添加剂官能化的亲有机物纳米级填料制造技术

本发明专利技术公开了一种可以通过纳米级填料与式Ⅰ化合物反应得到的产物（１）：ＡＤ－Ｌ－ＲＧ其中，ＡＤ是选自自由基捕获剂、氢过氧化物分解剂、ＵＶ吸收剂、光稳定剂、阻燃剂或光引发剂的一种添加剂，Ｌ是一个间隔基团，ＲＧ是一个反应活性基团，而且该纳米级填料可以具有未改性的或者亲有机物改性的特点。这些产物例如可作为稳定剂和／或增容剂用于有机材料，或作为光引发剂用于预聚的或预交联的制剂。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及组合物，该组合物含有一种易受氧化、热或光诱发的降解作用的有机材料，特别是合成聚合物，和至少一种可以通过纳米级填料与连接一个反应基团的添加剂反应得到的产物。本专利技术还涉及可以通过纳米级填料与连接一个反应基团的添加剂反应得到的新产物，这些产物在易于遭受氧化、热或光诱发的降解作用的纳米复合的有机材料、特别是在合成的纳米复合聚合物或涂料中作为非挥发性稳定剂或阻燃剂的应用，或是作为光引发剂在预聚的纳米复合材料或溶胶原位聚合形成纳米复合材料中的应用。本专利技术还涉及一种使易遭受氧化、热或光诱发的降解作用的纳米复合有机材料，特别是合成的纳米复合聚合物或涂料稳定或阻燃的方法，或是使预聚的聚合物纳米复合材料或溶胶在光引发下原位聚合形成纳米复合材料的方法。向有机材料，尤其是聚合物中加入填料是已知的，例如在R.Gchter/H.Müller编著的Plastics Additives Handbook，第3版，525-591页，Hanser Publishers，Munich 1990中有说明。在聚合物中使用填料的好处是有可能改善例如聚合物的机械性能，尤其是密度、硬度、刚性或冲击强度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种组合物，其中含有ａ）一种易遭受氧化、热或光诱发的降解作用的有机材料，ｂ）至少一种可以通过纳米级填料与式１化合物反应得到的产物ＡＤ－Ｌ－ＲＧ（１）其中ＡＤ是选自自由基捕获剂、氢过氧化物分解剂、Ｕ Ｖ吸收剂、光稳定剂、阻燃剂或光引发剂的一种添加剂，Ｌ是一个直接键；－Ｒ↓［１］－Ｏ或－Ｒ↓［２］－＊－Ｏ－，条件是，该氧原子是与ＡＤ相连；Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２５］亚烷基，被－Ｏ－，－Ｓ－，－ＳＯ－，－ＳＯ↓［２］－，＊＊＊、亚苯基或 Ｃ↓［５］－Ｃ↓［８］亚环烷基间断的Ｃ↓［２］－Ｃ↓［２５］亚烷基；...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：H卡门青德，H赫尔布斯特，W翁德利希，
申请(专利权)人：西巴特殊化学品控股有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]