用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统技术方案
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统
本专利技术涉及一种用于对准真空中的光学元件(反射镜、光栅、晶体、透镜)或样品的调节系统，所述调节系统包括至少一个真空室、沿空间方向可调节的至少一个光学元件和/或沿空间方向可调节的一个样品，其中，设置处于未偏转状态(空闲状态)的平移致动器以用于在基本相互垂直的最多三个空间方向上调节沿空间方向可调节的至少一个光学元件和/或沿空间方向可调节的至少一个样品的对准。
技术介绍
将处于高达硬X射线辐射范围的太赫兹辐射范围中的电磁辐射理想地投射到目标或光学元件上所需的辐照的位置准确度(“精度”)具有非常高的重要性。因此，为了将辐射经由光学元件或甚至经由若干后续的光学元件引导至正确位置，不仅需要将光学元件或样品在旋转的三个自由度中可再现地移动弧秒的几分之一，而且还要在平移的三个自由度中可再现地移动几纳米。为了实现这样的精度，不仅需要所提供的设备免于外部振动(例如由附近经过的车辆产生的极小的地震振动)，或免于由变化的风载荷引起的建筑物的自然振动。而且，还需要设备(提供以用于精确对准)免于在操作期间由热负载产生的内部机械应力，所述内部机械应力...
【技术保护点】
一种用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统(3)，所述调节系统包括：至少一个真空室(3”)，沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)，和/或沿空间方向可调节的至少一个光学元件，和/或沿空间方向可调节的至少一个样品，其中，所述调节系统设置有处于未偏转状态(空闲状态)的平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)，用于在最多三个基本相互垂直的空间方向(X，Y，Z，y，y，z)上调节所述沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向可调节的至少一个光学元件或所述沿空间方向可调节的至少一个样品的对准，其特征在于，所述真空室(3”)中的所述沿空...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统(3)，所述调节系统包括：至少一个真空室(3”)，沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)，和/或沿空间方向可调节的至少一个光学元件，和/或沿空间方向可调节的至少一个样品，其中，所述调节系统设置有处于未偏转状态(空闲状态)的平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)，用于在最多三个基本相互垂直的空间方向(X，Y，Z，y，y，z)上调节所述沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向可调节的至少一个光学元件或所述沿空间方向可调节的至少一个样品的对准，其特征在于，所述真空室(3”)中的所述沿空间方向(X，Y，Z，y，y，z)可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向(X，Y，Z，y，y，z)可调节的至少一个光学元件和/或所述沿空间方向可调节的至少一个样品相对于所述真空室(3”)安装在固定位置，其中，所述真空室(3”)直接或间接地与用于对准所述反射镜和/或所述光学元件或所述样品的空间位置的平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)相连接。2.根据权利要求1所述的用于对准真空中的光学元件和样品的调节系统，其特征在于，所述平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)经由弯曲部(FG)与所述真空室(3”)相连接。3.根据权利要求2所述的用于对准真空中的光学元件和样品的调节系统，其特征在于，所述平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)具有联接杆(K1，K2，K3，K4，K5)，并且经由所述联接杆与所述真空室(3”)相连接，所述联接杆每个均具有两个万向弯曲部(FG)。4.根据权利要求1至3之一所述的用于对准真空中的光学元件和样品的调节系统，其特征在于，对于第一平移(X)对准和第一旋转(z)对准，设置第一对(X)平移致动器(X1，X2)，所述第一对平移致动器在未偏转状态(空闲状态)下基本相互平行，和对于第二平移(Z)对准和第二旋转(y)对准，设置第二对(X)其他平移致动器(Z1，Z2)，所述第二对其他平移致动器在未偏转状态(空闲状态)下基本相互平行，其中，在未偏转状态(空闲状态)下，所述第一对(X)平移致动器的空间方向朝向所述第二对(...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·戴维克斯，F·米勒，H·亨尼格，
申请(专利权)人：FMB精密技术有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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