基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法，能够提高被转印体上形成的图案的坐标精度且适合于光掩模基板。保持显示装置制造用的光掩模基板水平的基板保持装置具有：由低膨胀材料构成的载台(11)和设在该载台(11)上的多个支撑件(12)。各支撑件(12)构成为：在前端具备具有凸曲面的接触部(14)，该接触部(14)与光掩模基板(1)的背面(3)实质性地点接触，由此保持光掩模基板(1)水平。

Substrate holding device, drawing device, photomask inspecting device and photomask manufacturing method

The present invention provides a substrate holding device, a display device, an optical mask inspection device, and a photomask manufacturing method, which can improve the coordinate accuracy of patterns formed on a transfer body and are suitable for photomask substrates. A substrate holding device for maintaining a photomask substrate for a display device has a support stage (11) consisting of a low expansion material and a plurality of support pieces (12) disposed on the table (11). Each support member (12) is configured to have a contact portion (14) having a convex curved surface at the front end, and the contact portion (14) contacts substantially with the backside (3) of the photomask substrate (1), thereby maintaining the level of the photomask substrate (1).

【技术实现步骤摘要】
基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法
本专利技术涉及用于制造电子器件的光掩模，具体涉及保持平板显示器(FPD)制造用的光掩模基板的基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、以及光掩模的制造方法。
技术介绍
作为现有技术，例如专利文献1记载了如下的光掩模的制造方法：估算描绘工序中的膜面侧的形状与对光掩模进行曝光时的膜面侧的形状的形状变化量，根据估算的形状变化量，校正规定的转印图案的设计描绘数据。此外，专利文献2记载了如下的基板保持装置：利用鼓风，能够减小基板的自重导致的失真、变形，而且能够适当地进行基板的安装、拆卸。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-134433号公报专利文献2：日本特开2005-101226号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在液晶显示装置、有机EL(电致发光)显示装置等所代表的平面型的显示装置(平板显示器)的制造中，大多使用具有基于欲得到的器件的设计的转印用图案的光掩模。作为器件，装配于智能手机或平板终端等的显示装置不仅要求明亮省电、动作速度快，还要求高分辨率、广视角等高画质。因此，对于上述用途中使用的光掩模具有的图案，存在要求高本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板保持装置，该基板保持装置水平地保持显示装置制造用的光掩模基板，所述基板保持装置的特征在于，其具有：载台，其由低膨胀材料构成；以及多个支撑件，它们设置在所述载台上，所述支撑件在前端具备具有凸曲面的接触部，所述接触部与所述光掩模基板的下表面侧主表面实质性地点接触或线接触，由此保持所述光掩模基板水平。

【技术特征摘要】
2016.01.18 JP 2016-0068451.一种基板保持装置，该基板保持装置水平地保持显示装置制造用的光掩模基板，所述基板保持装置的特征在于，其具有：载台，其由低膨胀材料构成；以及多个支撑件，它们设置在所述载台上，所述支撑件在前端具备具有凸曲面的接触部，所述接触部与所述光掩模基板的下表面侧主表面实质性地点接触或线接触，由此保持所述光掩模基板水平。2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，所述支撑件在前端具备具有球面的接触部，所述接触部与所述光掩模基板的下表面侧主表面实质性地点接触。3.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，所述基板保持装置还具有悬浮机构，所述悬浮机构用于将所述载台在非接触状态下水平地保持在基座上。4.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，所述多个支撑件以彼此的距离为150mm以下的方式排列在所述载台上。5.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，所述多个支撑件分别具有高度调整机构。6.根据权利要求5所述的基板保持装置，其特征在于，所述高度调整机构是利用气体的压力的机构。7.根据权利要求5所述的基板保持装置，其特征在于，所述高度调整机构是利用基于磁性的反作用力的机构。8.根据权利要求5所述的基板保持装置，其特征在于，所述高度调整机构具有与高度调整量相应地调整所述接触部的高度位置的驱动装置。9.一种描绘装置，其包括权利要求1或2所述的基板保持装置。10.一种光掩模检...

【专利技术属性】
技术研发人员：剑持大介，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP