仅被发现适用于厚的印刷电路板，这提供足够的固有严格性。现在待处理衬底归因于其厚度减小及柔性增加而更具挑战性，这妨碍此程序的应用。常见的水平工艺线中面临的另一问题是需要给大的除污容器提供高的除污容器体积以避免除污颗粒进入所需浸液泵的下部的进水区。因此，必须提供大的除污处理液体体积，这再次使过程变得昂贵。专利技术目的鉴于现有技术，本专利技术的目的因此是提供一种用于水平工艺线的除污模块，其并未展现出现有技术中已知的除污模块的前述缺点。进一步来说，本专利技术的目的是提供一种除污模块，其中除污颗粒进入所需浸液泵的下部的进水区的风险将被最小化或优选地完全避免。特定来说，本专利技术的目的是提供一种除污模块，其能够延长除污处理液体池的寿命，且同时可大幅减小除污处理液体循环的体积。此外，目的是提供一种用于安装在已经在顾客现场运行的水平工艺线中的除污模块。因此需要一种除污模块，其可容易集成在现有工艺线中，同时需要的空间小且设计不复杂。
技术实现思路
这些目的是通过具有技术方案1的所有特征的除污模块实现。本专利技术除污模块的适当修改在附属技术方案2到14中受保护。进一步来说，技术方案15包括一种用于从此除污模块中选择性分离及随后移除除污颗粒的方法。本专利技术因此提供一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块，其用于移除待处理衬底上的沉淀物，尤其是铜的金属沉积物，所述除污模块包括可连接到除污单元的除污容器、泵及用于将所述泵与所述除污单元连接的至少第一液体连接元件，其中所述泵是通过所述至少第一液体连接元件与所述除污单元结合；且其中处理液位被提供于所述除污模块内部，所述处理液位高于所述泵的进水区；其中所述除污模块进一步包括至少第一液体区域、包括所述泵的所述进水区的至少相邻第二液体区域，及被布置在所述至少第一液体区域与所述至少第二液体区域之间的至少第一分离元件。因此，可提供一种除污模块，其并未展现出已知现有技术除污模块的前述缺点。进一步来说，在专利技术除污模块中，最小化或优选地完全避免了除污颗粒进入所需浸液泵的下部的进水区的风险。由本专利技术的除污模块提供的除污颗粒的有效机械移除通过凭借随后处理的待处理衬底的表面上的所需浸液泵来避免除污颗粒连同除污处理液体一起循环而确保较高产品质量。这提供额外优点：归因于较小浸液泵的较低所需除污处理液体体积传递速率，而可选取所述泵。特定来说，本专利技术的除污模块能够延长除污处理液体池的寿命，且同时可大幅减小除污处理液体循环的体积。通常，用户需要循环的体积为除污处理液体池的体积的三倍到五倍，所述体积必须持续地存在于相应除污容器内部。本专利技术的除污模块仅需要除污处理液体池的大约10体积百分比到50体积百分比。因此，专利技术除污模块的经济收益是巨大的。此外，专利技术除污模块提供以下优点：经修正除污模块可容易被安装在已经在顾客所在处运行的水平工艺线中，同时需要的空间小且设计不复杂。附图说明为了更完整地理解本专利技术，参考结合附图中所考虑的本专利技术的以下详细叙述，其中：图1a及1b展现根据本专利技术的第一实施例的除污模块。图2a及2b展现根据本专利技术的第二实施例的除污模块。图3展现根据本专利技术的第三实施例的除污模块，所述第三实施例是基于本专利技术在图1a中展示的第一实施例。具体实施方式如本文中使用，术语“除污模块”在根据本专利技术应用时是指任何水平过程模块，其能够允许在其内部发生除污过程步骤，以从待处理衬底中的贯穿管道的钻孔中移除污垢。如本文中使用，术语“用于金属沉积的水平电化或湿式化学工艺线”在根据本专利技术应用时是指任何种类的水平过程，其中金属将在电化及/或湿式化学过程期间被沉积于待处理衬底上。如本文中使用，术语“除污单元”在根据本专利技术应用时是指常见水平工艺线的模块，其中除污处理液体将由注水装置元件施加，每一注水装置元件将除污处理液体的流动引导到待处理衬底的一或两个表面，从经钻出贯穿管道中移除待处理衬底的原材料的残留污垢。在清洗所述经钻出贯穿管道之后，除污处理液体及已移除除污颗粒的浆体将从所述除污单元中流出，以被收集于除污容器的第一液体区域中。此除污单元可被布置在除污容器内部或外部。如果除污单元位于除污容器内部，那么除污单元被布置在高于除污模块内部的处理液位的水平面处。浆体将接着直接流入除污模块的第一液体区域中。如果除污单元位于除污容器外部，那么必须包括第三液体连接元件以将浆体从除污单元引导到除污模块的除污容器。这必须以此方式执行使得浆体最终也将到达除污模块的第一液体区域。可优选地使用浸液泵，其中包括浸液泵的进水区的浸液泵的下部是以低于除污容器内部的处理液位的水平面直接布置在除污模块的第二液体区域中。浸液泵的上部将被布置在除污模块的除污容器外部。替代地可优选地使用离心泵，其被布置在除污模块的除污容器外部。因此，此外必须包括用于将除污模块的第二液体区域内部的进水区与离心泵连接的第四液体连接元件。所述第四液体连接元件在处理液体将随后由第一液体连接元件传递到除污单元之前会先将处理液体引导到本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块(1、1')，所述水平电化或湿式化学工艺线用于在待处理衬底上进行金属沉积、尤其是铜沉积，所述除污模块(1、1')用于移除沉淀物，所述除污模块(1、1')包括可连接到除污单元(3、3')的除污容器(2、2')、泵(4、4')及用于将所述泵(4、4')与所述除污单元(3、3')连接的至少第一液体连接元件(5、5')，其中所述泵(4、4')是通过所述至少第一液体连接元件(5、5')与所述除污单元(3、3')结合；且其中在所述除污模块(1、1')内部提供处理液位(6、6')，所述处理液位(6、6')高于所述泵(4、4')的进水区(7、7')，所述除污模块(1、1')的特征在于所述除污模块(1、1')进一步包括至少第一液体区域(9、9')、包括所述泵(4、4')的所述进水区(7、7')的至少相邻第二液体区域(10、10')，及被布置在所述至少第一液体区域(9、9')与所述至少第二液体区域(10、10')之间的至少第一分离元件(11、11')。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.29 EP 14190815.21.一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块(1、1')，所述水平电化或湿式化学工艺线用于在待处理衬底上进行金属沉积、尤其是铜沉积，所述除污模块(1、1')用于移除沉淀物，所述除污模块(1、1')包括可连接到除污单元(3、3')的除污容器(2、2')、泵(4、4')及用于将所述泵(4、4')与所述除污单元(3、3')连接的至少第一液体连接元件(5、5')，其中所述泵(4、4')是通过所述至少第一液体连接元件(5、5')与所述除污单元(3、3')结合；且其中在所述除污模块(1、1')内部提供处理液位(6、6')，所述处理液位(6、6')高于所述泵(4、4')的进水区(7、7')，所述除污模块(1、1')的特征在于所述除污模块(1、1')进一步包括至少第一液体区域(9、9')、包括所述泵(4、4')的所述进水区(7、7')的至少相邻第二液体区域(10、10')，及被布置在所述至少第一液体区域(9、9')与所述至少第二液体区域(10、10')之间的至少第一分离元件(11、11')。2.根据权利要求1所述的除污模块，其特征在于，所述第一分离元件(11)是经布置于所述除污模块(1)内部的所述处理液位(6)下方的不可渗透液体溢流堰，其包括溢流边缘(12)以允许处理液体从所述第一液体区域(9)流到所述第二液体区域(10)。3.根据权利要求2所述的除污模块，其特征在于，所述除污模块(1)进一步包括优选地与所述第一分离元件(11)相同的至少第二分离元件，其是以平行于所述第一分离元件(11)的方式布置。4.根据权利要求3所述的除污模块，其特征在于，所述除污模块(1)包括至少第一分离元件(11)及第二分离元件，其具有所述相应溢流边缘(12)的不同绝对高度，优选地具有从所述第一液体区域(9)到所述第二液体区域(10)增加的高度。5.根据权利要求1所述的除污模块，其特征在于，所述第一分离元件(11')是从所述除污容器(2')的底部向上到高于所述除污模块(1')内部的所述处理液位(6')的绝对高度的可渗透液体溢流堰。6.根据权利要求5所述的除污模块，其特征在于，所述除污模块(1')进一步包括优选地与所述第一分离元件(11')相同的至少第二分离元件，其是以平行于所述第一分离元件(11')的方式布置。7.根据权利要求5或6所述的除污模块，其特征在于，所述除污模块(1')包括至少第一分离元件(11')，及/或各自具有多个开口、小孔、贯穿管道及/或间隙(13)的至少第一分离元件(11')及第二分离元件。8.根据权利要求7所述的除污模块，其特征在于，所述多个开口、小孔、贯穿管道及/或间隙(13)在所述至少第一分离元件(11')及/或第二分离元件中具有非均匀分布。9.根据权利要求7或8中任一权利要求所述的除污模块，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：安德烈亚斯·斯库平，斯特凡·格鲁斯纳，
申请(专利权)人：德国艾托特克公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE