一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，包括固定座、机架、螺杆、活动螺杆座、密封圈、电机、密封端盖、活动座一、连接块一、连接板、导轨一、活动座二、连接块二、支撑架、隔离支架、导轨二和侧隔离网；本实用新型专利技术具有结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，对于一些高光，镜光货品的生产时，首先启动电机从而使螺杆旋转带动活动螺杆座左移，而活动螺杆座左移则通过活动座二和连接块二带动连接板和支撑架左移，而支撑架的左移则使隔离支架中的隔离网罩住靶体，从而减少产品表面上的金属离子，保障货品的光泽度，也就进一步的大大减少了光明产品的发朦，发雾现象，使此类产品品质得到了保障，满足客户的要求。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置
：本技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置。
技术介绍
：目前的设备多弧靶体不能满足客户一些高光，镜光货品的生产需求，由于原多弧靶体离子溅射量太大，弧蒸发过程非常剧烈，除了发射出电子、离子和少量中性原子外，还有微熔池内熔融态金属的喷发。喷射出来的液滴的直径能达到几十微米，这些液滴会以“大颗粒”的形式沉积在膜层中，减少膜层致密，并使薄膜表面粗糙化，这种表面粗糙化体现在PVD产品上的就是我们所说的发雾，白朦的现象。单单控制靶电流也无法满足客户对产品的生产要求，使产品产生发雾，白朦的现象，对品质造成影响。
技术实现思路
：本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，解决了
技术介绍
中提到的问题。为了解决上述问题，本技术提供了一种技术方案：一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，包括真空室壁和靶体，所述靶体设在真空室壁上面，其创新点在于：还包括固定座、机架、螺杆、活动螺杆座、密封圈、电机、密封端盖、活动座一、连接块一、连接板、导轨一、活动座二、连接块二、支撑架、隔离支架、导轨二和侧隔离网；所述机架位于靶体右侧，所述机架固定连接在真空本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，包括真空室壁(1)和靶体(2)，所述靶体(2)设在真空室壁(1)上面，其特征在于：还包括固定座(3)、机架(4)、螺杆(5)、活动螺杆座(6)、密封圈(7)、电机(8)、密封端盖(9)、活动座一(10)、连接块一(11)、连接板(12)、导轨一(13)、活动座二(14)、连接块二(15)、支撑架(16)、隔离支架(17)、导轨二(18)和侧隔离网(19)；所述机架(4)位于靶体(2)右侧，所述机架(4)固定连接在真空室壁(1)上面；所述固定座(3)固定连接在机架(4)左上侧；所述螺杆(5)活动连接在机架(4)左上侧内部，所述螺杆(5)右端与电机(8)左侧输出轴固定...

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，包括真空室壁(1)和靶体(2)，所述靶体(2)设在真空室壁(1)上面，其特征在于：还包括固定座(3)、机架(4)、螺杆(5)、活动螺杆座(6)、密封圈(7)、电机(8)、密封端盖(9)、活动座一(10)、连接块一(11)、连接板(12)、导轨一(13)、活动座二(14)、连接块二(15)、支撑架(16)、隔离支架(17)、导轨二(18)和侧隔离网(19)；所述机架(4)位于靶体(2)右侧，所述机架(4)固定连接在真空室壁(1)上面；所述固定座(3)固定连接在机架(4)左上侧；所述螺杆(5)活动连接在机架(4)左上侧内部，所述螺杆(5)右端与电机(8)左侧输出轴固定连接，所述螺杆(5)左端活动连接在固定座(3)右侧，所述螺杆(5)上面活动连接有活动螺杆座(6)；所述电机(8)固定连接在机架(4)右侧内部，所述电机(8)左侧输出轴外圆与所述机架(4)右侧孔之间设有密封圈(7)；所述密封端盖(9)固定连接在机架(4)右侧内部入口处；所述导轨一(13)设在机架(4)底部；所述活动座一(10)活动连接在导轨一(13)右侧，所述活动座一(10)底部固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：付杰平，
申请(专利权)人：东莞市亮鑫五金加工有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44