The invention discloses a control device for vacuum sewerage system and vacuum sewerage system, control device comprises a casing, the bottom is provided with first, second, third ports, equipped with guide in casing hole; a touch mechanism, is movably inserted in the casing; a valve mechanism slidably disposed within the housing, and touch and the mechanism is connected with the inner casing sleeve on the lower end of the valve body is provided with a first sealing switch port second, the air channel is provided with a valve mechanism, triggering mechanism for the natural state, the first closure member to open the first port, first, second port circuit formed by air, air channel and inner sleeve through hole blocking, first, third port partition, touch mechanism is pressed, the first closure member sealing the first port and the first, second port partition, air channel and inner sleeve conduction The aperture is conducted and the first, third port is conducted to form a vacuum circuit. The control device of the invention has the advantages of simple structure, easy assembly, long service life, and high vacuum utilization rate.
【技术实现步骤摘要】
用于真空排污系统的控制装置及真空排污系统
本专利技术涉及真空排污结构设计
,尤指用于真空排污系统的控制装置及真空排污系统。
技术介绍
在真空排污系统中,通常是通过一个控制装置控制冲洗水阀、排泄阀和真空装置的打开和闭合。具体来说,所谓真空排污系统运行的两大主导因素为真空和外界空气,而核心部分为该系统的控制装置,控制装置中真空与外界空气的交互效率是评断该控制器质量的重要标准之一,也就是整个真空排污系统运行效率的重要评判标准。现有的真空排污系统的控制装置的真空利用率较低,且结构复杂,装配繁琐,且局部零部件损坏会减小整个装置的使用期限,这增加了使用成本。因此,本申请人致力于提供一种新型的用于真空排污的控制装置及真空排污系统
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种用于真空排污系统的控制装置及真空排污系统,其结构简单,易装配,使用寿命长,且可以实现较高的真空利用率,快速便捷地控制冲洗水阀、排泄阀和真空装置的打开和闭合。为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种用于真空排污系统的控制装置,包括:壳体,所述壳体为一空心结构,其内部设有一腔室,且所述壳体的底部设有与所述腔室连通的第一端口,第二端口和第三端口,所述壳体的腔室内还设有一内套管,所述内套管设置在所述第三端口处且与所述第三端口连通,所述内套管上设有导通孔;触动机构,可移动地插设在所述壳体的顶部上,且伸入至所述壳体的腔室中;阀机构,与所述触动机构连接,可滑动地设置在所述壳体的腔室中,且套设在所述内套管上,所述阀机构靠近所述第二端口的端面上设有一用于封堵所述第二端口的第一封堵件,所述阀机构上设有一空气通道,所述空气通 ...
【技术保护点】
一种用于真空排污系统的控制装置,其特征在于,包括:壳体,所述壳体为一空心结构,其内部设有一腔室,且所述壳体的底部设有与所述腔室连通的第一端口,第二端口和第三端口,所述壳体的腔室内还设有一内套管,所述内套管设置在所述第三端口处且与所述第三端口连通,所述内套管上设有导通孔;触动机构,可移动地插设在所述壳体的顶部上,且伸入至所述壳体的腔室中;阀机构,与所述触动机构连接,可滑动地设置在所述壳体的腔室中,且套设在所述内套管上,所述阀机构靠近所述第二端口的端面上设有一用于封堵所述第二端口的第一封堵件,所述阀机构上设有一空气通道,所述空气通道的一端与所述第一端口连通;当所述触动机构处于自然状态时,所述第一端口和第二端口导通形成一空气回路,所述阀机构上的空气通道与所述内套管的导通孔阻断,所述第一端口和第三端口阻断;当所述触动机构处于被按压状态时,所述第一封堵件封堵所述第二端口,所述第一端口和第二端口阻断,所述阀机构上的空气通道与所述内套管的导通孔导通,所述第一端口和第三端口导通形成一真空回路。
【技术特征摘要】
1.一种用于真空排污系统的控制装置,其特征在于,包括:壳体,所述壳体为一空心结构,其内部设有一腔室,且所述壳体的底部设有与所述腔室连通的第一端口,第二端口和第三端口,所述壳体的腔室内还设有一内套管,所述内套管设置在所述第三端口处且与所述第三端口连通,所述内套管上设有导通孔;触动机构,可移动地插设在所述壳体的顶部上,且伸入至所述壳体的腔室中;阀机构,与所述触动机构连接,可滑动地设置在所述壳体的腔室中,且套设在所述内套管上,所述阀机构靠近所述第二端口的端面上设有一用于封堵所述第二端口的第一封堵件,所述阀机构上设有一空气通道,所述空气通道的一端与所述第一端口连通;当所述触动机构处于自然状态时,所述第一端口和第二端口导通形成一空气回路,所述阀机构上的空气通道与所述内套管的导通孔阻断,所述第一端口和第三端口阻断;当所述触动机构处于被按压状态时,所述第一封堵件封堵所述第二端口,所述第一端口和第二端口阻断,所述阀机构上的空气通道与所述内套管的导通孔导通,所述第一端口和第三端口导通形成一真空回路。2.如权利要求1所述的用于真空排污系统的控制装置,其特征在于:所述阀机构包括一滑动件,所述滑动件为一空心腔体结构,所述滑动件的内部包括第一腔体和第二腔体,且所述第一腔体的底部设有与所述第一端口导通的第一通孔,所述第一腔体的侧壁上设有与第二腔体的上部导通的第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔导通形成所述空气通道,所述第二腔体的下部套设在所述内套管上;所述滑动件的内部顶部设有一弹性件,所述弹性件的底部设有第二封堵件,所述第二封堵件位于所述第二腔体中,且所述第二封堵件的外侧壁与所述第二腔体的内侧壁贴合,所述第二封堵件可沿所述第二腔体的内壁滑动;当所述触动机构处于自然状态时,所述第二封堵件隔开所述第一腔体的第二通孔和所述内套管的导通孔,所述第一端口与所述第三端口阻断;当所述触动机构处于被按压状态时,所述第二封堵件卡在所述内套管的上端,所述第二通孔与所述导通孔导通,所述第一端口和第三端口导通形成所述真空回路。3.如权利要求2所述的用于真空排污系统的控制装置,其特征在于:所述第二腔体的上部的口径大于其下部的口径,所述第二腔体的上部和下部的连接处形成一台阶结构;当所述触动机构处于自然状态时,所述第二封堵件卡设在所述台阶结构处;和/或;所述滑动件包括第一本体和第一盖体,所述第一本体为一上部开口的腔体结构,所述第一盖体密封所...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹勇,
申请(专利权)人:上海威俊真空排水设备有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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