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大物面X射线条纹变像管及电子光学成像系统技术方案

技术编号:15984920 阅读:70 留言:0更新日期:2017-08-12 06:16
本发明专利技术提供了一种大物面X射线条纹变像管,包括相互连接的绝缘外套和金属套筒,绝缘外套由绝缘材料制成,且绝缘外套和金属套筒内为真空环境,绝缘外套内顺次设置有阴极、栅极、聚焦极组件和阳极,阳极的尾部的外侧设置该金属套筒,金属套筒的端部设置有用于接收电子束并成像的荧光屏;聚焦极组件包括若干个聚焦极,栅极、若干个聚焦极和阳极拟合出类同心球静电透镜结构。本发明专利技术提供了一种屏蔽性好、抗干扰能力强、受场曲影响小、阴极工作面积大的大物面X射线条纹变像管。

【技术实现步骤摘要】
大物面X射线条纹变像管及电子光学成像系统
本专利技术涉及电子束成像领域,具体而言,涉及大物面X射线条纹变像管及电子光学成像系统。
技术介绍
X射线成像技术在医学、安全等领域具有重要地位,随着惯性约束聚变能量越来越大、系统越来越复杂,导致打靶实验的费用高昂。为提高诊断系统如条纹相机的实验效能,要求在每一次打靶时获取尽可能多的信息,亦即是要求其核心部件条纹管具有高的时空分辨率。实现这一目标主要有两种方法:一是在现有阴极工作面积的基础上提升变像管的时空分辨能力,二是采用大工作面积阴极。目前国内所使用的具有最大面积阴极的条纹管其阴极工作面积直径30mm。该管型采用六电极五透镜实现静电聚焦,中心空间分辨率为15lp/mm,边沿空间分辨率为10lp/mm,单次测量最多可提供约450线对的分辨信息量。但该大物面X射线条纹变像管具有以下缺陷:(1)现有大物面X射线条纹变像管的结构阴极工作直径较小;(2)结构特性使得其受场曲影响较大,影响系统的成像性能;(3)电极之间彼此间距较大,抗干扰性差。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足,本专利技术提供了大物面X射线条纹变像管及电子光学成像系统。具体地,其技术方本文档来自技高网...
大物面X射线条纹变像管及电子光学成像系统

【技术保护点】
一种大物面X射线条纹变像管,其特征在于,包括相互连接的绝缘外套和金属套筒,所述绝缘外套由绝缘材料制成,且所述绝缘外套和所述金属套筒内为真空环境,所述绝缘外套内顺次设置有阴极、栅极、聚焦极组件和阳极,所述阳极的尾部的外侧设置有所述金属套筒,所述金属套筒的端部设置有用于接收电子束并成像的荧光屏;所述聚焦极组件包括若干个聚焦极,所述栅极、若干个所述聚焦极和所述阳极均为筒状结构,所述栅极、若干个所述聚焦极和所述阳极之间以互不接触的形式相互插设且相邻部件之间的尺寸互不相等,用于拟合出类同心球静电透镜结构。

【技术特征摘要】
1.一种大物面X射线条纹变像管,其特征在于,包括相互连接的绝缘外套和金属套筒,所述绝缘外套由绝缘材料制成,且所述绝缘外套和所述金属套筒内为真空环境,所述绝缘外套内顺次设置有阴极、栅极、聚焦极组件和阳极,所述阳极的尾部的外侧设置有所述金属套筒,所述金属套筒的端部设置有用于接收电子束并成像的荧光屏;所述聚焦极组件包括若干个聚焦极,所述栅极、若干个所述聚焦极和所述阳极均为筒状结构,所述栅极、若干个所述聚焦极和所述阳极之间以互不接触的形式相互插设且相邻部件之间的尺寸互不相等,用于拟合出类同心球静电透镜结构。2.根据权利要求1所述的大物面X射线条纹变像管,其特征在于,所述阴极为平板结构,所述栅极的首端设置有第一金属栅网,所述阴极与所述第一金属栅网平行。3.根据权利要求2所述的大物面X射线条纹变像管,其特征在于,所述聚焦极组件包括第一聚焦极和第二聚焦极,所述第一聚焦极的首端与所述栅极的尾端相互插设,所述第一聚焦极的尾端与所述第二聚焦极的首端相互插设,所述第二聚焦极的尾部与所述阳极的首端相互插设,所述阳极与所述金属套筒电性连接。4.根据权利要求3所述的大物面X射线条纹变像管,其特征在于,所述第二聚焦极包括顺次连接的第一圆筒段、第一锥筒段和第二圆筒段,所述第一圆筒段的直径小于所述第二圆筒段的直径;所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨勤劳张敬金
申请(专利权)人:深圳大学
类型:发明
国别省市:广东,44

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